研究者詳細

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フクシマ タカフミ
福島 誉史
Takafumi Fukushima
所属
大学院医工学研究科 医療機器創生医工学講座(ホリスティック集積工学分野)
職名
教授
学位
  • 博士(工学)(横浜国立大学)

  • 修士(工学)(横浜国立大学)

経歴 18

  • 2025年4月 ~ 継続中
    兼任 東北大学 大学院工学研究科 機械機能創成専攻 教授

  • 2025年4月 ~ 継続中
    東北大学 大学院医工学研究科 医工学専攻 教授

  • 2025年3月 ~ 継続中
    技術研究組合最先端半導体技術センター(LSTC) 3Dパッケージング技術開発部門 部門長

  • 2023年7月 ~ 継続中
    兼任 熊本大学 半導体・デジタル研究教育機構 半導体部門 クロスアポイントメント教授

  • 2023年4月 ~ 継続中
    兼任 東北大学未来科学技術共同研究センター ホリスティック三次元集積半導体開発とオープンイノベーション拠点の構築 プロジェクトリーダー

  • 2019年4月 ~ 継続中
    兼任 東北大学 大学院医工学研究科 医工学専攻 准教授

  • 2016年8月 ~ 継続中
    東北大学 大学院工学研究科 機械機能創成専攻 准教授

  • 2018年3月 ~ 2023年3月
    兼任 東北大学未来科学技術共同研究センター 情報環境(Info-Sphere)調和型 自己組織化ヘテロ集積システムの開発 プロジェクトリーダー

  • 2022年9月 ~ 2022年11月
    University of California, Los Angeles (UCLA), Visiting Faculty

  • 2016年3月 ~ 2017年7月
    University of California, Los Angeles (UCLA) Visiting Faculty

  • 2015年4月 ~ 2016年7月
    東北大学 大学院工学研究科 バイオロボティクス専攻 准教授

  • 2010年4月 ~ 2015年3月
    東北大学未来科学技術共同研究センター 准教授

  • 2010年11月 ~ 2010年12月
    Fraunhofer EMFT (Germany) Visiting Researcher

  • 2010年10月 ~ 2010年11月
    Fraunhofer IZM (Germany) Visiting Researcher

  • 2007年4月 ~ 2010年3月
    東北大学大学院工学研究科 助教

  • 2004年8月 ~ 2007年3月
    東北大学大学院工学研究科 助手

  • 2003年4月 ~ 2004年7月
    東北大学ベンチャービジネスラボラトリー 講師(中核的研究機関研究員)

  • 2001年4月 ~ 2003年3月
    株式会社ピーアイ技術研究所 技術顧問

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委員歴 26

  • エレクトロニクス実装学会誌 編集委員会 委員

    2023年6月 ~ 継続中

  • IEEE CPMT Symposium Japan Committee Member

    2022年12月 ~ 継続中

  • ADMETAPlus (Advanced Metallization Conference) Committee member

    2022年12月 ~ 継続中

  • 応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会 多層配線システム技術委員会 委員

    2022年4月 ~ 継続中

  • IEEE EPS (Electronics Packaging Society) Japan Committee Member

    2021年1月 ~ 継続中

  • 一般社団法人 電子実装工学研究所 IMSI (Institute for Advanced Micro-System Integration), 外部学界会員(2020年4月28日から現在) 外部学界会員

    2020年4月 ~ 継続中

  • IMPACT (International Microsystems, Packaging, Assembly and Circuits Technology Conference) International Advisory Board (IAB) Members

    2018年 ~ 継続中

  • The Annual International Conference on Manipulation, Automation and Robotics at Small Scales (MARSS) Program committee

    2016年4月 ~ 継続中

  • “Interconnections” Session in IEEE Electronic Components and Technology Conference (ECTC) Program Committee

    2013年7月 ~ 継続中

  • MDPIオープンアクセス誌Micromachines (IF: 2.523) Editorial Board Members

    2020年4月 ~ 2023年7月

  • 社団法人エレクトロニクス実装学会 常任理事

    2022年6月 ~ 2023年5月

  • 社団法人エレクトロニクス実装学会 エレクトロニクス実装学会誌 編集委員会 委員長

    2022年6月 ~ 2023年5月

  • 社団法人エレクトロニクス実装学会 エレクトロニクス実装学会誌 編集委員会 副委員長

    2021年6月 ~ 2022年5月

  • 社団法人エレクトロニクス実装学会 理事

    2021年6月 ~ 2022年5月

  • MDPIオープンアクセス誌Electronics (IF: 2.412) Special Issue "Microelectronics Packaging and Flexible Hybrid Electronics" Guest Editor

    2020年11月 ~ 2021年10月

  • 日本学術振興会 産学協力研究委員会 接合界面創成技術第191 委員会 委員

    2015年10月 ~ 2020年10月

  • 電子情報通信学会, エレクトロニクスソサエティ和文論文誌C 実装特集号 論文編集委員

    2011年 ~ 2020年

  • 2019 IEEE International 3D System Integration Conference Program Chair

    2018年2月 ~ 2019年10月

  • International IEEE Workshop on Low Temperature Bonding for 3D Integration Organizer

    2007年11月 ~ 2019年5月

  • 2017 MRS Fall Meeting Symposium PM4: Micro-Assembly Technologies -Fundamentals to Applications Lead organizer and Session Chair

    2016年4月 ~ 2017年12月

  • International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) Area 2: Interconnection Sub-Committee and Session Chair

    2009年10月 ~ 2017年10月

  • IEEE TRANSACTIONS ON NANOTECHNOLOGY Associate Editor

    2015年5月 ~ 2017年4月

  • 平成26年度戦略的基盤技術高度化支援事業(サポイン)「研究課題名: 低消費電力半導体の貫通電極ウエハボイドレス超高速めっき装置技術の開発」 アドバイザー

    2014年8月 ~ 2017年3月

  • 電子情報通信学会, ソサイエティ論文誌編集委員会 リエゾン幹事

    2012年6月 ~ 2014年6月

  • 第27回 エレクトロニクス実装学会講演大会 実行副委員長 兼 プロモート委員

    2012年7月 ~ 2013年3月

  • IEEE EPS Heterogeneous Integration Roadmap 2019 Edition, Chapter 22: Interconnects for 2D and 3D Architectures Key Contributor

    2019年 ~

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所属学協会 6

  • 生体医工学会

    2024年4月 ~ 継続中

  • 日本機械学会

  • IEEE (Institute of Electrical and Electronics Engineering)

  • 応用物理学会

  • エレクトロニクス実装学会

  • 高分子学会

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研究キーワード 7

  • フレキシブルデバイス

  • 自己組織化/誘導自己組織化

  • マイクロ・ナノ加工

  • 半導体パッケージング

  • 機能性高分子

  • 人工感覚デバイス

  • 三次元集積回路技術

研究分野 2

  • ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 電子デバイス、電子機器 /

  • ナノテク・材料 / 高分子材料 /

受賞 10

  1. In appreciation of sustained contribution of the ECTC (10 Years Contribution Award)

    2023年6月 IEEE Electronics Packaging Society (EPS)

  2. 田中貴金属 記念財団 貴金属に関わる研究助成 プラチナ賞 「ブロック高分子と金属ナノ粒子が創出する拡張誘導自己組織化配線に関する技術開発」

    2017年3月 田中貴金属記念財団

  3. 第25 回エレクトロニクス実装学術講演大会 研究奨励賞

    2012年3月 一般社団法人エレクトロニクス実装学会 狭ピッチ金属マイクロバンプを有するチップの自己組織化実装技術

  4. The 60th IEEE Electronic Components and Technology Conference (ECTC) Outstanding Session Paper Award

    2011年6月 IEEE CPMT (Components, Packaging and Manufacturing Technology) Society Self-Assembly Technology for Reconfigured Wafer-to-Wafer 3D Integration

  5. ドイツ・イノベーション・アワード 「ゴットフリード・ワグネル賞2009」the 2nd Prize

    2010年2月 ドイツ連邦教育研究省, フラウンホーファー研究機構, ドイツ学術交流会DAAD, ドイツ企業12社等の共催 Surface-Tension-Powered Chip Self-Assembly Technology for Three-Dimensional IC Fabrication

  6. Material Research Society (MRS) Fall Meeting Invited Speaker Award

    2008年12月 The committee of the Symposium E: Materials and Technologies for 3-D Integration Three-Dimensional Integration Technology Based on Self-Assembled Chip-to-Wafer Stacking

  7. 財団法人 青葉工学振興会 第13回研究奨励賞

    2008年2月5日 財団法人 青葉工学振興会 研究業績名「自己組織化による次世代集積回路形成プロセスの創製」

  8. 2006 International Conference on Electronics Packaging / Outstanding Technical Paper Award

    2007年4月18日 JIEP (Japan Institute of Electronics Packaging)

  9. 第83回日本化学会春季年会 学生講演賞

    2003年3月 日本化学会

  10. 第15回エレクトロニクス実装学術講演大会 研究奨励賞

    2002年3月 エレクトロニクス実装学会

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論文 482

  1. Fabrication and evaluation of Wrap Around Neural-Pass to record and stimulate neural activity in the cervical spinal cord

    Kazushi Tsuji, Atsuhiko Ninomiya, Naoki Iwanuma, Chenxi Qiu, Shutaro Oba, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Norihiro Katayama, Kuniyasu Niizuma, Hidenori Endo, Tetsu Tanaka

    Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers 63 (12) 2024年12月2日

    DOI: 10.35848/1347-4065/ad9a6f  

    ISSN:0021-4922

    eISSN:1347-4065

  2. Multi-Functional Self-Assembled Monolayer for Chip-to-Chip and Chip-to-Wafer Hybrid Bonding 査読有り

    Murugesan Mariappan, Kiyoharu Mori, Akifumi Kurachi, Toru Imori, Toshiya Kojima, Wakako Nakano, Hiroyuki Hashimoto, Takafumi Fukushima

    2024 IEEE 74th Electronic Components and Technology Conference (ECTC) 45-50 2024年5月28日

    出版者・発行元: IEEE

    DOI: 10.1109/ectc51529.2024.00016  

  3. Single-Grain Cu μ-Joint Formation Induced by Selective Under-Seed-Metallurgy for Hybrid Bonding 査読有り

    Murugesan Mariappan, Kiyoharu Mori, Masahiro Sawa, Jinta Nampo, Hiroyuki Hashimoto, Takafumi Fukushima

    2024 IEEE 74th Electronic Components and Technology Conference (ECTC) 325-330 2024年5月28日

    出版者・発行元: IEEE

    DOI: 10.1109/ectc51529.2024.00060  

  4. D2W Hybrid Bonding System Achieving High-Accuracy and High-Throughput With Minimal Configurations 査読有り

    Kentaro Mihara, Takashi Hare, Hirofumi Sakai, Shimpei Aoki, Toyoharu Terada, Mariappan Murugesan, Hiryuki Hashimoto, Hisashi Kino, Tetsu Tanaka, Takafumi Fukushima, Fumihiro Inoue, Akira Uedono

    2024 IEEE 74th Electronic Components and Technology Conference (ECTC) 60 420-426 2024年5月28日

    出版者・発行元: IEEE

    DOI: 10.1109/ectc51529.2024.00074  

  5. Bendability Enhancement and Miniaturization of Through-X Via (TXV) Based on Flexible FOWLP with Tiny Cu Pillar Assembly 査読有り

    Atsushi Shinoda, Chang Liu, Akihiro Tominaga, Hisashi Kino, Tetsu Tanaka, Takafumi Fukushima

    2024 IEEE 74th Electronic Components and Technology Conference (ECTC) 849-854 2024年5月28日

    出版者・発行元: IEEE

    DOI: 10.1109/ectc51529.2024.00136  

  6. Low-Temperature Polymer Hybrid Bonding with Nanoparticulated Cu and Photosensitive Acrylic Adhesive 査読有り

    Hirokatsu Sakamoto, Tadashi Teranishi, Rumi Nagai, Ryo Itaya, Hideaki Tamate, Takafumi Fukushima, Akihiko Happoya

    2024 IEEE 74th Electronic Components and Technology Conference (ECTC) 871-875 2024年5月28日

    出版者・発行元: IEEE

    DOI: 10.1109/ectc51529.2024.00140  

  7. Liquid Surface Tension-Driven Chip Self-Assembly Technology with Cu-Cu Hybrid Bonding for High-Precision and High-Throughput 3D Stacking of DRAM 査読有り

    Du Zehua, Hiroshi Kikuchi, Hayato Hishinuma, Mariappan Murugesan, Tetsu Tanaka, Takafumi Fukushima

