研究者詳細

顔写真

シユアン イ
Shuang Yi
Shuang Yi
所属
大学院工学研究科 知能デバイス材料学専攻 ナノ材料物性学講座(極限材料物性学分野)
職名
助教
学位
  • 博士(工学)(東北大学)

  • 修士(工学)(東北大学)

e-Rad 研究者番号
10962144

経歴 5

  • 2024年10月 ~ 継続中
    東北大学 大学院工学研究科 知能デバイス材料学専攻 助教

  • 2024年10月 ~ 継続中
    東北大学 高等研究機構 新領域創成部

  • 2024年10月 ~ 継続中
    JST 創発研究者

  • 2021年10月 ~ 継続中
    東北大学 材料科学高等研究所 助教

  • 2019年4月 ~ 2021年9月
    独立行政法人日本学術振興会 特別研究員 (DC1)

学歴 2

  • 東北大学 大学院工学研究科 知能デバイス材料学専攻 博士課程

    2018年10月 ~ 2021年9月

  • 東北大学 大学院工学研究科 知能デバイス材料学専攻 修士課程

    2016年10月 ~ 2018年9月

所属学協会 2

  • 日本金属学会

  • 応用物理学会

研究キーワード 5

  • 窒化物薄膜

  • カルコゲナイド薄膜

  • セレクタ材料

  • 相変化メモリ

  • 不揮発性メモリ

研究分野 1

  • ナノテク・材料 / 無機材料、物性 /

受賞 10

  1. 第38回安藤博記念学術奨励賞

    2025年6月 一般財団法人安藤研究所

  2. 第35回トーキン財団奨励賞

    2025年3月 公益財団法人トーキン科学技術振興財団

  3. Best Poster Award

    2024年11月 The 8th Symposium for the Core Research Clusters for Materials Science and Spintronics Phase-change chromium nitride for next-generation nonvolatile memory

  4. 第64回原田研究奨励賞

    2024年5月 公益財団法人本多記念会

  5. 第29回青葉工学研究奨励賞

    2023年12月 一般財団法人青葉工学振興会

  6. 第52回応用物理学会講演奨励賞

    2022年5月 応用物理学会

  7. 藤野先生記念奨励賞

    2021年9月 東北大学

  8. 最優秀賞

    2024年11月 PCOS相変化研究会 Investigation of the Phase-change Behaviors of Cr-Te Thin Films

  9. 優秀賞

    2024年11月 PCOS相変化研究会 Feasibility Study of V-Te Thin Film as a Phase-Change Material

  10. 第43回優秀ポスター賞受賞者

    2024年9月 日本金属学会 Cr-Te薄膜の結晶多形変化挙動

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論文 35

  1. Phase Engineering of a 1D van der Waals Thin Film

    Yi Shuang, Ando Daisuke, Yuji Sutou

    Advanced Functional Materials 2025年3月20日

    DOI: 10.1002/adfm.202503094  

  2. Amorphous-to-crystalline transition-induced two-step thin film growth of quasi-one-dimensional penta-telluride ZrTe<inf>5</inf>

    Yi Shuang, Yuta Saito, Shogo Hatayama, Paul Fons, Ando Daisuke, Yuji Sutou

    Journal of Materials Science and Technology 210 246-253 2025年3月1日

    DOI: 10.1016/j.jmst.2024.05.039  

    ISSN:1005-0302

  3. Polymorphic Phase‐Change Properties and Memory Characteristics of VTe Thin Film

    Shuhei Orihara, Yi Shuang, Daisuke Ando, Yuji Sutou

    physica status solidi (RRL) – Rapid Research Letters 2025年2月21日

    DOI: 10.1002/pssr.202400430  

  4. Soret-Effect Induced Phase-Change in a Chromium Nitride Semiconductor Film

    Yi Shuang, Shunsuke Mori, Takuya Yamamoto, Shogo Hatayama, Yuta Saito, Paul J. Fons, Yun-Heub Song, Jin-Pyo Hong, Daisuke Ando, Yuji Sutou

    ACS Nano 2024年8月1日

    出版者・発行元:

    DOI: 10.1021/acsnano.4c03574  

    ISSN:1936-0851

    eISSN:1936-086X

  5. Direct observation of phase-change volume in contact resistance change memory using N-doped Cr2Ge2Te6 phase-change material

    Yi Shuang, Daisuke Ando, Yunheub Song, Yuji Sutou

    Applied Physics Letters 2024年2月5日

    DOI: 10.1063/5.0190632  

  6. NbTe<inf>4</inf> Phase-Change Material: Breaking the Phase-Change Temperature Balance in 2D Van der Waals Transition-Metal Binary Chalcogenide

    Yi Shuang, Qian Chen, Mihyeon Kim, Yinli Wang, Yuta Saito, Shogo Hatayama, Paul Fons, Daisuke Ando, Momoji Kubo, Yuji Sutou

    Advanced Materials 35 (39) 2023年9月27日

    DOI: 10.1002/adma.202303646  

    ISSN:0935-9648

    eISSN:1521-4095

  7. Effect of N dopants on the phase change characteristics of Cr<inf>2</inf>Ge<inf>2</inf>Te<inf>6</inf> film revealed by changes in optical properties

    Yi Shuang, Shogo Hatayama, Daisuke Ando, Yuji Sutou

    Applied Surface Science 601 2022年11月1日

    DOI: 10.1016/j.apsusc.2022.154189  

    ISSN:0169-4332

  8. Evolution of the local structure surrounding nitrogen atoms upon the amorphous to crystalline phase transition in nitrogen-doped Cr<inf>2</inf>Ge<inf>2</inf>Te<inf>6</inf> phase-change material

    Yi Shuang, Shogo Hatayama, Yuta Saito, Paul Fons, Alexander V. Kolobov, Daisuke Ando, Yuji Sutou

    Applied Surface Science 556 2021年8月1日

    DOI: 10.1016/j.apsusc.2021.149760  

    ISSN:0169-4332

  9. Nitrogen doping-induced local structure change in a Cr<inf>2</inf>Ge<inf>2</inf>Te<inf>6</inf>inverse resistance phase-change material

    Yi Shuang, Shogo Hatayama, Hiroshi Tanimura, Daisuke Ando, Tetsu Ichitsubo, Yuji Sutou

    Materials Advances 1 (7) 2426-2432 2020年

    DOI: 10.1039/d0ma00554a  

    eISSN:2633-5409

  10. Contact resistance change memory using N-doped Cr<inf>2</inf>Ge<inf>2</inf>Te<inf>6</inf> phase-change material showing non-bulk resistance change

    Shuang, Y., Sutou, Y., Hatayama, S., Shindo, S., Song, Y.H., Ando, D., Koike, J.

    Applied Physics Letters 112 (18) 2018年

    DOI: 10.1063/1.5029327  

    ISSN:0003-6951

  11. Room temperature ferromagnetism in polymorphic (Cr,Mn)Te films

    Mihyeon Kim, Ryoga Nakajima, Takashi Harumoto, Yi Shuang, Daisuke Ando, Nobuki Tezuka, Yuta Saito, Yuji Sutou

    APL Materials 2025年6月1日

    DOI: 10.1063/5.0266675  

  12. Melting‐Free Crystalline Polymorphic Transition in CrTe Thin Films: Potential for Phase‐Change Random Access Memory Applications

    Takuya Tsuruta, Yi Shuang, Daisuke Ando, Yuji Sutou

    physica status solidi (RRL) – Rapid Research Letters 2025年4月3日

    出版者・発行元: Wiley

    DOI: 10.1002/pssr.202500018  

    ISSN:1862-6254

    eISSN:1862-6270

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    The phase‐change potential of an as‐deposited chromium telluride (CrTe) thin film is investigated by focusing on its crystalline‐to‐crystalline polymorphic transition. Transmission electron microscopy determined that the as‐deposited CrTe thin film exhibits a hexagonal crystal structure that changes to a monoclinic crystal structure upon annealing at 500 °C. This alteration of the crystal structure is accompanied by a large change in carrier concentration of around two magnitudes and a very small corresponding change in resistivity. The memory switching of a fabricated phase‐change memory device utilizing a CrTe thin film active layer demonstrates a pronounced resistance disparity between SET and RESET states compared to the resistance change upon phase change in the thin‐film case. This disparity is attributed to variations in the contact resistivity of the memory device, which are driven by changes in the carrier concentration upon the crystalline polymorphic transition. Electrical pulse measurements confirm that the resistance change is reversible and repeatable, highlighting the material's potential for phase‐change random access memory applications.

  13. Unveiling the Significant Role of Schottky Interfaces for Threshold Voltage in Ovonic Threshold Switching

    Shogo Hatayama, Keisuke Hamano, Yi Shuang, Mihyeon Kim, Paul Fons, Yuta Saito

    ACS Applied Electronic Materials 2025年3月11日

    DOI: 10.1021/acsaelm.5c00292  

  14. Interfacial reaction behavior between ferromagnetic CoFeB and the topological insulator Sb<inf>2</inf>Te<inf>3</inf>

    Misako Morota, Shogo Hatayama, Yi Shuang, Shunsuke Mori, Yuji Sutou, Paul Fons, Yuta Saito

    Surfaces and Interfaces 51 2024年8月

    DOI: 10.1016/j.surfin.2024.104486  

    ISSN:2468-0230

  15. 相転移材料の最新動向とニューロモルフィックデバイスへの応用 招待有り 査読有り

    双 逸, 姜 信英, 須藤祐司

    電子情報通信学会誌 107 (4) 334-339 2024年4月

  16. Nonvolatile Isomorphic Valence Transition in SmTe Films

    Shogo Hatayama, Shunsuke Mori, Yuta Saito, Paul J. Fons, Yi Shuang, Yuji Sutou

    ACS Nano 18 (4) 2972-2981 2024年1月16日

    出版者・発行元: American Chemical Society (ACS)

    DOI: 10.1021/acsnano.3c07960  

    ISSN:1936-0851

    eISSN:1936-086X

  17. An amorphous Cr<inf>2</inf>Ge<inf>2</inf>Te<inf>6</inf>/polyimide double-layer foil with an extraordinarily outstanding strain sensing ability

    Yinli Wang, Yi Shuang, Mihyeon Kim, Daisuke Ando, Fumio Narita, Yuji Sutou

    Materials Horizons 2024年

    DOI: 10.1039/d4mh00616j  

    ISSN:2051-6347

    eISSN:2051-6355

  18. Conduction Mechanism in Amorphous NbTe&lt;sub&gt;4&lt;/sub&gt; Thin Film

    Yi Shuang, Daisuke Ando, Yuji Sutou

    MATERIALS TRANSACTIONS 2024年

    出版者・発行元:

    DOI: 10.2320/matertrans.mt-m2024062  

    ISSN:1345-9678

    eISSN:1347-5320

  19. Thermally-induced nanoscale phase change in chalcogenide glass Cr<inf>2</inf>Ge<inf>2</inf>Te<inf>6</inf> revealed by scanning tunneling microscopy

    D. I. Kim, Mizuki Kawaji, Hiroki Sato, Ryota Kawamura, Ryo Tamaki, Satoshi Kusaba, Yinli Wang, Yi Shuang, Yuji Sutou, Ikufumi Katayama, Jun Takeda

    Japanese Journal of Applied Physics 63 (1) 2024年1月1日

    DOI: 10.35848/1347-4065/ad13a7  

    ISSN:0021-4922

    eISSN:1347-4065

  20. Origins of midgap states in Te-based Ovonic threshold switch materials

    Shogo Hatayama, Yuta Saito, Paul Fons, Yi Shuang, Mihyeon Kim, Yuji Sutou

    Acta Materialia 258 2023年10月1日

    DOI: 10.1016/j.actamat.2023.119209  

    ISSN:1359-6454

  21. Soret-effect induced phase-change in chromium nitride semiconductor film

    Yi Shuang, Shunsuke Mori, Takuya Yamamoto, Shogo Hatayama, Yun-Heub Song, JinPyo Hong, Daisuke Ando, Yuji Sutou

    2023年2月1日

    出版者・発行元: Research Square Platform LLC

    DOI: 10.21203/rs.3.rs-2486043/v1  

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    Abstract Phase-change materials such as Ge-Sb-Te (GST) exhibiting amorphous and crystalline phases can be used for phase-change random access memories (PCRAM). GST-based PCRAM has been applied as a storage-class memory; however, its relatively low ON/OFF ratio and large Joule heat energy for the RESET process (amorphization) significantly limit the storage density. This study proposes a novel phase-change nitride, CrN, with a much wider programming window (ON/OFF ratio more than 105) and lower RESET energy (a 90 % reduction from GST). High-resolution transmission electron microscopy revealed a unique phase-change from low resistive cubic CrN into high resistive hexagonal CrN2 induced by the Soret-effect. The proposed phase-change nitride could greatly expand the scope of conventional phase-change chalcogenides and offer a new strategy for next-generation PCRAM, enabling a large ON/OFF ratio, low energy, and fast operation.

  22. An isomorphic valency transition in SmTe film enabling nonvolatile resistive change

    Shogo Hatayama, Shunsuke Mori, Yuta Saito, Paul Fons, Yi Shuang, Yuji Sutou

    2022年11月30日

    出版者・発行元: Research Square Platform LLC

    DOI: 10.21203/rs.3.rs-2318820/v1  

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    Abstract A NaCl-type SmTe film showed remarkable electrical contrast (&gt; 105) between as-deposited and annealed films in the absence of a transition in the crystal structure. A rigid-band shift induced by a valency transition between Sm2+ and Sm3+ was found to give rise to significant change in the electronic structure along with a concomitant resistivity change. Moreover, operation of a SmTe-based memory device was demonstrated by a standard measurement scheme with switching driven by electrical pulse-induced Joule heating. Since SmTe remains crystalline in both resistive states, resistance drift is suppressed offering improved readout reliability. Furthermore, the SmTe films were found to exhibit much better data retention, maintaining data for 10 years at 262 °C in contrast to conventional nonvolatile recording material such as Ge-Sb-Te (85-110 °C). The use of a valency transition reveals a new approach to the development of nonvolatile high performance resistive change materials.

  23. Phase control of sputter-grown large-area MoTe2 films by preferential sublimation of Te: amorphous, 1T′ and 2H phases

    Shogo Hatayama, Yuta Saito, Kotaro Makino, Noriyuki Uchida, Yi Shuang, Shunsuke Mori, Yuji Sutou, Milos Krbal, Paul Fons

    Journal of Materials Chemistry C 10 (29) 10627-10635 2022年

    出版者・発行元: Royal Society of Chemistry (RSC)

    DOI: 10.1039/d2tc01281b  

    ISSN:2050-7526

    eISSN:2050-7534

  24. Electrical Conduction Mechanism of β-MnTe Thin Film with Wurtzite-Type Structure Using Radiofrequency Magnetron Sputtering

    Mihyeon Kim, Shunsuke Mori, Yi Shuang, Shogo Hatayama, Daisuke Ando, Yuji Sutou

    Physica Status Solidi - Rapid Research Letters 16 (9) 2022年

    DOI: 10.1002/pssr.202100641  

    ISSN:1862-6254

    eISSN:1862-6270

  25. Dimensional transformation of chemical bonding during crystallization in a layered chalcogenide material

    Yuta Saito, Shogo Hatayama, Yi Shuang, Paul Fons, Alexander V. Kolobov, Yuji Sutou