    2024 IEEE 74th Electronic Components and Technology Conference (ECTC) 1 1335-1341 2024年5月28日

    出版者・発行元: IEEE

    DOI: 10.1109/ectc51529.2024.00217  

  8. An Advanced Remote-Plasma Assisted Ozone-Ethylene Radical (OER) Process for Cu-SiO2 Hybrid Bonding Yield Enhancement 査読有り

    Tatsunori Shino, Mariappan Murugesan, Kiyoharu Mori, Bungo Tanaka, Eitaro Toyama, Tetsuya Nishiguchi, Takafumi Fukushima

    2024 IEEE 74th Electronic Components and Technology Conference (ECTC) 2042-2046 2024年5月28日

    出版者・発行元: IEEE

    DOI: 10.1109/ectc51529.2024.00348  

  9. Simulation and Fabrication of Advanced 3D Corrugated Wires for in-Mold FHE Applications 査読有り

    H. Zhang, T. Tanaka, T. Fukushima

    2024 Japan-Taiwan Workshop on Electronic Interconnection IV poster presentation 2024年4月

  10. Heterogeneous 3D Integration Technology with TSV-Die and Micro-LEDs for Smart Skin Display 査読有り

    J. Shen, C. Liu, T. Tanaka, T. Fukushima

    2024 Japan-Taiwan Workshop on Electronic Interconnection IV poster presentation 2024年4月

  11. Chip-to-Wafer Mini-LED Bonding and Integration for FOWLP-Based Photobiomodulation Sheet Devices Using a Hydrogel Substrate 査読有り

    X. Guo, T. Tanaka, T. Fukushima

    2024 Japan-Taiwan Workshop on Electronic Interconnection IV poster presentation 2024年4月

  12. Bendability enhancement of 3D interconnections with out-of-plane corrugation for flexible hybrid electronics 査読有り

    Chang Liu, Tadaaki Hoshi, Jiayi Shen, Atsushi Shinoda, Hisashi Kino, Tetsu Tanaka, Takafumi Fukushima

    Japanese Journal of Applied Physics 63 (4) 04SP74-04SP74 2024年4月1日

    出版者・発行元: IOP Publishing

    DOI: 10.35848/1347-4065/ad375f  

    ISSN:0021-4922

    eISSN:1347-4065

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    Abstract This study focuses on enhancing the bendability of flexible interconnects with out-of-plane corrugation for flexible hybrid electronics. We propose two typical configurations of 3D corrugated interconnects: serpentine and trapezoidal. Three methods are introduced to fabricate these corrugated interconnects. The advantages and drawbacks of each fabrication strategy are discussed, and the impact of the 3D corrugation geometry and material on bendability is elucidated. In addition, the material properties of two types of negative photosensitive materials, SU-8 and F-PD (flexible-photoimageable dielectric), are compared. Results show that the resistance increase of 3D corrugated interconnects after a 5 mm radius bending test is drastically lower (by approximately 1900%–2000%) than that of conventional 2D planar interconnects.

  13. FOWLP-based Flexible Hybrid Electronics I: Photobiomodulation Device Fabrication on Hydrogel Substrate Using RDL-first Approach 査読有り

    Tadaaki Hoshi, Nishiguchi Daichi, Hisashi Kino, Tetsu Tanaka, Takafumi Fukushima

    2023 IEEE CPMT Symposium Japan (ICSJ) 45-48 2023年11月15日

    出版者・発行元: IEEE

    DOI: 10.1109/icsj59341.2023.10339614  

  14. FOWLP-Based Flexible Hybrid Electronics II: Heterogeneous Integration Technology of Micro-LEDs on 3D-IC for Smart Skin Display 査読有り

    Jiayi Shen, Chang Liu, Hisashi Kino, Tetsu Tanaka, Takafumi Fukushima

    2023 IEEE CPMT Symposium Japan (ICSJ) 49-52 2023年11月15日

    出版者・発行元: IEEE

    DOI: 10.1109/icsj59341.2023.10339585  

  15. Development of Trans-nail PPG Controller Using Fingertip Blood Volume Changes to Enable Highly Accurate Motion Prediction 査読有り

    Kohei Nakamura, Bang Du, Keishun Sugishita, Ryo Hasegawa, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Koji Kiyoyama, Tetsu Tanaka

    2023 IEEE Biomedical Circuits and Systems Conference (BioCAS) 1-4 2023年10月19日

    出版者・発行元: IEEE

    DOI: 10.1109/biocas58349.2023.10389082  

  16. Cu-SiO2 Surface Activation by Ozone-Ethylene-Radical Process for Chip-to-Chip and Chip-to-Wafer Hybrid Bonding 査読有り

    Murugesan Mariappan, Tetsuya Nishiguchi, Kiyoharu Mori, Tatsunori Shino, Hiroyuki Hashimoto, Takafumi Fukushima

    ADMETA Plus 2023 2023年10月

  17. High-Bendable 3D Corrugated Interconnections for Chiplet-Embedded Flexible Hybrid Electronics Using Wafer-Level Packaging 査読有り

    Chang Liu, Tadaaki Hoshi, Jiayi Shen, Atsushi Shinoda, Zehua Du, Hisashi Kino, Tetsu Tanaka, Takafumi Fukushima

    Extended Abstracts of the 2023 International Conference on Solid State Devices and Materials 2023年9月8日

    出版者・発行元: The Japan Society of Applied Physics

    DOI: 10.7567/ssdm.2023.g-5-02  

  18. An Electronic Microsaccade Circuit with Charge-Balanced Stimulation and Flicker Vision Prevention for an Artificial Eyeball System 査読有り

    Yaogan Liang, Kohei Nakamura, Bang Du, Shengwei Wang, Bunta Inoue, Yuta Aruga, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Koji Kiyoyama, ndTetsu Tanaka

    Electronics (MDPI) 12 (2836) 1-17 2023年6月

  19. Impact of Super-long-throw PVD on TSV Metallization and Die-to-Wafer 3D Integration Based on Via-last 査読有り

    Jiayi Shen, Chang Liu, Tadaaki Hoshi, Atsushi Sinoda, Hisashi Kino, Tetsu Tanaka, Murugesan Mariappan, Mitsumasa Koyanagi, Takafumi Fukushima

    2023 IEEE International 3D Systems Integration Conference (3DIC) 499 1-4 2023年5月10日

    出版者・発行元: IEEE

    DOI: 10.1109/3dic57175.2023.10154930  

  20. Cu Electrode Surface Features and Cu-SiO2 Hybrid Bonding 査読有り

    M. Murugesan, M. Sawa, M. Koyanagi, T. Fukushima

    IEEE 3D System Integration Conference 2023年5月

  21. Advanced Packaging Methods Used for Energy Storage from Intermittent Renewable Sources 査読有り

    Takafumi Fukushima, Tianyu Xiang, Harshit Ranjan, Niharika Tripathi, Chang Liu, Guangqi Ouyang, Randall Irwin, Subramanian S. Iyer

    2023 IEEE 73rd Electronic Components and Technology Conference (ECTC) 444-449 2023年5月

    出版者・発行元: IEEE

    DOI: 10.1109/ectc51909.2023.00080  

  22. Chip-to-Chip Hybrid Bonding with Larger-Oriented Cu Grains for µ-joints Beyond 100 K 査読有り

    M. Murugesan, M. Sawa, E. Sone, T. Miyazaki, M. Koyanagi, T. Fukushima

    2023 IEEE 73rd Electronic Components and Technology Conference (ECTC) 69 1713-1718 2023年5月

    出版者・発行元: IEEE

    DOI: 10.1109/ectc51909.2023.00292  

  23. A Novel Die-to-Die Bridge Architecture Employing High-Performance Bridge with Polymer RDL and Fine Vias 査読有り

    Yasuhiro Morikawa, Meiten Koh, Hiroyuki Hashimoto, Chuantong Chen, Wangyun Li, Ichiro Kono, Shinji Wakisaka, Ken Ukawa, Takafumi Fukushima, Katsuaki Suganuma, Yoichiro Kurita

    73rd Electronic Components and Technology Conference (ECTC 2023) 34-39 2023年5月

  24. Assembly-based Through-X Via (TXV) Integration Technology by Advanced Fan-Out Wafer-Level Packaging 査読有り

    Atsushi Shinoda, Yuki Susumago, Chang Liu, Jiayi Shen, Tadaaki Hoshi, Hisashi Kino, Tetsu Tanaka, Takafumi Fukushima

    2023 IEEE 73rd Electronic Components and Technology Conference (ECTC) 25 596-600 2023年5月

    出版者・発行元: IEEE

    DOI: 10.1109/ectc51909.2023.00105  

  25. Physical Properties of Large Cu Grain and Application to Cu-SiO2 Hybrid Bonding 査読有り

    R. Kobayashi, E. Sone, M. Sawa, M. Murugesan, T. Fukushima

    2023 International Conference on Electronics Packaging (ICEP) 43-44 2023年4月19日

    出版者・発行元: IEEE

    DOI: 10.23919/icep58572.2023.10129755  

  26. Overview and Progress of the Chiplet Integration Platform Consortium 査読有り

    Meiten Koh, Yoichiro Kurita, Yasuhiro Morikawa, Ichiro Kono, Takafumi Fukushima, Katsuaki Suganuma

    International Conference on Electronics Packaging (ICEP) FA3 (2) 2023年4月

  27. チップレットの概念と 3D-IC のラピッドプロトタイピング 招待有り 査読有り

    福島誉史

    エレクトロニクス実装学会誌(特集/3D・チップレット集積化技術動向) 26 (4) 333-340 2023年4月

    DOI: 10.5104/jiep.26.333  

  28. Gapless Chip-in-Carrier Integration and Injectable Ag/AgCl-Epoxy Reference Electrode for Bilayer Lipid Membrane Sensor 招待有り 査読有り

    Hiromichi Wakebe, Yuki Susumago, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    IEEJ TRANSACTIONS ON ELECTRICAL AND ELECTRONIC ENGINEERING 18 (3) 477-487 2023年3月

    DOI: 10.1002/tee.23744  

  29. 3D-IC/TSVの最新動向と自己組織化による三次元実装/ヘテロ集積 招待有り

    福島誉史

    化学工学会誌(小特集 / 次世代半導体の展望~原理と生産技術~ 87 (1) 33-36 2023年

  30. Room-Temperature Direct Cu Semi-Additive Plating (SAP) Bonding for Chip-on-Wafer 3D Heterogenous Integration with μLED 査読有り

    Yuki Susumago, Takafumi Fukushima

    IEEE Electron Device Letters 2023年1月

  31. 3D-stacked retinal prosthesis chip with binary image capture and edge detection functions for human visual restoration 査読有り

    Yaogan Liang, Bang Du, Kohei Nakamura, Shengwei Wang, Bunta Inoue, Yuta Aruga, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Koji Kiyoyama, Tetsu Tanaka

    IEICE Electronics Express 19 (23) 20220363-20220363 2022年12月10日

    出版者・発行元: Institute of Electronics, Information and Communications Engineers (IEICE)

    DOI: 10.1587/elex.19.20220363  

    eISSN:1349-2543

  32. Implementation of Light and Dark Adaptation Function for High QOL 3D-Stacked Artificial Retina Chip 査読有り

    Kohei Nakamura, Yaogan Liang, Bang Du, Shengwei Wang, Yuta Aruga, Bunta Inoue, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Koji Kiyoyama, Tetsu Tanaka

    2022 IEEE Biomedical Circuits and Systems Conference (BioCAS) 519-523 2022年10月13日

    出版者・発行元: IEEE

    DOI: 10.1109/biocas54905.2022.9948542  

  33. 脂質二分子膜センサのための埋植チップ上SU;マイクロチャネル直接形成法の開発 招待有り 査読有り

    分部寛道, 福島誉史, 田中徹

    電気学会論文誌;センサ;マイクロマシン部門誌 141 (10) 327-335 2022年10月

  34. Fabrication and Characterization of Through-X Via (TXV) for Smart Skin Display

    Tadaaki Hoshi, Yuki Susumago, Liu Chang, Atsushi Shinoda, Hisashi Kino, Tetsu Tanaka, Takafumi Fukushima

    Extended Abstracts of the 2022 International Conference on Solid State Devices and Materials 2022年9月29日

    出版者・発行元: The Japan Society of Applied Physics

    DOI: 10.7567/ssdm.2022.e-7-02  

  35. Development of Small-Area Pixel Circuit with Light-to-Pulse Width Converter for the High-Resolution Smart Skin Display 査読有り