    Scientific Reports 11 (1) 2021年12月

    DOI: 10.1038/s41598-020-80301-5  

    eISSN:2045-2322

  26. Amorphous-to-Crystal Transition in Quasi-Two-Dimensional MoS<inf>2</inf>: Implications for 2D Electronic Devices

    Milos Krbal, Vit Prokop, Alexey A. Kononov, Jhonatan Rodriguez Pereira, Jan Mistrik, Alexander V. Kolobov, Paul J. Fons, Yuta Saito, Shogo Hatayama, Yi Shuang, Yuji Sutou, Stepan A. Rozhkov, Jens R. Stellhorn, Shinjiro Hayakawa, Igor Pis, Federica Bondino

    ACS Applied Nano Materials 4 (9) 8834-8844 2021年9月24日

    DOI: 10.1021/acsanm.1c01504  

    eISSN:2574-0970

  27. Understanding the low resistivity of the amorphous phase of Cr2Ge2Te6 phase-change material: Experimental evidence for the key role of Cr clusters

    Shogo Hatayama, Keisuke Kobayashi, Yuta Saito, Paul Fons, Yi Shuang, Shunsuke Mori, Alexander V. Kolobov, Yuji Sutou

    Physical Review Materials 5 (8) 2021年8月

    DOI: 10.1103/PhysRevMaterials.5.085601  

    eISSN:2475-9953

  28. Temperature-Dependent Electronic Transport in Non-Bulk-Resistance-Variation Nitrogen-Doped Cr<inf>2</inf>Ge<inf>2</inf>Te<inf>6</inf> Phase-Change Material

    Yi Shuang, Shogo Hatayama, Daisuke Ando, Yuji Sutou

    Physica Status Solidi - Rapid Research Letters 15 (3) 2021年3月

    DOI: 10.1002/pssr.202000415  

    ISSN:1862-6254

    eISSN:1862-6270

  29. The importance of contacts in Cu<inf>2</inf>GeTe<inf>3</inf>phase change memory devices

    Satoshi Shindo, Yi Shuang, Shogo Hatayama, Yuta Saito, Paul Fons, Alexander V. Kolobov, Keisuke Kobayashi

    Journal of Applied Physics 128 (16) 2020年10月28日

    DOI: 10.1063/5.0019269  

    ISSN:0021-8979

    eISSN:1089-7550

  30. Reversible displacive transformation in MnTe polymorphic semiconductor

    Mori, S., Hatayama, S., Shuang, Y., Ando, D., Sutou, Y.

    Nature Communications 11 (1) 2020年

    DOI: 10.1038/s41467-019-13747-5  

    eISSN:2041-1723

  31. Systematic materials design for phase-change memory with small density changes for high-endurance non-volatile memory applications

    Saito, Y., Hatayama, S., Shuang, Y., Shindo, S., Fons, P., Kolobov, A.V., Kobayashi, K., Sutou, Y.

    Applied Physics Express 12 (5) 2019年

    DOI: 10.7567/1882-0786/ab1301  

    ISSN:1882-0778

    eISSN:1882-0786

  32. Cr-Triggered Local Structural Change in Cr<inf>2</inf>Ge<inf>2</inf>Te<inf>6</inf> Phase Change Material

    Hatayama, S., Shuang, Y., Fons, P., Saito, Y., Kolobov, A.V., Kobayashi, K., Shindo, S., Ando, D., Sutou, Y.

    ACS Applied Materials and Interfaces 11 (46) 43320-43329 2019年

    DOI: 10.1021/acsami.9b11535  

    ISSN:1944-8244

    eISSN:1944-8252

  33. Bidirectional Selector Utilizing Hybrid Diodes for PCRAM Applications

    Shuang, Y., Hatayama, S., An, J., Hong, J., Ando, D., Song, Y., Sutou, Y.

    Scientific Reports 9 (1) 2019年

    DOI: 10.1038/s41598-019-56768-2  

    eISSN:2045-2322

  34. MoS2/MnO2 heterostructured nanodevices for electrochemical energy storage

    YI SHUANG

    Nano Research 11 (4) 2083-2092 2018年4月

    DOI: 10.1007/s12274-017-1826-6  

    ISSN:1998-0124 1998-0000

    eISSN:1998-0000

  35. Water-Lubricated Intercalation in V2 O5 ·nH2 O for High-Capacity and High-Rate Aqueous Rechargeable Zinc Batteries

    YI SHUANG

    Advanced Materials 30 (1) 2018年1月

    DOI: 10.1002/adma.201703725  

    ISSN:0935-9648

    eISSN:1521-4095

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MISC 3

  1. 不揮発性メモリ用Cr2Ge2Te6相変化材料の局所構造の解明

    畑山祥吾, YI Shuang, FONS Paul, FONS Paul, 齊藤雄太, KOLOBOV Alexander V., KOLOBOV Alexander V., 小林啓介, 進藤怜史, 安藤大輔, 須藤祐司

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 67th 2020年

  2. 不揮発性相変化メモリ用遷移金属カルコゲナイド相変化材料の開発

    齊藤雄太, 畑山祥吾, YI Shuang, 進藤怜史, FONS Paul, KOLOBOV Alexander V., 小林啓介, 小林啓介, 小林啓介, 須藤祐司