    Yuta - Aruga, Bang - Du, Yaogan - Liang, Kouhei - Nakamura, Shengwei - Wang, Bunta - Inoue, Hisashi - Kino, Takafumi - Fukushima, Koji - Kiyoyama, Tetsu - Tanaka

    Extended Abstracts of the 2022 International Conference on Solid State Devices and Materials 2022年9月28日

    出版者・発行元: The Japan Society of Applied Physics

    DOI: 10.7567/ssdm.2022.d-6-02  

  36. Failure Analyses and Yield Enhancement of Electroplated Cu Direct Bonding for Heterogeneous 3D and Micro-LED Integration 査読有り

    Yuki Susumago, Tadaaki Hoshi, Chang Liu, Atushi Shinoda, Hisashi Kino, Tetsu Tanaka, Takafumi Fukushima

    Extended Abstracts of the 2022 International Conference on Solid State Devices and Materials 2022年9月28日

    出版者・発行元: The Japan Society of Applied Physics

    DOI: 10.7567/ssdm.2022.k-4-02  

  37. Design and Evaluation of Light and Dark Adaptation Functions for High QoL Artificial Vision Chip 査読有り

    Kohei Nakamura, Yaogan Liang, Bang Du, Shengwei Wang, Yuta Aruga, Bunta Inoue, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Koji Kiyoyama, Tetsu Tanaka

    Extended Abstracts of the 2022 International Conference on Solid State Devices and Materials 2022年9月27日

    出版者・発行元: The Japan Society of Applied Physics

    DOI: 10.7567/ssdm.2022.d-1-03  

  38. Fabrication of UCNP (Upconversion Nanoparticle) Disk Device for Non-Invasive Optical Stimulation Therapy of Organ Diseases 査読有り

    Shimon - Suzuki, Hisashi - Kino, Takafumi - Fukushima, Tetsu - Tanaka

    Extended Abstracts of the 2022 International Conference on Solid State Devices and Materials 2022年9月27日

    出版者・発行元: The Japan Society of Applied Physics

    DOI: 10.7567/ssdm.2022.d-2-03  

  39. Simulation and Experimental Study of Stretchable 3D Corrugated Interconnections for Chiplet-Embedded Flexible Hybrid Electronics Using Wafer-Level Packaging 査読有り

    CHANG LIU, Yuki Susumago, Tadaaki Hoshi, Hisashi Kino, Tetsu Tanaka, Takafumi Fukushima

    Extended Abstracts of the 2022 International Conference on Solid State Devices and Materials 2022年9月27日

    出版者・発行元: The Japan Society of Applied Physics

    DOI: 10.7567/ssdm.2022.k-1-01  

  40. Fabrication of the 3D-stacked retinal prosthesis chip to realize high-performance retinal prosthesis 査読有り

    Aoba Onishi, Ryotaro Bamba, Bungo Tanaka, Ryouhei Kishimoto, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    Extended Abstracts of the 2022 International Conference on Solid State Devices and Materials 2022年9月27日

    出版者・発行元: The Japan Society of Applied Physics

    DOI: 10.7567/ssdm.2022.k-1-03  

  41. TSV形成の基礎と三次元実装の動向 招待有り 査読有り

    福島誉史

    エレクトロニクス実装学会誌(講座「三次元実装基礎講座」第1回) 25 (7) 700-708 2022年9月

    DOI: 10.5104/jiep.25.700  

  42. Electrochemical characterization of ZnO-based transparent materials as recording electrodes for neural probes in optogenetics 査読有り

    Yuki Miwa, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    Journal of Vacuum Science & Technology B 40 (5) 052202-052202 2022年9月

    出版者・発行元: American Vacuum Society

    DOI: 10.1116/6.0001836  

    ISSN:2166-2746

    eISSN:2166-2754

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    In the elucidation of brain functions, neuroscience has garnered attention in the realization of brain-machine interfaces, deep brain stimulation, and artificial intelligence. Optogenetics is a biological technique used to control neural activities via optical stimulation. It is one of the most effective approaches used to investigate brain functions. This study proposed to employ the transparent recording electrode to enhance the performance of neural probes for optogenetics. Compared with conventional metal recording electrodes, the proposed transparent recording electrodes have the potential to obtain higher signal-to-noise ratios when placed over optical stimulation points. To develop transparent recording electrodes, we used ZnO-based materials with good biocompatibility and transparency for utilization as biomedical electrodes. Considering saline as one of the main components of living organisms, we investigated the fundamental electrochemical characteristics of ZnO-based electrodes in saline through electrochemical impedance spectroscopy and cyclic voltammetry. The results showed that nondoped ZnO and Al-doped ZnO, deposited by radio frequency magnetron sputtering, exhibited a broad potential window. An electrical double layer was found to strongly act on the interface between the electrodes and solution rather than a redox reaction. In addition, this study reports the effects of crystallization and dopant on the electrochemical characteristics of the ZnO-based electrodes. The transparent ZnO-based electrode developed herein is a promising candidate to enhance the performance of neural probes for optogenetics and can be effectively applied in biological devices.

  43. Developing a Low-Temperature Flip-Chip Bonding Technology with In/Au Microbumps to Suppress the Thermal Load on Spintronics Devices 査読有り

    Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    2022 IEEE International Interconnect Technology Conference (IITC) 82-84 2022年6月27日

    出版者・発行元: IEEE

    DOI: 10.1109/iitc52079.2022.9881288  

  44. Room-Temperature Cu Direct Bonding Technology Enabling 3D Integration with Micro-LEDs 査読有り

    Yuki Susumago, Shunsuke Arayama, Tadaaki Hoshi, Hisashi Kino, Tetsu Tanaka, Takafumi Fukushima

    2022 IEEE 72nd Electronic Components and Technology Conference (ECTC) 49 1403-1408 2022年5月

    出版者・発行元: IEEE

    DOI: 10.1109/ectc51906.2022.00225  

  45. Comprehensive Study on Advanced Chip on Wafer Hybrid Bonding with Copper/Polyimide Systems 査読有り

    Toshiaki Shirasaka, Tadashi Okuda, Tomoaki Shibata, Satoshi Yoneda, Daisaku Matsukawa, Murugesan Mariappan, Mitsumasa Koyanagi, Takafumi Fukushima

    2022 IEEE 72nd Electronic Components and Technology Conference (ECTC) 2022年5月

    出版者・発行元: IEEE

    DOI: 10.1109/ectc51906.2022.00059  

  46. Tight-Pitched 10 μm-Width Solder Joints for c-2-c and c-2-w 3D-Integration in NCF Environment 査読有り

    Murugesan Mariappan, Shizu Fukuzumi, Tomoaki Shibata, Hiroyuki Hashimoto, JiChel Bea, Mitsumasa Koyanagi, Takafumi Fukushima

    2022 IEEE 72nd Electronic Components and Technology Conference (ECTC) 2022年5月

    出版者・発行元: IEEE

    DOI: 10.1109/ectc51906.2022.00184  

  47. Cu-SiO2 Hybrid Bonding Yield Enhancement Through Cu Grain Enlargement 査読有り

    M. Murugesan, K. Mori, M. Sawa, E. Sone, M. Koyanagi, T. Fukushima

    2022 IEEE 72nd Electronic Components and Technology Conference (ECTC) 2022年5月

    出版者・発行元: IEEE

    DOI: 10.1109/ectc51906.2022.00115  

  48. Enhancement of carrier mobility in metal-oxide semiconductor field-effect transistors using negative thermal expansiongate electrodes

    Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    Applied Physics Express 15 (11) 111004-1-111004-5 2022年4月

    DOI: 10.35848/1882-0786/ac9d24  

  49. Design and Evaluation of Electronic-Microsaccade with Balanced Stimulation for Artificial Vision System 査読有り

    Yaogan Liana, Zhengyang Qian, Bang Du, Jinming Ye, Kohei Nakamura, Shengwei Wang, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Koji Kiyoyama, Tetsu Tanaka

    2021 IEEE Biomedical Circuits and Systems Conference (BioCAS) 2021年10月7日

    出版者・発行元: IEEE

    DOI: 10.1109/biocas49922.2021.9645034  

  50. Chip-to-Chip/Wafer Three-Dimensional Integration of 2.5 mm-sized Neuron and Memory Chips by Via-Last Approach 査読有り

    M. Murugesan, H. Hashimoto, Jichel Bea, M. Koyanagi, T. Fukushima

    2021 7th International Workshop on Low Temperature Bonding for 3D Integration (LTB-3D) 2021年10月5日

    出版者・発行元: IEEE

    DOI: 10.1109/ltb-3d53950.2021.9598372  

  51. Design for 3-D Stacked Neural Network Circuit with Cyclic Analog Computing 査読有り

    Koji Kiyoyama, Yoshihiko Horio, Takafumi Fukushima, Hiroyuki Hashimoto, Takemori Orima, Mitsumasa Koyanagi

    2021 IEEE International 3D Systems Integration Conference (3DIC) 2021年10月

    DOI: 10.1109/3dic52383.2021.9687608  

    ISSN:2164-0157

  52. Cu-Cu Direct Bonding Through Highly Oriented Cu Grains for 3D-LSI Applications 査読有り

    M. Murugesan, E. Sone, A. Simomura, M. Motoyoshi, M. Sawa, K. Fukuda, M. Koyanagi, T. Fukushima

    2021 IEEE International 3D Systems Integration Conference (3DIC) 2021年10月

    出版者・発行元: IEEE

    DOI: 10.1109/3dic52383.2021.9687604  

  53. Integration of Damage-less Probe Cards Using Nano-TSV Technology for Microbumped Wafer Testing 査読有り

    Takafumi Fukushima, Shinichi Sakuyama, Masatomo Takahashi, Hiroyuki Hashimoto, Jichoel Bea, Theodorus Marcello, Hisashi Kino, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi, Murugesan Mariappan

    2021 IEEE International 3D Systems Integration Conference (3DIC) 2021年10月

    出版者・発行元: IEEE

    DOI: 10.1109/3dic52383.2021.9687601  

  54. Multi-level Metallization on an Elastomer PDMS for FOWLP-based Flexible Hybrid Electronics 査読有り

    Zhe Wang, Ikumi Ozawa, Yuki Susumago, Tomo Odashima, Noriyuki Takahashi, Hisashi Kino, Tetsu Tanaka, Takafumi Fukushima

    2021 IEEE International Interconnect Technology Conference, IITC 2021 2021年7月6日

    DOI: 10.1109/IITC51362.2021.9537540  

  55. Development of Manganese Nitride Resistor with Near-Zero Temperature-Coefficient of Resistance to Achieve High-Thermal-Stability ICs 査読有り

    Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    2021 IEEE International Interconnect Technology Conference, IITC 2021 2021年7月6日

    DOI: 10.1109/IITC51362.2021.9537336  

  56. Chiplet-Based Advanced Packaging Technology from 3D/TSV to FOWLP/FHE 招待有り 査読有り

    Takafumi Fukushima

    2021 Symposium on VLSI Circuits 2021年6月13日

    出版者・発行元: IEEE

    DOI: 10.23919/vlsicircuits52068.2021.9492335  

  57. High-thermal-stability resistor formed from manganese nitride compound that exhibits the saturation state of the mean free path 査読有り

    Applied Physics Express 14, (2021), 091003 14 (8) 091003 2021年

    DOI: 10.35848/1882-0786/ac18b0  

    ISSN:1882-0778

    eISSN:1882-0786

  58. On‐wafer thermomechanical characterization of a thin film polyimide formed by vapor deposition polymerization for through‐silicon via applications: Comparison to plasma‐enhanced chemical vapor deposition SiO 2 査読有り

    Takafumi Fukushima, Mariappan Murugesan, Ji‐Cheol Bea, Hiroyuki Hashimoto, Hisashi Kino, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    Journal of Polymer Science 58 (16) 2248-2258 2020年8月15日

    出版者・発行元: Wiley

    DOI: 10.1002/pol.20200094  

    ISSN:2642-4150

    eISSN:2642-4169

  59. Significant Die-Shift Reduction and mu LED Integration Based on Die-First Fan-Out Wafer-Level Packaging for Flexible Hybrid Electronics 査読有り

    Takafumi Fukushima, Yuki Susumago, Zhengyang Qian, Chidai Shima, Bang Du, Noriyuki Takahashi, Shuta Nagata, Tomo Odashima, Hisashi Kino, Tetsu Tanaka

    IEEE TRANSACTIONS ON COMPONENTS PACKAGING AND MANUFACTURING TECHNOLOGY 10 (8) 1419-1422 2020年8月

    DOI: 10.1109/TCPMT.2020.3009640  

    ISSN:2156-3950

    eISSN:2156-3985

  60. Direct fabrication of SU‐8 microchannel across an embedded chip for potentiometric bilayer lipid membrane sensor 査読有り