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 66th 2019年

    ISSN: 2758-4704

  3. NドープCr_2Ge_2Te_6相変化メモリにおけるPN接合に基づく自己選択特性【JST・京大機械翻訳】

    双逸, 畑山祥吾, AN Jun-Seop, 安藤大輔, SONG Yun-Heub, 須藤祐司

    日本金属学会講演大会(Web) 165th 2019年

講演・口頭発表等 80

  1. Melting-free Nitride Phase- Change Memory: A Path Towards Low Energy Consumption 招待有り

    Yi Shuang

    The 83rd Device Research Conference, IEEE 2025年6月23日

  2. 1D van der Waals Thin Films: Phase Engineering and Application Potential in Phase Change Memory 招待有り

    Yi Shuang

    China-Europe Symposium on Memory Technologies and The Chua Memristor Institute Conference 2025年6月10日

  3. Amorphous-to-Crystalline Phase Transition Behavior a Quasi- One Dimensional Van Der Waals Material 招待有り

    双 逸

    TMS(The Minerals, Metals & Materials Society) 154th Annual Meeting 2025年3月24日

  4. Two-Step Thin Film Growth of Quasi-One-Dimensional Penta-Telluride ZrTe5 Realized by an Amorphous-to-Crystalline Transition

    Yi Shuang, Yuta Saito, Shogo Hatayama, Paul Fons, Ando Daisuke, Yuji Sutou

    2024 MRS Fall Meeting & Exhibit 2024年12月3日

  5. Innovative Phase Change Materials for PCRAM Application Targeting Low Thermal Power Consumption 招待有り

    Yi Shuang, Yuji Sutou

    PCOS2024 2024年11月29日

  6. Boosting Phase Change Memory Performance with Low-Melting 2D Transition Metal Tellurides 招待有り

    Yi Shuang, Yuji Sutou

    E/PCOS2024 2024年9月24日

  7. Enhancing Performance of Phase Change Memory Using Low-Melting 2D Transition Metal Tellurides

    双逸

    15th Recent Progress in Graphene and 2D Materials Research Conference 2024年7月17日

  8. A Novel 2D van der Waals Phase-Change Material Based on Transition-metal Binary Chalcogenide NbTe4 招待有り

    YI SHUANG

    TMS(The Minerals, Metals & Materials Society) 153rd Annual Meeting 2024年3月5日

  9. 新動作原理:接触抵抗変化メモリ 招待有り

    双 逸

    第83回応用物理学会秋季学術講演会 2022年9月21日

  10. VCrN薄膜の相変化挙動と電気特性

    張 惟喬, 双 逸, 安藤 大輔, 須藤 祐司

    2025年第72回応用物理学会春季学術講演会 2025年3月17日

  11. 価数揺動現象の制御による不揮発性抵抗スイッチの実現

    畑山 祥吾, 森 竣祐, 齊藤 雄太, フォンス ポール, 双 逸, 須藤 祐司

    2025年第72回応用物理学会春季学術講演会 2025年3月17日

  12. 溶融不要なCr-Te薄膜の不揮発性メモリ応用の調査

    鶴田 卓也, 双 逸, 安藤 大輔, 須藤 祐司

    2025年第72回応用物理学会春季学術講演会 2025年3月17日

  13. V-Te薄膜の相変化に伴う物性変化

    折原 周平, 双 逸, 安藤 大輔, 須藤 祐司

    2025年第72回応用物理学会春季学術講演会 2025年3月17日

  14. Cr-Mn-Te薄膜における磁気特性変化

    金 美賢, 中島 諒芽, 春本 高志, 双 逸, 安藤 大輔, 手束 展規, 齊藤 雄太, 須藤 祐司

    日本金属学会2025年春期(第176回)講演大会 2025年3月10日

  15. VTe2スパッタリング薄膜の結晶化に伴う物性変化

    折原 周平, 双 逸, 安藤 大輔, 須藤 祐司

    日本金属学会2025年春期(第176回)講演大会 2025年3月10日

  16. d- and f-Electron Type Chalcogenides Realizing Unique Resistive Change Behavior 招待有り

    Shogo Hatayama, Yuta Saito, Shunsuke Mori, Yi Shuang, Paul Fons, Yuji Sutou

    2024 MRS Fall Meeting & Exhibit 2024年12月3日

  17. Effect of annealing on magnetic properties of CrMnTe thin films

    R. Nakajima, M. Kim, T. Harumoto, Y. Shuang, Y. Saito, Y. Sutou, J. Sh

    PCOS2024 2024年11月29日

  18. Changes in magnetic property of Cr-incorporated MnTe film

    Mihyeon Kim, Ryoga Nakajima, Takashi Harumoto, Yi Shuang, Daisuke Ando, Nobuki Tezuka, Yuta Saito, Yuji Sutou

    PCOS2024 2024年11月28日

  19. Valence Transition Material: A New Class of Material for Nonvolatile Recording Applications

    Shogo Hatayama, Shunsuke Mori, Yuta Saito, Paul Fons, Yi Shuang, Yuji Sutou

    PCOS2024 2024年11月28日

  20. Investigation of V-doped CrN Thin Film as Phase-Change Material and Approach to Energy Saving

    Wei-Chiao Chang, Yi Shuang, Daisuke Ando, Yuji Sutou

    PCOS2024 2024年11月28日

  21. Feasibility Study of V-Te Thin Film as a Phase-Change Material

    Shuhei Orihara, Yi Shuang, Daisuke Ando, Yuji Sutou

    PCOS2024 2024年11月28日

  22. Investigation of the Phase-change Behaviors of Cr-Te Thin Films

    Takuya Tsuruta, Yi Shuang, Daisuke Ando, Yuji Sutou

    PCOS2024 2024年11月28日

  23. Phase-change chromium nitride for next-generation nonvolatile memory

    Yi Shuang

    The 8th Symposium for the Core Research Clusters for Materials Science and Spintronics 2024年11月19日