    Hiromichi Wakebe, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    Electronics and Communications in Japan 105 (2) 2020年6月

    出版者・発行元: Wiley

    DOI: 10.1002/ecj.12343  

    ISSN:1942-9533

    eISSN:1942-9541

  61. Laue microdiffraction evaluation of bending stress in Au wiring formed on chip-embedded flexible hybrid electronics 査読有り

    M. Murugesan, Y. Susumago, K. Sumitani, Y. Imai, S. Kimura, T. Fukushima

    Japanese Journal of Applied Physics 60 (SB) SBBC02-SBBC02 2020年5月1日

    出版者・発行元: IOP Publishing

    DOI: 10.35848/1347-4065/abdb81  

    ISSN:0021-4922

    eISSN:1347-4065

  62. High aspect ratio through-silicon-via formation by using low-cost electroless-Ni as barrier and seed layers for 3D-LSI integration and packaging applications 査読有り

    M. Murugesan, K. Mori, J.C. Bea, M. Koyanagi, T. Fukushima

    Japanese Journal of Applied Physics 59 (SG) SGGC02-SGGC02 2020年4月1日

    出版者・発行元: IOP Publishing

    DOI: 10.35848/1347-4065/ab75b8  

    ISSN:0021-4922

    eISSN:1347-4065

  63. Development of Non-Volatile Tunnel-FET Memory as a Synaptic Device for Low-Power Spiking Neural Networks 査読有り

    Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    2020 4th IEEE Electron Devices Technology & Manufacturing Conference (EDTM) 2020年4月

    出版者・発行元: IEEE

    DOI: 10.1109/edtm47692.2020.9118027  

  64. Symmetric and asymmetric spike-timing-dependent plasticity function realized in a tunnel-field-effect-transistor-based charge-trapping memory 査読有り

    Hisashi Kino, Takafumi Fukusima, Tetsu Tanaka

    Japanese Journal of Applied Physics 59 (SG) 2020年4月

    DOI: 10.35848/1347-4065/ab6867  

    ISSN:0021-4922

    eISSN:1347-4065

  65. Multichip thinning technology with temporary bonding for multichip-to-wafer 3D integration 査読有り

    Sungho Lee, Rui Liang, Yuki Miwa, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 59 (SB) 2020年2月

    DOI: 10.7567/1347-4065/ab4f3c  

    ISSN:0021-4922

    eISSN:1347-4065

  66. Tight-Pitch Au-Sn Interconnections for 3D-ICs Integration and Packaging Applications 査読有り

    Murugesan Mariappan, Mitsumasa Koyanagi, Takafumi Fukushima

    2020 IEEE 70TH ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC 2020) 1448-1452 2020年

    DOI: 10.1109/ECTC32862.2020.00229  

    ISSN:0569-5503

    eISSN:2377-5726

  67. 7-mu m-thick NCF technology with low-height solder microbump bonding for 3D integration 査読有り

    Yuki Miwa, Kousei Kumahara, Sungho Lee, Rui Liang, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    2020 IEEE 70TH ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC 2020) 1453-1458 2020年

    DOI: 10.1109/ECTC32862.2020.00230  

    ISSN:0569-5503

    eISSN:2377-5726

  68. Low-temperature multichip-to-wafer 3D integration based on via-last TSV with OER-TEOS-CVD and microbump bonding without solder extrusion 査読有り

    Kousei Kumahara, Rui Liang, Sungho Lee, Yuki Miwa, Mariappan Murugesan, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    2020 IEEE 70TH ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC 2020) 1199-1204 2020年

    DOI: 10.1109/ECTC32862.2020.00192  

    ISSN:0569-5503

    eISSN:2377-5726

  69. Impact of Electroless-Ni Seed Layer on Cu-Bottom-up Electroplating in High Aspect Ratio (>10) TSVs for 3D-IC Packaging Applications 査読有り

    Murugesan Mariappan, Mitsumasa Koyanagi, Takafumi Fukushima

    2020 IEEE 70TH ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC 2020) 1736-1741 2020年

    DOI: 10.1109/ECTC32862.2020.00271  

    ISSN:0569-5503

    eISSN:2377-5726

  70. Multilithic 3D and Heterogeneous Integration Using Capillary Self-Assembly

    Takafumi Fukushima

    2020 IEEE ELECTRON DEVICES TECHNOLOGY AND MANUFACTURING CONFERENCE (EDTM 2020) 2020年

  71. RDL-first Flexible FOWLP Technology with Dielets Embedded in Hydrogel 査読有り

    Noriyuki Takahashi, Yuki Susumago, Sungho Lee, Yuki Miwa, Hisashi Kino, Tetsu Tanaka, Takafumi Fukushima

    2020 IEEE 70TH ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC 2020) 811-816 2020年

    DOI: 10.1109/ECTC32862.2020.00132  

    ISSN:0569-5503

    eISSN:2377-5726

  72. Generation of STDP With Non-Volatile Tunnel-FET Memory for Large-Scale and Low-Power Spiking Neural Networks 査読有り

    Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    IEEE Journal of the Electron Devices Society 8 1266-1271 2020年

    出版者・発行元: Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE)

    DOI: 10.1109/jeds.2020.3025336  

    eISSN:2168-6734

  73. Fabrication and Morphological Characterization of Nano-Scale Interconnects for 3D-Integration

    Murugesan Mariappan, Mitsumasa Koyanagi, Hiroyuki Hashimoto, Ji Chel Bea, Takafumi Fukushima

    IEEE 2019 International 3D Systems Integration Conference, 3DIC 2019 2019年10月1日

    出版者・発行元: Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.

    DOI: 10.1109/3DIC48104.2019.9058849  

  74. Growth Optimization of Multi-Layer Graphene for Thermal-TSV Application in 3D-LSI

    Murugesan Mariappan, Mitsumasa Koyanagi, Takafumi Fukushima

    IEEE 2019 International 3D Systems Integration Conference, 3DIC 2019 2019年10月1日

    出版者・発行元: Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.

    DOI: 10.1109/3DIC48104.2019.9058853  

  75. Cu-Cu Bonding Challenges with 'i-ACF' for Advanced 3D Integration

    Shunji Kurooka, Yoshinori Hotta, Ai Nakamura, Mitsumasa Koyanagi, Takahumi Fukushima

    IEEE 2019 International 3D Systems Integration Conference, 3DIC 2019 2019年10月1日

    出版者・発行元: Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.

    DOI: 10.1109/3DIC48104.2019.9058773  

  76. PPG and SpO<inf>2</inf> Recording Circuit with Ambient Light Cancellation for Trans-Nail Pulse-Wave Monitoring System 査読有り

    Ryosuke Yabuki, Tetsu Tanaka, Zhengyang Qian, Kar Mun Lee, Bang Du, Filipe Alves Satake, Tasuku Fukushima, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Koji Kiyoyama

    BioCAS 2019 - Biomedical Circuits and Systems Conference, Proceedings 2019年10月

    DOI: 10.1109/BIOCAS.2019.8919027  

  77. Impacts of Deposition Temperature and Annealing Condition on Ozone-Ethylene Radical Generation-TEOS-CVD SiO<inf>2</inf> for Low-Temperature TSV Liner Formation 査読有り

    Rui Liang, Sungho Lee, Yuki Miwa, Kousei Kumahara, Murugesan Mariappan, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    IEEE 2019 International 3D Systems Integration Conference, 3DIC 2019 2019年10月

    DOI: 10.1109/3DIC48104.2019.9058843  

  78. Development of a CDS Circuit for 3-D Stacked Neural Network Chip using CMOS Analog Signal Processing 査読有り

    Koji Kiyoyama, Qian Zhengy, Hiroyuki Hashimoto, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    IEEE 2019 International 3D Systems Integration Conference, 3DIC 2019 2019年10月

    DOI: 10.1109/3DIC48104.2019.9058856  

  79. Characterization of Low-Height Solder Microbump Bonding for Fine-Pitch Inter-Chip Connection in 3DICs 査読有り

    Yuki Miwa, Sungho Lee, Rui Liang, Kousei Kumahara, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    IEEE 2019 International 3D Systems Integration Conference, 3DIC 2019 2019年10月

    DOI: 10.1109/3DIC48104.2019.9058841  

  80. Development of 3D-IC Embedded Flexible Hybrid System 査読有り

    Sungho Lee, Yuki Susumago, Zhengyang Qian, Noriyuki Takahashi, Hisashi Kino, Tetsu Tanaka, Takafumi Fukushima

    IEEE 2019 International 3D Systems Integration Conference, 3DIC 2019 2019年10月

    DOI: 10.1109/3DIC48104.2019.9058880  

  81. Investigation of the Underfill with Negative-Thermal-Expansion Material to Suppress Mechanical Stress in 3D Integration System 査読有り

    Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    IEEE 2019 International 3D Systems Integration Conference, 3DIC 2019 2019年10月

    DOI: 10.1109/3DIC48104.2019.9058838  

  82. Fully-filled, highly-reliable fine-pitch interposers with TSV aspect ratio &gt;10 for future 3D-LSI/IC packaging

    Murugesan Murugesan, Takafumi Fukushima, Kiyoharu Mori, Ai Nakamura, Yisang Lee, Makoto Motoyoshi, J. C. Bea, Shigeru Watariguchi, Mitsumasa Koyanagi

    Proceedings - Electronic Components and Technology Conference 2019- 1047-1051 2019年5月1日

    出版者・発行元: Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.

    DOI: 10.1109/ECTC.2019.00164  

    ISSN:0569-5503

  83. X-ray computed tomography studies on directed self-assembly formed vertical nanocylinders containing metals for 3D LSI applications—characterization technique-dependent reliability issues 査読有り

    M. Murugesan, A. Takeuchi, T. Fukushima, M. Koyanagi

    Japanese Journal of Applied Physics 58 (SB) SBBC05-SBBC05 2019年4月1日

    出版者・発行元: IOP Publishing

    DOI: 10.7567/1347-4065/ab02e2  

    ISSN:0021-4922

    eISSN:1347-4065

  84. Noise Propagation through TSV in Mixed-Signal 3D-IC and Investigation of Liner Interface with Multi-Well Structured TSV 査読有り

    Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    2019 Electron Devices Technology and Manufacturing Conference, EDTM 2019 222-224 2019年3月

    DOI: 10.1109/EDTM.2019.8731161  

  85. High-Thermoresistant Temporary Bonding Technology for Multichip-to-Wafer 3-D Integration With Via-Last TSVs

    Hideto Hashiguchi, Takafumi Fukushima, Mariappan Murugesan, Hisashi Kino, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    IEEE Transactions on Components, Packaging and Manufacturing Technology 9 (1) 181-188 2019年1月

    出版者・発行元: Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE)

    DOI: 10.1109/tcpmt.2018.2871764  

    ISSN:2156-3950

    eISSN:2156-3985

  86. Mechanical Characterization of FOWLPBased Flexible Hybrid Electronics (FHE) for Biomedical Sensor Application 査読有り

    Yuki Susumago, Achille Jacquemond, Noriyuki Takahashi, Hisashi Kino, Tetsu Tanaka, Takafumi Fukushima

    2019 INTERNATIONAL CONFERENCE ON ELECTRONICS PACKAGING (ICEP 2019) 265-267 2019年

  87. Development of Eccentric Spin Coating of Polymer Liner for Low-Temperature TSV Technology With Ultra-Fine Diameter 査読有り

    Miao Xiong, Zhiming Chen, Yingtao Ding, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS 40 (1) 95-98 2019年1月

    DOI: 10.1109/LED.2018.2884452  

    ISSN:0741-3106

    eISSN:1558-0563

  88. Development of eccentric spin coating of polymer liner for low-temperature TSV technology with ultra-fine diameter 査読有り

    Miao Xiong, Zhiming Chen, Yingtao Ding, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    IEEE Electron Device Letters 40 (1) 95-98 2019年1月

    DOI: 10.1109/LED.2018.2884452  

    ISSN:0741-3106

  89. Investigation of TSV Liner Interface with Multiwell Structured TSV to Suppress Noise Propagation in Mixed-Signal 3D-IC 査読有り

    Hisashi Kino, Takafumi Fukusima, Tetsu Tanaka

    IEEE Journal of the Electron Devices Society 7 1225-1231 2019年

    DOI: 10.1109/JEDS.2019.2936180  

    eISSN:2168-6734

  90. Mechanical Characterization of FOWLPBased Flexible Hybrid Electronics (FHE) for Biomedical Sensor Application 査読有り

    Yuki Susumago, Achille Jacquemond, Noriyuki Takahashi, Hisashi Kino, Tetsu Tanaka, Takafumi Fukushima