  24. The physical properties of MnTe2 films prepared by RF magnetron sputtering method

    LI, SHIH-YUAN, Serina Ozawa, Yi Shuang, Daisuke Ando, Yuji Sutou

    E/PCOS2024 2024年9月23日

  25. Local structural changes in Cr-Mn-Te polymorphic films

    Mihyeon Kim, Yi Shuang, Shogo Hatayama, Paul Fons, Daisuke Ando, Yuta Saito, Yuji Sutou

    E/PCOS2024 2024年9月23日

  26. V-Te薄膜の相変化挙動の調査

    折原周平, 双逸, 安藤大輔, 須藤祐司

    日本金属学会秋期第175回講演大会 2024年9月18日

  27. Cr-Te薄膜の結晶多形変化挙動

    鶴田卓也, 双逸, 安藤大輔, 須藤祐司

    日本金属学会秋期第175回講演大会 2024年9月18日

  28. アモルファス相CrTe 3 薄膜/ポリイミド基板の引張試験における抵抗変化挙動

    吉田 陸人, 王 吟麗, 双 逸, 安藤 大輔, 須藤 祐司

    日本金属学会秋期第175回講演大会 2024年9月18日

  29. バナジウム窒化物薄膜の電気特性とその相変化材料としての可能性

    張惟喬, 双逸, 安藤大輔, 須藤祐司

    日本金属学会秋期第175回講演大会 2024年9月18日

  30. The impact of Mn doping on the resistance and structure change behavior of RuTe 2

    LI, SHIH-YUAN, Yi Shuang, Daisuke Ando, Yuji Sutou

    日本金属学会秋期第175回講演大会 2024年9月18日

  31. Mo-N半導体薄膜の相変化挙動

    鳩岡 裕介, 双 逸, 安藤 大輔, 須藤 祐司

    応用物理学会秋季学術講演会第85回 2024年9月16日

  32. Cr添加によるMnTe薄膜の磁気特性変化

    金 美賢, 双 逸, 中島 諒芽, 春本 高志, 安藤 大輔, 齊藤 雄太, 須藤 祐司

    応用物理学会秋季学術講演会第85回 2024年9月16日

  33. α相のMnTe薄膜の光・熱物性評価

    桑原 正史, 金 美賢, 森 竣祐, 双 逸, 須藤 祐司, 河島 整, 津田 裕之

    応用物理学会秋季学術講演会第85回 2024年9月16日

  34. 低融点2Dファンデルワールス遷移金属カルコゲナイドNbTe4とその相変化メモリへの応用

    双 逸

    応用物理学会秋季学術講演会第85回 2024年9月16日

  35. Suppressed density-change of Cr-incorporated MnTe thin film for phase-change memory

    Mihyeon Kim, Yi Shuang, Daisuke Ando, Yuta Saito, Yuji Sutou

    SSDM2024 International Conference on Solid State Devices and Materials 2024年9月1日

  36. 2D van der Waals NbTe4 phase change material: enabling ultralow thermal consumption

    双逸

    CIMTEC2024 2024年6月22日

  37. スパッタ蒸着RuTe_2薄膜における相変化挙動【JST・京大機械翻訳】

    李世元, 双逸, 安藤大輔, 須藤祐司, 須藤祐司

    日本金属学会講演大会(Web) 2024年

  38. NbTe4: A Promising 2D van der Waals Transition-metal Binary Chalcogenides for phase change memory

    YI SHUANG

    PCOS相変化研究会シンポジウム 2023年11月17日

  39. Phase-change chromium nitride for data storage

    YI SHUANG

    E/PCOS2023 2023年9月18日

  40. 酸素ドーパントによるCrN薄膜のP-N変換

    YI SHUANG

    日本金属学会2023年春期(第172回)講演大会 2023年3月8日

  41. MnTe_2膜の電気抵抗変化挙動【JST・京大機械翻訳】

    LI Shih Yuan, YI Shuang, 安藤大輔, 須藤祐司, 須藤祐司

    日本金属学会講演大会(Web) 2023年

  42. 引張試験中のCr_2Ge_2Te_6結晶膜のピエゾ抵抗効果【JST・京大機械翻訳】

    王吟麗, 双逸, 中嶋真優, 安藤大輔, 成田史生, 須藤祐司, 須藤祐司

    日本金属学会講演大会(Web) 2023年

  43. Cr-Mn-Te多形変化薄膜の不揮発性相変化メモリへの応用可能性

    金美賢, 双逸, 安藤大輔, 須藤祐司, 須藤祐司

    日本金属学会講演大会(Web) 2023年

  44. SiドープGeTeの電気的性質研究【JST・京大機械翻訳】

    姜信英, 金美賢, 逸双, 逸双, 安藤大輔, 須藤祐司

    日本金属学会講演大会(Web) 2023年

  45. MnTe_2膜の組成相と電気的性質に及ぼすスパッタリング条件の効果【JST・京大機械翻訳】

    李世元, 双逸, 安藤大輔, 須藤祐司, 須藤祐司

    日本金属学会講演大会(Web) 2023年

  46. P-N conversion of CrN films by oxygen incorporation and their thermoelectric properties

    双逸

    2022 MRS Fall Meeting & Exhibit 2022年11月28日

  47. 接触抵抗変化メモリの開発

    双 逸

    日本金属学会2022年秋期(第171回)講演大会 2022年9月23日

  48. 高速レーザー光誘起窒素含有Cr2Ge2Te6薄膜の相変化挙動

    双逸

    第69回応用物理学会春季学術講演会 2022年3月23日

  49. 窒素含有Cr2Ge2Te6相変化材料の光学特性変化

    双逸

    2022年春期(第170回)講演大会講演 2022年3月16日

  50. MnTe多形の相安定性に及ぼすCr添加の影響

    金美賢, 双逸, 安藤大輔, 須藤祐司, 須藤祐司

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2022年

  51. Cr2Ge2Te6薄膜のピエゾレジスティブ特性

    王吟麗, 双逸, 中嶋真優, 安藤大輔, 成田史生, 須藤祐司, 須藤祐司

    日本金属学会講演大会(Web) 2022年

  52. Cr-Mn-Te薄膜の多形変化挙動

    金美賢, 双逸, 安藤大輔, 須藤祐司, 須藤祐司

    日本金属学会講演大会(Web) 2022年

  53. MnTe薄膜におけるレーザー加熱による多形変化の顕微ラマン観察

    金美賢, 森竣祐, 双逸, 安藤大輔, 須藤祐司, 須藤祐司

    日本金属学会講演大会(Web) 2022年

  54. ラマン分光法を用いたMnTe薄膜のレーザー加熱による多形変化

    金美賢, 森竣祐, 双逸, 安藤大輔, 須藤祐司, 須藤祐司

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2022年

  55. Nitrogen local geometry in Cr2Ge2Te6 phase change material upon phase transition

    双逸

    PCOS相変化研究会2021 2021年11月18日

  56. Temperature-dependent electrical transport mechanism in N doped Cr2Ge2Te6 films

    双逸

    E/PCOS2021 2021年9月14日

  57. ウルツ鉱型MnTe薄膜における電気伝導機構

    金美賢, 森竣祐, 双逸, 畑山祥吾, 安藤大輔, 須藤祐司

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2021年

  58. 層状カルコゲナイドにおける化学結合の次元変化を伴う結晶化

    齊藤雄太, 畑山祥吾, 畑山祥吾, YI Shuang, FONS Paul, FONS Paul, KOLOBOV Alexander V., KOLOBOV Alexander V., 須藤祐司

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2021年

  59. 遷移金属含有アモルファスカルコゲナイドの低抵抗化機構の解明

    畑山祥吾, 畑山祥吾, 小林啓介, 小林啓介, 齊藤雄太, FONS Paul, FONS Paul, YI Shuang, 森竣祐, KOLOBOV Alexander V., KOLOBOV Alexander V., 須藤祐司

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2021年

  60. 相変化メモリの高性能化:新材料創成からのアプローチ

    須藤祐司, 畑山祥吾, 森竣祐, YI Shunag

    半導体・集積回路技術シンポジウム(CD-ROM) 2021年

  61. 省エネ・高速化に向けた新相変化メモリ材料開発

    須藤祐司, 畑山祥吾, 森竣祐, SHUANG Yi

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2021年

  62. 多形MnTe薄膜における電気伝導機構

    金美賢, 森竣祐, 双逸, 畑山祥吾, 安藤大輔, 須藤祐司

    日本金属学会講演大会(Web) 2021年

  63. Conduction Mechanism in Nitrogen Doped Cr2Ge2Te6 Phase Change Material

    双逸

    PCOS2020 2020年11月19日

  64. 省エネルギー動作に向けた相変化メモリ材料の研究開発

    須藤 祐司, 畑山 祥吾, 双 逸, 森 竣祐

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 2020年8月26日

  65. 不揮発性メモリ用Cr2Ge2Te6相変化材料の局所構造の解明

    畑山祥吾, YI Shuang, FONS Paul, FONS Paul, 齊藤雄太, KOLOBOV Alexander V., KOLOBOV Alexander V., 小林啓介, 進藤怜史, 安藤大輔, 須藤祐司

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2020年

  66. 窒素添加したCr2Ge2Te6の相変化挙動および接触抵抗変化

    Yi Shuang

    日本材料科学会第26回材料科学若手研究者討論会 2019年12月6日

  67. Bidirectional and Self-selective Characteristics of PN Diode Based N-doped Cr2Ge2Te6 Phase Change Memory

    双逸

    第80回応用物理学会秋季学術講演会 2019年9月19日

  68. PN Junction Based Self-selective Property in N-doped Cr2Ge2Te6 Phase Change Memory

    双逸

    日本金属学会第165回秋期講演大会 2019年9月13日

  69. PN Diode Properties of N-type Oxide/p-type N-doped Cr2Ge2Te6 and Its Application for Self-selective PCRAM

    双逸

    E/PCOS2019 2019年9月10日

  70. Raman Scattering study of N Doped Cr2Ge2Te6 Phase Change Material

    Yi Shuang

    The Future of Materials Engineering - Dramatic Innovation to the next 100 years 2019年6月24日