    2019 INTERNATIONAL CONFERENCE ON ELECTRONICS PACKAGING (ICEP 2019) 265-267 2019年

    DOI: 10.23919/ICEP.2019.8733416  

  91. Mechanical and Electrical Characterization of FOWLP-Based Flexible Hybrid Electronics (FHE) for Biomedical Sensor Application 査読有り

    Yuki Susumago, Qian Zhengyang, Achille Jacquemond, Noriyuki Takahashi, Hisashi Kino, Tetsu Tanaka, Takafumi Fukushima

    2019 IEEE 69TH ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC) 2019-May 264-269 2019年

    DOI: 10.1109/ECTC.2019.00046  

    ISSN:0569-5503

    eISSN:2377-5726

  92. Multichip thinning technology with temporary bonding for multichip-to-wafer 3D integration 査読有り

    Sungho Lee, Rui Liang, Yuki Miwa, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    PROCEEDINGS OF 2019 6TH INTERNATIONAL WORKSHOP ON LOW TEMPERATURE BONDING FOR 3D INTEGRATION (LTB-3D) 17-17 2019年

    DOI: 10.23919/LTB-3D.2019.8735115  

  93. Continuous Peripheral Blood Pressure Measurement with ECG and PPG Signals at Fingertips 査読有り

    Kar Mun Lee, Zhengyang Qian, Ryosuke Yabuki, Bang Du, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Koji Kiyovama, Tetsu Tanaka

    2018 IEEE Biomedical Circuits and Systems Conference, BioCAS 2018 - Proceedings 2018年12月20日

    DOI: 10.1109/BIOCAS.2018.8584776  

  94. Process Integration for FlexTrate TM 査読有り

    Tak Fukushima, Yuki Susumago, Hisashi Kino, Tetsu Tanaka, Arsalan Alam, Amir Hanna, Subramanian S. Iyer

    2018 International Flexible Electronics Technology Conference, IFETC 2018 2018年12月19日

    DOI: 10.1109/IFETC.2018.8584029  

  95. Flexible Hybrid Electronics Technology Using Die-First FOWLP for High-Performance and Scalable Heterogeneous System Integration 査読有り

    Takafumi Fukushima, Arsalan Alam, Amir Hanna, Siva Chandra Jangam, Adeel Ahmad Bajwa, Subramanian S. Iyer

    IEEE TRANSACTIONS ON COMPONENTS PACKAGING AND MANUFACTURING TECHNOLOGY 8 (10) 1738-1746 2018年10月

    DOI: 10.1109/TCPMT.2018.2871603  

    ISSN:2156-3950

    eISSN:2156-3985

  96. Extremely flexible (1mm Bending Radius) biocompatible heterogeneous fan-out wafer-level platform with the lowest reported die-shift (&lt;6 μm) and reliable flexible cu-based interconnects

    Amir Hanna, Arsalan Alam, Takafumi Fukushima, Steven Moran, William Whitehead, Siva Chandra Jangam, Saptadeep Pal, Goutham Ezhilarasu, Randall Irwin, Adeel Bajwa, Subramanian Iyer

    Proceedings - Electronic Components and Technology Conference 2018- 1505-1511 2018年8月7日

    出版者・発行元: Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.

    DOI: 10.1109/ECTC.2018.00229  

    ISSN:0569-5503

  97. TSV liner dielectric technology with spin-on low-k polymer 査読有り

    S. Lee, Y. Sugawara, M. Ito, H. Kino, T. Fukushima, T. Tanaka

    2018 International Conference on Electronics Packaging and iMAPS All Asia Conference, ICEP-IAAC 2018 346-349 2018年6月6日

    出版者・発行元: Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.

    DOI: 10.23919/ICEP.2018.8374320  

  98. Development of integrated photoplethysmographic recording circuit for trans-nail pulse-wave monitoring system 査読有り

    Zhengyang Qian, Yoshiki Takezawa, Kenji Shimokawa, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Koji Kiyoyama, Tetsu Tanaka

    Japanese Journal of Applied Physics 57 (4) 2018年4月1日

    出版者・発行元: Japan Society of Applied Physics

    DOI: 10.7567/JJAP.57.04FM11  

    ISSN:1347-4065 0021-4922

  99. Tunnel field-effect transistor charge-trapping memory with steep subthreshold slope and large memory window 査読有り

    Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    Japanese Journal of Applied Physics 57 (4) 2018年4月1日

    出版者・発行元: Japan Society of Applied Physics

    DOI: 10.7567/JJAP.57.04FE07  

    ISSN:1347-4065 0021-4922

  100. Ultrawide range square wave impedance analysis circuit with ultra-slow ring-oscillator using gate-induced drain-leakage current

    Yoshiki Takezawa, Koji Kiyoyama, Kenji Shimokawa, Zhengyang Qian, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    2017 IEEE Biomedical Circuits and Systems Conference, BioCAS 2017 - Proceedings 2018- 1-4 2018年3月23日

    出版者・発行元: Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.

    DOI: 10.1109/BIOCAS.2017.8325165  

  101. Experimental evaluation of stimulus current generator with Laplacian edge-enhancement for 3-D stacked retinal prosthesis chip

    Kenji Shimokawa, Zhengyang Qian, Yoshiki Takezawa, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Koji Kiyoyama, Tetsu Tanaka

    2017 IEEE Biomedical Circuits and Systems Conference, BioCAS 2017 - Proceedings 2018- 1-4 2018年3月23日

    出版者・発行元: Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.

    DOI: 10.1109/BIOCAS.2017.8325552  

  102. 3D Interconnection by Directed Self-Assembly (DSA) with Metal/Block-Copolymer Nanocomposites

    Takafumi Fukushima

    Kick-off Symposium for World Leading Research Centers - Materials Science and Spintronics - (2017) 2018年2月

  103. Capillary Self-Assembly Based Multichip-to-Wafer System Integration Technologies

    Takafumi Fukushima

    2018 INTERNATIONAL CONFERENCE ON MANIPULATION, AUTOMATION AND ROBOTICS AT SMALL SCALES (MARSS) 2018年

  104. Self-Assembly Technologies for FlexTrate (TM) 査読有り

    Takafumi Fukushima, Yuki Susumago, Hisashi Kino, Tetsu Tanaka, Arsalan Alam, Amir Hanna, Subramanian S. Iyer

    2018 IEEE 68TH ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC 2018) 1836-1841 2018年

    DOI: 10.1109/ECTC.2018.00275  

    ISSN:0569-5503

    eISSN:2377-5726

  105. Study of Al-doped ZnO transparent stimulus electrode for fully implantable retinal prosthesis with three-dimensionally stacked retinal prosthesis chip 査読有り

    Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    Sensors and Materials 30 (2) 225-234 2018年

    出版者・発行元: M Y U Scientific Publishing Division

    DOI: 10.18494/SAM.2018.1741  

    ISSN:0914-4935

  106. Charge-Trap-Free Polymer-Liner Through-Silicon Vias for Reliability Improvement of 3D ICs 査読有り

    Hisashi Kino, Sungho Lee, Yohei Sugawara, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    2018 IEEE INTERNATIONAL INTERCONNECT TECHNOLOGY CONFERENCE (IITC) 135-137 2018年

    DOI: 10.1109/IITC.2018.8430390  

    ISSN:2380-632X

    eISSN:2380-6338

  107. Self-Assembly and Electrostatic Carrier Technology for Via-Last TSV Formation Using Transfer Stacking-Based Chip-to-Wafer 3-D Integration 査読有り

    Hideto Hashiguchi, Takafumi Fukushima, Hiroyuki Hashimoto, Ji-Cheol Bea, Mariappan Murugesan, Hisashi Kino, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES 64 (12) 5065-5072 2017年12月

    DOI: 10.1109/TED.2017.2767598  

    ISSN:0018-9383

    eISSN:1557-9646

  108. Temporary Bonding and De-Bonding for Multichip-to-Wafer 3D Integration Process Using Spin-on Glass and Hydrogenated Amorphous Si 査読有り

    M. Murugesan, T. Fukushima, M. Koyanagi

    Proceedings - Electronic Components and Technology Conference 1237-1242 2017年8月1日

    出版者・発行元: Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.

    DOI: 10.1109/ECTC.2017.253  

    ISSN:0569-5503

  109. Remarkable Suppression of Local Stress in 3D IC by Manganese Nitride-Based Filler with Large Negative CTE 査読有り

    Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    Proceedings - Electronic Components and Technology Conference 1523-1528 2017年8月1日

    出版者・発行元: Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.

    DOI: 10.1109/ECTC.2017.209  

    ISSN:0569-5503

  110. Drastic reduction of keep-out-zone in 3D-IC by local stress suppression with negative-CTE filler 査読有り

    Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    2016 IEEE International 3D Systems Integration Conference, 3DIC 2016 2017年7月5日

    出版者・発行元: Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.

    DOI: 10.1109/3DIC.2016.7970031  

  111. Minimized hysteresis and low parasitic capacitance TSV with PBO (polybenzoxazole) liner to achieve ultra-high-speed data transmission 査読有り

    Hisashi Kino, Masataka Tashiro, Yohei Sugawara, Seiya Tanikawa, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    IITC 2017 - 2017 IEEE International Interconnect Technology Conference 2017年7月5日

    出版者・発行元: Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.

    DOI: 10.1109/IITC-AMC.2017.7968936  

  112. 3-D Sidewall Interconnect Formation Climbing Over Self-Assembled KGDs for Large-Area Heterogeneous Integration 査読有り

    Takafumi Fukushima, Akihiro Noriki, Jichoel Bea, Mariappan Murugesan, Hisashi Kino, Koji Kiyoyama, Kang-Wook Lee, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES 64 (7) 2912-2918 2017年7月

    DOI: 10.1109/TED.2017.2705562  

    ISSN:0018-9383

    eISSN:1557-9646

  113. FlexTrateTM Characterization 査読有り

    T. Takafumi, A. Alam, S. Pal, Z. Wan, S. C. Jangam, G. Ezhilarasu, A. Bajwa, S. S. Iyer

    2017 FLEX 2017年6月

  114. Directed Self-Assembly Patterning for 3D LSI 招待有り

    Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi

    INC13 Workshop 2017年5月9日

  115. Heterogeneous Integration with High-Performance and Scalable Substrates: Si-IF (Interconnect Fabric) and FlexTrateTM 査読有り

    T. Fukushima, A. Bajwa, S. S. Iyer

    Advancing Microelectronics Magazine 44 (2) 6-11 2017年5月

  116. Development of Si neural probe with piezoresistive force sensor for minimally invasive and precise monitoring of insertion forces 査読有り

    Takuya Harashima, Takumi Morikawa, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    Japanese Journal of Applied Physics 56 (4) 04CM04-1-04CM04-4 2017年4月1日

    出版者・発行元: Japan Society of Applied Physics

    DOI: 10.7567/JJAP.56.04CM04  

    ISSN:1347-4065 0021-4922

  117. Evaluation of insertion characteristics of less invasive Si optoneural probe with embedded optical fiber 査読有り

    Takumi Morikawa, Takuya Harashima, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 56 (4) 04CM08-1-04CM08-4 2017年4月

    DOI: 10.7567/JJAP.56.04CM08  

    ISSN:0021-4922

    eISSN:1347-4065

  118. Improving the barrier ability of Ti in Cu through-silicon vias through vacuum annealing 査読有り

    Murugesan Mariappan, JiChel Bea, Takafumi Fukushima, Eiji Ikenaga, Hiroshi Nohira, Mitsumasa Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 56 (4) 2017年4月