  71. Raman Scattering study of Non-bulk Resistance Change N Doped Cr2Ge2Te6 Phase Change Material

    Yi Shuang

    2019 Joint Symposium on MSE for the 21st Century 2019年6月4日

  72. Contact resistance change memory with N-doped Cr2Ge2Te6 phase change material

    双逸

    第66回応用物理学会春季学術講演会 2019年3月9日

  73. Novel Phase Change Material and its application in PCRAM

    Yi Shuang

    3rd Japan-Taiwan International Engineering Forum (2019) 2019年2月28日

  74. 不揮発性相変化メモリ用遷移金属カルコゲナイド相変化材料の開発

    齊藤雄太, 畑山祥吾, YI Shuang, 進藤怜史, FONS Paul, KOLOBOV Alexander V., 小林啓介, 小林啓介, 小林啓介, 須藤祐司

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2019年

  75. Phase Change Behavior of Non-bulk Resistance Change N-doped Cr2Ge2Te6 Phase Change Material

    双逸

    E/PCOS2018 2018年9月24日

  76. Nitrogen-doped Cr-Ge-Te Films for Phase Change Random Access Memory

    双逸

    2018 Joint Symposium on MSE for the 21st Century 2018年6月25日

  77. Nitrogen-doped Cr-Ge-Te Films for Phase Change Random Access Memory

    双逸

    MRS 2018 2018年4月3日

  78. Electrical property of N-doped Cr-Ge-Te phase change material

    双逸

    2018 Russia-Japan Conference, Advanced Materials: Synthesis, Processing and Properties of Nanostructures 2018年3月22日

  79. 不揮発性メモリ用遷移金属相変化材料の電子構造の解明

    齊藤雄太, 須藤祐司, FONS Paul, KOLOBOV Alexander V., 進藤怜史, 進藤怜史, 畑山祥吾, YI Shuang, KOZINA Xeniya, SKELTON Jonathan M., 小林啓介

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2018年

  80. Phase Change Behavior of N-doped Cr-Ge-Te Film

    双逸

    E/PCOS2017 2017年9月4日

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産業財産権 2

  1. 不揮発性メモリ素子およびその製造方法

    須藤 祐司, イ シュアン, 畑山 祥吾

    産業財産権の種類: 特許権

    権利者: 国立大学法人東北大学

  2. 抵抗変化材料、スイッチ素子用材料、スイッチ層、スイッチ素子及び記憶装置

    須藤 祐司, イ シュアン, 松下 佳雅, 佐藤 史雄

    産業財産権の種類: 特許権

共同研究・競争的資金等の研究課題 6

  1. 準一次元vdW相変化材料とその電子デバイスへの展開 競争的資金

    双 逸

    提供機関:国立研究開発法人科学技術振興機構(JST)

    制度名:創発的研究支援事業

    2024年10月 ~ 2028年3月

  2. 酸素誘起Cr空孔制御によるpnホモ接合CrNフレキシブル熱電デバイスの創成 競争的資金

    双 逸, 須藤 祐司

    提供機関:日本学術振興会

    制度名:科学研究費助成事業基盤研究(B)

    研究種目:基盤研究(B)

    研究機関:東北大学

    2024年4月 ~ 2027年3月

  3. 超省エネルギー化を目指した次世代グリーン型窒化物相変化メモリの開発 競争的資金

    双 逸

    提供機関:国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)

    制度名:官民による若手研究者発掘支援事業(若サポ)

    2024年10月 ~ 2026年3月

  4. 次世代高集積省エネルギー相変化メモリに向けた準一次元vdW構造型相変化材料の開拓 競争的資金

    双 逸

    2024年6月 ~ 2026年3月

  5. 窒化物の高速相変化現象とそのメモリデバイスへの展開

    双 逸

    2022年8月 ~ 2024年3月

  6. 窒素ドープCr-Ge-Teの界面伝導制御と新規接触抵抗相変化メモリの創成

    双 逸

    2019年4月25日 ~ 2022年3月31日

    詳細を見る 詳細を閉じる

    本研究では、新規相変化材料:Cr2Ge2Te6 (CrGT)のアモルファス相の耐熱性を向上するため、CrGTの結晶化温度(Tx)に及ぼす窒素(N)ドープの影響について取り組んだ。NドープによるTxの上昇はGSTについてもその有効性が報告されており、期待通りNドープ型CrGT(NCrGT)は高いTxを実現する事が分かったが、室温でのアモルファス相と結晶相の間に膜(バルク)抵抗率ρの変化はほぼ存在しないことも分かった。しかし、NCrGT/金属電極間の接触抵抗率ρcを測定した結果、アモルファス相と結晶相には三桁の差が生じる事を見出した。このことは、例え、相変化に伴う抵抗率変化が無くても、相変化に伴って“電極界面伝導機構”に変化が生じればPCMとして利用できる事を示唆する。そこで本年度では、ラマン分光測定、硬X線光電子分光(HAXPES)法や広域X線吸収微細構造(EXAFS)法と第一原理計算を組み合わせて、NCrGTのバルク・界面伝導特性と相変化機構の解明を目指した。

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