    DOI: 10.7567/JJAP.56.04CC08  

    ISSN:0021-4922

    eISSN:1347-4065

  119. 半導体微細加工技術を用いた高機能シリコン神経プローブの開発

    原島 卓也, 森川 拓実, 木野 久志, 福島 誉史, 坂本 一寛, 片山 統裕, 虫明 元, 田中 徹

    平成28年度文部科学省新学術領域研究 学術研究支援基盤形成 先端モデル動物支援プラットフォーム 成果発表会 プログラム・抄録 66-66 2017年2月6日

  120. 光ファイバ埋め込みシリコンオプト神経プローブの開発

    森川 拓実, 原島 卓也, 木野 久志, 福島 誉史, 坂本 一寛, 片山 統裕, 虫明 元, 田中 徹

    平成28年度文部科学省新学術領域研究 学術研究支援基盤形成 先端モデル動物支援プラットフォーム 成果発表会 プログラム・抄録集 68-68 2017年2月6日

  121. 経爪型集積化光電式容積脈波計測システムの開発 査読有り

    銭 正ヨウ, 竹澤 好樹, 下川 賢士, 伊藤 圭汰, 西野 悟, 清山 浩司, 田中 徹

    生体医工学 55 (5) 464-464 2017年

    出版者・発行元: 公益社団法人 日本生体医工学会

    DOI: 10.11239/jsmbe.55Annual.464  

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    <p>"脈拍は健康状態の指標として非常に重要であり、日常的に脈拍を計測できることが望ましい。現在、指輪型や腕時計型など種々のウェアラブルPPG (Photoplethysmography)計測装置が提案されている[1,2]。これはLEDを光源とする光を生体表面に入射し、脈拍に応じて変化する血量を光の反射・吸収量の変化としてフォトダイオード(PD)で検出することで脈拍の情報を得るものである。本研究はLED ドライバ回路、光電変換用PD、PPG信号処理回路を1チップに集積し、小面積と可搬性を兼ね備えた集積化PPG計測システムを開発することを目的とする。また、本システムを用いて爪下の血管から正確かつ簡便な脈波計測を実現することを目指す。今回設計した計測回路には、LEDドライバ、600μm角のPD、I/V コンバータ、20~40 dBまで4段階増幅可能な増幅器、高周波ノイズを除去するLPF、デジタル信号に変換するADCを搭載している。この計測回路を0.18μmCMOS技術を用いて試作し、要素回路が正常動作していることを確認した。回路の詳細な測定結果等は学会大会にて発表する。[1] 石井他, 第55回日本生体医工学会大会3T6-2-9 (2016)。[2] Yu Sun et. al., IEEE Trans. on Biomed. Eng., Vol. 63, No. 3, 2016."</p>

  122. Feasibility Study on Ultrafine-Pitch Cu-Cu Bonding Using Directed Self-Assembly (DSA) 査読有り

    M. Murugesan, T. Fukushima, K. Mori, H. Hashimoto, Jichel Bea, M. Koyanagi

    2017 5TH INTERNATIONAL WORKSHOP ON LOW TEMPERATURE BONDING FOR 3D INTEGRATION (LTB-3D) 44-44 2017年

    DOI: 10.23919/LTB-3D.2017.7947440  

  123. “FlexTrate®” - Scaled Heterogeneous Integration on Flexible Biocompatible Substrates Using FOWLP 査読有り

    Tak Fukushima, Arsalan Alam, Saptadeep Pal, Zhe Wan, Siva Jangam, Goutham Ezhilarasu, Adeel Bajwa, Subramanian Iyer

    ECTC 2017, The 67th Electronic Components and Technology Conference 649-654 2017年

    DOI: 10.1109/ECTC.2017.226  

    ISSN:0569-5503

  124. Heterogeneous Integration at Fine Pitch (2-10 μm) Using Thermal Compression Bonding 査読有り

    Adeel Ahmad Bajwa, SivaChandra Jangam, Saptadeep Pal, Niteesh Marathe, Tingyu Bai, Takafumi Fukushima, Mark Goorsky, Subramanian Iyer

    ECTC 2017, The 67th Electronic Components and Technology Conference 1276-1284 2017年

    DOI: 10.1109/ECTC.2017.240  

    ISSN:0569-5503

  125. A New Flexible Device Integration Technology Based on Fan-Out Wafer-Level Packaging 査読有り

    T. Takafumi, A. Alam, S. Pal, Z. Wan, S. C. Jangam, G. Ezhilarasu, A. Bajwa, S. S. Iyer

    Printed Electronics USA in IDTechEx show 2016年11月16日

    詳細を見る 詳細を閉じる

    Printed Electronics USA in IDTechEx show, Nov. 16-17, 2016, Santa Clara, CA, Academic Posters

  126. FlexTrate™: High Interconnect Density Fan-Out Wafer Level Processing for Flexible Bio-compatible Electronics 招待有り

    T. Fukushima, A. Alam, S. Pal, Z. Wan, S. C. Jangam, G. Ezhilarasu, A. Bajwa, S. S. Iyer

    NBMC (Nano-Bio Manufactuuring Consortium) Workshop: Blood, Sweat and Tears III 2016年11月2日

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    NBMC (Nano-Bio Manufactuuring Consortium) Workshop: Blood, Sweat and Tears III

  127. Oxide-Oxide Thermocompression Direct Bonding Technologies with Capillary Self-Assembly for Multichip-to-Wafer Heterogeneous 3D System Integration 査読有り

    Takafumi Fukushima, Hideto Hashiguchi, Hiroshi Yonekura, Hisashi Kino, Mariappan Murugesan, Ji-Chel Bea, Kang-Wook Lee, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    Micromachines 7 (10) 184-1-184-18 2016年10月

    DOI: 10.3390/mi7100184  

    ISSN:2072-666X

  128. Development of Si Neural Probe with Piezoresistive Force Sensor for Insertion Force Monitoring 査読有り

    Takuya Harashima, Takumi Morikawa, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    JSAP 2016 International Conference on Solid State Devices and Materials 409-410 2016年9月29日

  129. Insertion Characteristics Evaluation of Si Opto-Neural Probe with Embedded Optical fiber 査読有り

    Takumi Morikawa, Takuya Harashima, Takafumi Fukushima, Hisashi Kino, Tetsu Tanaka

    JSAP 2016 International Conference on Solid State Devices and Materials 389-390 2016年9月28日

  130. Evaluation of Depth-dependent TSV-liner Interface States Using Multi-well Structure TSV and Charge Pumping Technique 査読有り

    Yohei Sugawara, Hisashi Kino, Takahumi Fukushima, Kang-Wook Lee, Mitsumasa Koyanagi, Tetsu Tanaka

    JSAP 2016 International Conference on Solid State Devices and Materials 467-468 2016年9月27日

  131. 半導体ウエハへの三次元配線加工:TSVと狭ピッチ電極を中心に 招待有り 査読有り

    福島誉史, 李康旭, 田中徹, 小柳光正

    表面技術 小特集: シリコンウエハの表面処理 67 (8) 414-420 2016年8月1日

    DOI: 10.4139/sfj.67.414  

  132. Heterogeneous 3-D Integration Using Self-Assembly and Electrostatic Bonding 査読有り

    Mitsumasa Koyanagi, Takafumi Fukushima, Kang-Wook Lee, Tetsu Tanaka

    IEEE TRANSACTIONS ON COMPONENTS PACKAGING AND MANUFACTURING TECHNOLOGY 6 (7) 1002-1008 2016年7月

    DOI: 10.1109/TCPMT.2016.2575070  

    ISSN:2156-3950

    eISSN:2156-3985

  133. Influence of Cu-TSVs, CuSnand PI- Microbumps on Vertically Stacked 20 Micron-Thick DRAM Chips 査読有り

    Murugesan Mariappan, JiChel Bea, Hiroyuki Hashmoto, KangWook Lee, Mitsumasa Koyanagi, Takafumi Fukushima, Seiya Tanikawa, Tetsu Tanaka

    Proceedings of the ECTC 2016 50-55 2016年6月1日

  134. Capacitance characteristics of low-k low-cost CVD grown polyimide liner for high-density Cu through-Si-via in three-dimensional LSI 査読有り

    Mariappan Murugesan, Fukushima Takafumi, Bea Ji-Chel, Hashimoto Hiroyuki, Koyanagi Mitsumasa

    Jpn. J. Appl. Phys. 55 (4S) 04EC12-04EC12 2016年4月1日

    出版者・発行元: Institute of Physics

    DOI: 10.7567/jjap.55.04ec12  

    ISSN:0021-4922

    eISSN:1347-4065

    詳細を見る 詳細を閉じる

    Minimization of the parasitic capacitance arising from Cu–through-Si-vias (TSVs) has been rigorously considered in order to enhance the performances of three-dimensional (3D) LSIs. We have systematically investigated the role of chemical vapor deposited (CVD) polyimide (PI) liner in Cu-TSVs in reducing the TSV capacitance. It is confirmed that CVD grown PI greatly helps to reduce the TSV capacitance as compared to the conventional PECVD-SiO<inf>2</inf>liner. In addition to that the presence of very small hysteresis and a negligible flat-band voltage shift along the voltage axis confirms the suitability of PI liner as dielectric in the Cu-TSVs, if it were operated below the bias voltages of ±20 V. In over all, the large reduction in capacitance along with the conformal deposition of PI in the TSVs having less than 3 µm-width with aspect ratios greater than 10 reveals that CVD grown PI has the potential application in the future 3D-LSIs with highly scaled TSV.

  135. Evaluation of in-plane local stress distribution in stacked IC chip using dynamic random access memory cell array for highly reliable three-dimensional IC 査読有り

    Seiya Tanikawa, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi, Tetsu Tanaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 55 (4) 2016年4月

    DOI: 10.7567/JJAP.55.04EC07  

    ISSN:0021-4922

    eISSN:1347-4065

  136. Study of Vacuum-Assisted Spin Coating of Polymer Liner for High-Aspect-Ratio Through-Silicon-Via Applications 査読有り

    Yangyang Yan, Yingtao Ding, Takafumi Fukushima, Kang-Wook Lee, Mitsumasa Koyanagi

    IEEE TRANSACTIONS ON COMPONENTS PACKAGING AND MANUFACTURING TECHNOLOGY 6 (4) 501-509 2016年4月

    DOI: 10.1109/TCPMT.2016.2514365  

    ISSN:2156-3950

    eISSN:2156-3985

  137. Effect of local stress induced by thermal expansion of underfill in three-dimensional stacked IC 査読有り

    Hisashi Kino, Hideto Hashiguchi, Seiya Tanikawa, Youhei Sugawara, Shunsuke Ikegaya, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi, Tetsu Tanaka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 55 (4) 04EC03-1-04EC03-4 2016年4月

    DOI: 10.7567/JJAP.55.04EC03  

    ISSN:0021-4922

    eISSN:1347-4065

  138. Evaluation of In-plane Local Bending Stress Distribution with DRAM Cell Array for Highly Reliable 3D IC 査読有り

    Seiya Tanikawa, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi, Tetsu Tanaka

    Japanese Journal of Applied Physics 55 (4S) 04EC07-1-04EC07-4 2016年3月17日

    DOI: 10.7567/JJAP.55.04EC07  

  139. Impact of Chip-Edge Structures on Alignment Accuracies of Self-Assembled Dies for Microelectronic System Integration 査読有り

    Yuka Ito, Takafumi Fukushima, Hisashi Kino, Kang-Wook Lee, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    JOURNAL OF MICROELECTROMECHANICAL SYSTEMS 25 (1) 91-100 2016年2月

    DOI: 10.1109/JMEMS.2015.2480787  

    ISSN:1057-7157

    eISSN:1941-0158

  140. New multichip-to-wafer 3D integration technology using Self-Assembly and Cu nano-pillar hybrid bonding 査読有り

    M. Koyanagi, K. W. Lee, T. Fukushima, T. Tanaka

    2016 13th IEEE International Conference on Solid-State and Integrated Circuit Technology, ICSICT 2016 - Proceedings 338-341 2016年

    出版者・発行元: Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.

    DOI: 10.1109/ICSICT.2016.7998914  

  141. Impact of Interconnections on Vertically Stacked 20 mu m-thick DRAM Chips 査読有り

    M. Murugesan, T. Fukushima, J. C. Bea, H. Hashimoto, M. Koyanagi, S. Tanikawa, T. Tanaka

    2016 IEEE 66TH ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC) 50-55 2016年

    DOI: 10.1109/ECTC.2016.255  

    ISSN:0569-5503

  142. Non-Conductive Film Underfill for 3D Integration of 20 mu m-Thick LSI Wafers with Fine Cu-TSVs 査読有り

    M. Murugesan, J. C. Bea, M. Koyanagi, Y. Ito, T. Fukushima, T. Tanaka

    2016 27TH ANNUAL SEMI ADVANCED SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CONFERENCE (ASMC) 466-471 2016年

    ISSN:1078-8743

  143. Back-Via 3D Integration Technologies by Temporary Bonding with Thermoplastic Adhesives and Visible-Laser Debonding 査読有り

    M. Murugesan, T. Fukushima, J. C. Bea, H. Hashimoto, S. H. Lee, M. Motoyoshi, T. Tanaka, K. W. Lee, M. Koyanagi

    2016 International Conference on Electronics Packaging (ICEP) 265-269 2016年

  144. Novel Hybrid Bonding Technology Using Ultra-High Density Cu Nano-Pillar for Exascale 2.5D/3D Integration 査読有り

    Kangwook Lee, Jichel Bea, Takafumi Fukushima, Suresh Ramalingam, Xin Wu, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS 37 (1) 81-83 2016年1月

    DOI: 10.1109/LED.2015.2502584  

    ISSN:0741-3106

    eISSN:1558-0563

  145. DRAMリテンション測定を用いた3DIC局所曲げ応力の影響評価

    谷川星野, 木野久志, 福島誉史, 田中徹

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 63rd 11-130 2016年

  146. 応力センサ集積シリコン神経プローブの開発

    原島卓也, 谷卓治, 鈴木雄策, 森川拓実, 木野久志, 福島誉史, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 63rd 10-311-10-311 2016年

  147. 脳深部刺入可能なフレキシブルケーブル一体化シリコン神経プローブの開発

    森川拓実, 谷卓治, 原島卓也, 鈴木雄策, 木野久志, 福島誉史, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 63rd 2016年

  148. Capillary Self-Assebly for 3D Heterogeneous System Integration and Packaging 招待有り

    Yuka Ito, Takafumi Fukushima, Kang-Wook Lee, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    MRS ADVANCES 1 (34) 2355-2366 2016年

    DOI: 10.1557/adv.2016.528  

    ISSN:2059-8521

  149. Impact of local stress in 3D stacking process on memory retention characteristics in thinned DRAM chip 査読有り

    S. Tanikawa, H. Kino, T. Fukushima, K-W. Lee, M. Koyanagi, T. Tanaka

    2016 IEEE INTERNATIONAL RELIABILITY PHYSICS SYMPOSIUM (IRPS) 6B-1-1-6B-1-6 2016年

    DOI: 10.1109/IRPS.2016.7574561  

    ISSN:1541-7026

  150. Transfer and Non-Transfer 3D Stacking Technologies Based on Multichip-to-Wafer Self-Assembly and Direct Bonding 査読有り

    T. Fukushima, H. Hashiguchi, H. Kino, T. Tanaka, M. Murugesan, J. Bea, H. Hashimoto, K. Lee, M. Koyanagi

    2016 IEEE 66TH ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC) 289-294 2016年

    DOI: 10.1109/ECTC.2016.298  

    ISSN:0569-5503

  151. Novel W2W/C2W hybrid bonding technology with high stacking yield using ultra-fine size, ultra-high density Cu nano-pillar (CNP) for exascale 2.5D/3D integration 査読有り

    K. W. Lee, C. Nagai, J. C. Bea, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi, R. Suresh, X. Wu

    2016 IEEE 66TH ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC) 350-355 2016年

    DOI: 10.1109/ECTC.2016.10  

    ISSN:0569-5503

  152. Accuracy Enhancement of Sub-mm Chip Self-Alignment Using Liquid Surface Tension for Hybrid Integration 査読有り

    Shinya Kikuta, Satohiko Hoshino, Yoshiki Yamanishi, Takafumi Fukushima, Kangwook Lee, Mitsumasa Koyanagi

    2016 CONFERENCE ON LASERS AND ELECTRO-OPTICS (CLEO) 350-355 2016年

    ISSN:2160-9020

  153. Highly Sensitive Pressure Sensor with Silicon-On-Nothing (SON) MOSFET for Sensor Integrated Heterogeneous System 査読有り

    Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    2016 IEEE SILICON NANOELECTRONICS WORKSHOP (SNW) 186-187 2016年

    DOI: 10.1109/SNW.2016.7578043  

  154. マルチウェル構造TSVを用いたTSV側壁Si-SiO2界面準位の評価

    菅原陽平, 木野久志, 福島誉史, LEE K.-W., 小柳光正, 田中徹

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 77th 12-340-12-340 2016年

  155. 網膜下刺激人工網膜におけるAZO透明刺激電極の基礎評価

    下川賢士, 後藤大輝, 木野久志, 福島誉史, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 77th 11-408-11-408 2016年

  156. 光ファイバ埋め込みシリコンオプト神経プローブの刺入特性評価

    森川拓実, 原島卓也, 木野久志, 福島誉史, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 77th 11-416-11-416 2016年

  157. Self-Assembly Based Multichip-to-Wafer Bonding Technologies for 3D/Hetero Integration 査読有り

    T. Fukushima, K. W. Lee, T. Tanaka, M. Koyanagi

    SEMICONDUCTOR WAFER BONDING: SCIENCE, TECHNOLOGY AND APPLICATIONS 14 75 (9) 285-290 2016年

    DOI: 10.1149/07509.0285ecst  

    ISSN:1938-5862

  158. Self-Assembly Based Multichip-to-Wafer Bonding Technologies for 3D/Hetero Integration 招待有り

    T. Fukushima, K. W. Lee, T. Tanaka, M. Koyanagi

    SEMICONDUCTOR WAFER BONDING: SCIENCE, TECHNOLOGY AND APPLICATIONS 14 75 (9) 285-290 2016年

    DOI: 10.1149/07509.0285ecst  

    ISSN:1938-5862

  159. 三次元集積用テンポラリー接着剤の特性とウエハエッジの影響 査読有り

    福島誉史, 福島誉史, MURUGESAN Mariappan, BEA Jicheol, LEE Sanghoon, LEE Kang-Wook, 田中徹, 田中徹, 小柳光正

    電子情報通信学会論文誌 C(Web) J99-C (11) 493-500 2016年

    ISSN:1881-0217

  160. New Concept of TSV Formation Methodology Using Directed Self-Assembly (DSA) 査読有り

    Takafumi Fukushima, Mariappan Murugesan, Shin Ohsaki, Hiroyuki Hashimoto, Jichoel Bea, Kang-Wook Lee, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    2016 IEEE INTERNATIONAL 3D SYSTEMS INTEGRATION CONFERENCE (3DIC) 2016年

    DOI: 10.1109/3DIC.2016.7970022  

    ISSN:2164-0157

  161. Nano-scale Cu direct bonding using ultra-high density Cu nano-pillar (CNP) for high yield exascale 2.5/3D integration applications 査読有り

    Kangwook. Lee, Ai Nakamura, Jicheol Bea, Takafumi Fukushima, Suresh Ramalingam, Xin Wu, Tanaka Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    2016 IEEE INTERNATIONAL 3D SYSTEMS INTEGRATION CONFERENCE (3DIC) 2016年

    DOI: 10.1109/3DIC.2016.7970027  

    ISSN:2164-0157

  162. Improving the Integrity of Ti Barrier Layer in Cu-TSVs Through Self-Formed TiSix for Via-Last TSV Technology 査読有り

    Murugesan Mariappan, JiChel Bea, Takafumi Fukushima, Makoto Motoyoshi, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    2016 IEEE INTERNATIONAL 3D SYSTEMS INTEGRATION CONFERENCE (3DIC) 2016年

    DOI: 10.1109/3DIC.2016.7970017  

    ISSN:2164-0157

  163. 電気/薬液/光による高度脳操作を可能にするシリコン神経プローブの開発

    原島 卓也, 谷 卓治, 鈴木 雄策, 森川 拓実, 木野 久志, 福島 誉史, 田中 徹

    平成27年度 包括型脳科学研究推進支援ネットワーク冬のシンポジウム 60-60 2015年12月17日

  164. 柔軟性を有するフレキシブルケーブル一体化シリコン神経プローブの開発-多機能集積化脳神経プローブシステムの開発1-

    鈴木 雄策, 谷 卓治, 原島 卓也, 森川拓実, 木野 久志, 福島 誉史, 田中 徹

    平成27年度 包括型脳科学研究推進支援ネットワーク 冬のシンポジウム 60-60 2015年12月17日

  165. Evaluation of 2-D Local Stress Distribution in Stacked IC Chip Using Stress-induced Retention Time Modulation od DRAM Cell Array 査読有り

    Seiya Tanikawa, Hideto Hashiguchi, Yohei Sugawara, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi, Tetsu Tanaka

    Extended Abstracts of the 2015 International Conference on Solid State Devices and Materials 790-791 2015年9月30日

  166. Electroless Nickel Barrier/Seed Layer Deposition on Dielectric Liners for Advanced Cu-TSV Applications 査読有り

    Takafumi Fukushima, Kazuko Taniguchi, Shigeru Watariguchi, Mariappan Murugesan, Chisato Nagai, Ai Nakamura, Hiroyuki Hashimoto, Ji-Chel Bea, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi, Kang-Wook Lee

    Extended Abstracts of the 2015 International Conference on Solid State Devices and Materials 70-71 2015年9月29日

  167. Capacitance Characteristics of Low-k Low-Cost CVD Grown Polyimide Liner for High-Density Cu-TSVs in 3D-LSI 査読有り

    Murugesan Mariappan, Ji-Chel Bea, Takafumi Fukushima, Hiroyuki Hashimoto, Kang-Wook Lee, Mitsumasa Koyanagi

    Extended Abstracts of the 2015 International Conference on Solid State Devices and Materials 64-65 2015年9月29日

  168. Local Stress Effect due to Operation-Heating-Induced Adhesive Expansion on Transistor Performances in 3D IC 査読有り

    Hisashi Kino, Hideto hashiguchi, Seiya Tanikawa, Youhei Sugawara, Shunsuke Ikegaya, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi, Tetsu Tanaka

    Extended Abstracts of the 2015 International Conference on Solid State Devices and Materials 56-57 2015年9月27日

  169. 高分子材料を用いた三次元集積技術 招待有り

    福島誉史

    第41回 よこはま高度実装技術コンソーシアム(YJC)実装技術セミナー 2015年6月11日

  170. Die-to-Wafer Self-Assembly by Droplet Surface Tension for 3D LSI & Advanced System Integration 招待有り

    Takafumi Fukushima

    Proc. EMN Meeting on Droplets 2015年5月10日

  171. Vertical-cavity surface-emitting laser chip bonding by surface-tension-driven self-assembly for optoelectronic heterogeneous integration 査読有り

    Yuka Ito, Takafumi Fukushima, Hisashi Kino, Kang-Wook Lee, Koji Choki, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 54 (3) 030206-1-030206-6 2015年3月

    DOI: 10.7567/JJAP.54.030206  

    ISSN:0021-4922

    eISSN:1347-4065

  172. Applications of three-dimensional LSI 査読有り

    Mitsumasa Koyanagi, Takafumi Fukushima, Kang-Wook Lee, Tetsu Tanaka

    MRS BULLETIN 40 (3) 242-247 2015年3月

    DOI: 10.1557/mrs.2015.33  

    ISSN:0883-7694

    eISSN:1938-1425

  173. Applications of three-dimensional LSI 招待有り 査読有り

    Mitsumasa Koyanagi, Takafumi Fukushima, Kang-Wook Lee, Tetsu Tanaka

    MRS BULLETIN 40 (3) 242-247 2015年3月

    DOI: 10.1557/mrs.2015.33  

    ISSN:0883-7694

    eISSN:1938-1425

  174. Advanced 2.5D/3D Hetero-Integration Technologies at GINTI, Tohoku University 査読有り

    K. W. Lee, J. C. Bea, M. Koyanagi, T. Fukushima, T. Tanaka

    2015 INTERNATIONAL 3D SYSTEMS INTEGRATION CONFERENCE (3DIC 2015) 2015年

    ISSN:2164-0157

  175. Impacts of 3-D integration processes on device reliabilities in thinned DRAM chip for 3-D DRAM 査読有り

    Kang-Wook Lee, Ji-Chel Bea, Mariappan Murugesan, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    2015 IEEE INTERNATIONAL RELIABILITY PHYSICS SYMPOSIUM (IRPS) 2015年

    ISSN:1541-7026

  176. Yield Enhancement and Mitigating the Si-Chipping and Wafer Cracking in Ultra-Thin 20 mu m-Thick 8-and 12-Inch LSI Wafer 査読有り

    M. Murugesan, T. Fukushima, J. C. Bea, K. W. Lee, M. Koyanagi

    2015 26TH ANNUAL SEMI ADVANCED SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CONFERENCE (ASMC) 435-439 2015年

    ISSN:1078-8743

  177. 高分子材料を用いた三次元集積技術 I:セルフアセンブリによるNCF被覆ダイ・オン・ウェーハ

    伊藤有香, 伊藤有香, 福島誉史, MURUGESAN Mariappan, 裴志哲, 李康旭, 田中徹, 田中徹, 小柳光正

    エレクトロニクス実装学会講演大会講演論文集(CD-ROM) 29th 408-409 2015年

    ISSN:1880-4616

  178. 高分子材料を用いた三次元集積技術 II:ビアラストTSV形成のための高耐熱テンポラリー無機接着層

    橋口日出登, 福島誉史, 裴志哲, MURUGESAN Mariappan, 李康旭, 田中徹, 小柳光正

    エレクトロニクス実装学会講演大会講演論文集(CD-ROM) 29th 410-412 2015年

    ISSN:1880-4616

  179. 高分子材料を用いた三次元集積技術 III:気相堆積ポリイミドTSVライナーの形成と特性評価

    福島誉史, MURUGESAN Mariappan, 裴志哲, 橋本宏之, 佐藤優, 李康旭, 小柳光正

    エレクトロニクス実装学会講演大会講演論文集(CD-ROM) 29th 413-415 2015年

    ISSN:1880-4616

  180. Novel reconfigured wafer-to-wafer (W2W) hybrid bonding technology using ultra-high density nano-Cu filaments for exascale 2.5D/3D integration

    K-W Lee, C. Nagai, J-C Bea, T. Fukushima, R. Suresh, X. Wu, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2015 IEEE INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING (IEDM) 260-263 2015年

  181. Improved C-V, I-V Characteristics for Co-Polymerized Organic Liner in the Through-Silicon-Via for High Frequency Applications by Post Heat Treatment 査読有り

    M. Murugesan, T. Fukushima, J. C. Bea, H. Hashimoto, Y. Sato, K. W. Lee, M. Koyanagi

    2015 IEEE 65TH ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC) 73-77 2015年

    DOI: 10.1109/ECTC.2015.7159574  

    ISSN:0569-5503

  182. Development of Highly-Reliable Microbump Bonding Technology using Self-Assembly of NCF-Covered KGDs and Multi -Layer 3D Stacking Challenges 査読有り

    Yuka Ito, Mariappan Murugesan, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Kang-Wook Lee, Koji Choki, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    2015 IEEE 65TH ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC) 336-341 2015年

    DOI: 10.1109/ECTC.2015.7159614  

    ISSN:0569-5503

  183. Challenges of High-Robustness Self-Assembly with Cu/Sn-Ag Microbump Bonding for Die-to-Wafer 3D Integration 査読有り

    Taku Suzuki, Kazushi Asami, Yasuhiro Kitamura, Takafumi Fukushima, Chisato Nagai, Jichoel Bea, Yutaka Sato, Mariappan Murugesan, Kang-wook Lee, Mitsumasa Koyanagi

    2015 IEEE 65TH ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC) 342-347 2015年

    DOI: 10.1109/ECTC.2015.7159615  

    ISSN:0569-5503

    eISSN:2377-5726

  184. Impact of Deep-Via Plasma Etching Process on Transistor Performance in 3D-IC with Via-Last Backside TSV 査読有り

    Yohei Sugawara, Hideto Hashiguchi, Seiya Tanikawa, Hisashi Kino, Kang-Wook Lee, Takafumi Fukusima, Mitsumasa Koyanagi, Tetsu Tanaka

    2015 IEEE 65TH ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC) 822-827 2015年

    DOI: 10.1109/ECTC.2015.7159687  

    ISSN:0569-5503

  185. Characterization of 3D Stacked High Resistivity Si Interposers with Polymer TSV liners for 3D RF Module

    Kwang-Seong Choi, Haksun Lee, Hyun-Cheol Bae, Yong-Sung Eom, Kangwook Lee, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi, Jin Ho Lee

    2015 IEEE 65TH ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC) 928-933 2015年

    DOI: 10.1109/ECTC.2015.7159705  

    ISSN:0569-5503

  186. Plasma Assisted Multichip-to-Wafer Direct Bonding Technology for Self-Assembly Based 3D Integration 査読有り

    H. Hashiguchi, H. Yonekura, T. Fukushima, M. Murugesan, H. Kino, K. -W. Lee, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2015 IEEE 65TH ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC) 1458-1463 2015年

    DOI: 10.1109/ECTC.2015.7159789  

    ISSN:0569-5503

  187. Novel Local Stress Evaluation Method in 3D IC Using DRAM Cell Array with Planar MOS Capacitors 査読有り

    Seiya Tanikawa, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi, Tetsu Tanaka

    2015 INTERNATIONAL 3D SYSTEMS INTEGRATION CONFERENCE (3DIC 2015) 59-61 2015年

    DOI: 10.1109/3DIC.2015.7334557  

    ISSN:2164-0157

  188. Reconfigured multichip-on-wafer (mCoW) Cu/oxide hybrid bonding technology for ultra-high density 3D integration using recessed oxide, thin glue adhesive, and thin metal capping layers 査読有り

    K. W. Lee, C. Nagai, A. Nakamura, H. Aizawa, J. C. Bea, M. Koyanagi, H. Hashiguchi, T. Fukushima, T. Tanaka

    2015 INTERNATIONAL 3D SYSTEMS INTEGRATION CONFERENCE (3DIC 2015) 31-34 2015年

    DOI: 10.1109/3DIC.2015.7334471  

    ISSN:2164-0157

  189. Consideration of Micro bump Layout for Reduction of Local Bending Stress Due to CTE Mismatch in 3D IC 査読有り

    Hisashi Kino, Hideto Hashiguchi, Seiya Tanikawa, Yohei Sugawara, Shunsuke Ikegaya, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi, Tetsu Tanaka

    2015 INTERNATIONAL 3D SYSTEMS INTEGRATION CONFERENCE (3DIC 2015) 260-263 2015年

    DOI: 10.1109/3DIC.2015.7334596  

    ISSN:2164-0157

  190. Transfer and Non-Transfer Stacking Technologies Based on Chip-to-Wafer Self-Asembly for High-Throughput and High-Precision Alignment and Microbump Bonding 査読有り

    Takafumi Fukushima, Taku Suzuki, Hideto Hashiguchi, Chisato Nagai, Jichoel Bea, Hiroyuki Hashimoto, Mariappan Murugesan, Kang-Wook Lee, Tetsu Tanaka, Kazushi Asami, Yasuhiro Kitamura, Mitsumasa Koyanagi

    2015 INTERNATIONAL 3D SYSTEMS INTEGRATION CONFERENCE (3DIC 2015) 134-137 2015年

    DOI: 10.1109/3DIC.2015.7334578  

    ISSN:2164-0157

  191. Vacuum-Assisted-Spin-Coating of Polyimide Liner for High-Aspect-Ratio TSVs Applications 査読有り

    Yangyang Yan, Yingtao Ding, Qianwen Chen, Kangwook Lee, Takafumi Fukushima, Mitsu Koyanagi

    2015 INTERNATIONAL 3D SYSTEMS INTEGRATION CONFERENCE (3DIC 2015) 84-88 2015年

    DOI: 10.1109/3DIC.2015.7334568  

    ISSN:2164-0157

  192. Mitigating Thermo Mechanical Stress in High Density 3D-LSI Through Dielectric Liners in Cu-Through Silicon Via _ mu-RS and mu-XRD Study 査読有り

    M. Murugesan, J. C. Bea, H. Hashimoto, K. W. Lee, M. Koyanagi, T. Fukushima, T. Tanaka

    2015 INTERNATIONAL 3D SYSTEMS INTEGRATION CONFERENCE (3DIC 2015) 179-183 2015年

    DOI: 10.1109/3DIC.2015.7334579  

    ISSN:2164-0157

  193. 回路動作の発熱によって三次元集積回路内に生成される局所応力の影響に関する研究

    木野久志, 橋口日出登, 谷川星野, 菅原陽平, 池ヶ谷俊介, 福島誉史, 福島誉史, 小柳光正, 田中徹, 田中徹

    マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 25th 355-358 2015年

    ISSN:2434-396X

  194. DRAMセルアレイの電荷保持特性を用いた3DICにおける局所曲げ応力の影響評価

    谷川星野, 木野久志, 福島誉史, 小柳光正, 田中徹

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 76th 12-124 2015年

  195. 3D IC用ビアラスト/バックサイドビアプロセスにおける高アスペクト比ビア形成がトランジスタに与える影響評価

    菅原陽平, 木野久志, 福島誉史, LEE K.-W., 小柳光正, 田中徹

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 76th 12-123-12-123 2015年

  196. チップ集積・フレキシブルケーブル一体化シリコン神経プローブの開発(集積化脳神経プローブシステムの開発 1)

    鈴木雄策, 谷卓治, 原島卓也, 木野久志, 福島誉史, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 76th 11-379 2015年

  197. 大脳皮質層別光刺激のための反射ミラー集積シリコン神経プローブの開発

    原島卓也, 谷卓治, 鈴木雄策, 森川拓実, 木野久志, 福島誉史, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 76th p11-381-p11-381 2015年

  198. 気相堆積重合によるポリイミド薄膜の形成とシリコン貫通配線への応用

    福島誉史, 福島誉史, MURUGESAN Mariappan, BEA Jichoel, LEE Kangwook, 小柳光正

    高分子学会予稿集(CD-ROM) 64 (2) 2015年

  199. 三次元積層型LSI作製のための高耐熱テンポラリー接着剤技術

    福島誉史, 福島誉史, MURUGESAN Mariappan, BEA Jichoel, LEE Kangwook, 小柳光正

    高分子学会予稿集(CD-ROM) 64 (2) 2015年

  200. シリコン貫通配線(TSV)と三次元集積化技術の研究開発動向 招待有り

    福島誉史, LEE Kang-Wook, 田中徹, 小柳光正

    センサ・マイクロマシンと応用システムシンポジウム(CD-ROM) 32nd 28pm3-D-1-1-28pm3-D-1-6 2015年

  201. 三次元集積化技術におけるチップ薄化に伴う局所曲げ応力のDRAMセルアレイを用いた評価

    谷川星野, 木野久志, 福島誉史, 小柳光正, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会東北支部学術講演会講演予稿集(Web) 70th 2015年

  202. Novel reconfigured wafer-to-wafer (W2W) hybrid bonding technology using ultra-high density nano-Cu filaments for exascale 2.5D/3D integration 査読有り

    K-W Lee, C. Nagai, J-C Bea, T. Fukushima, R. Suresh, X. Wu, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2015 IEEE INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING (IEDM) 185-188 2015年

    DOI: 10.1109/IEDM.2015.7409652  

  203. Mechanical Characteristics of Thin Die/Wafers in Three-Dimensional Large-Scale Integrated Systems 査読有り

    Murugesan Mariappan, Takafumi Fukushima, Jichoel C. Bea, Kang-Wook Lee, Mitsumasa Koyanagi

    IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING 27 (3) 341-346 2014年8月

    DOI: 10.1109/TSM.2014.2316917  

    ISSN:0894-6507

    eISSN:1558-2345

  204. Self-Assembly Based 3D and Heterointegration 査読有り

    Takafumi Fukushima, Jicheol Bea

    Handbook of 3D Integration 3 325-334 2014年7月21日

    出版者・発行元: Wiley Blackwell

    DOI: 10.1002/9783527670109.ch24  

  205. Impacts of Cu Contamination on Device Reliabilities in 3-D IC Integration 査読有り

    Kang-Wook Lee, Ji-Chel Bea, Yuki Ohara, Mariappan Murugesan, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    IEEE TRANSACTIONS ON DEVICE AND MATERIALS RELIABILITY 14 (1) 451-462 2014年3月

    DOI: 10.1109/TDMR.2013.2258022  

    ISSN:1530-4388

    eISSN:1558-2574

  206. Impacts of 3-D Integration Processes on Memory Retention Characteristics in Thinned DRAM Chip for High-Reliable 3-D DRAM 査読有り

    Kang-Wook Lee, Seiya Tanikawa, Mariappan Murugesan, Hideki Naganuma, Ji-Choel Bea, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES 61 (2) 379-385 2014年2月

    DOI: 10.1109/TED.2013.2295244  

    ISSN:0018-9383

    eISSN:1557-9646

  207. Reconfigured-Wafer-to-Wafer 3-D Integration Using Parallel Self-Assembly of Chips With Cu-SnAg Microbumps and a Nonconductive Film 査読有り

    Takafumi Fukushima, Jichoel Bea, Hisashi Kino, Chisato Nagai, Mariappan Murugesan, Hideto Hashiguchi, Kang-Wook Lee, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES 61 (2) 533-539 2014年2月

    DOI: 10.1109/TED.2013.2294831  

    ISSN:0018-9383

    eISSN:1557-9646

  208. Deteriorated Device Characteristics in 3D-LSI Caused by Distorted Silicon Lattice 査読有り

    Murugesan Mariappan, Yasuhiko Imai, Shigeru Kimura, Takafumi Fukushima, Ji-Choel Bea, Hisashi Kino, Kang-Wook Lee, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES 61 (2) 540-547 2014年2月

    DOI: 10.1109/TED.2013.2295463  

    ISSN:0018-9383

    eISSN:1557-9646

  209. Impacts of Cu Contamination in 3D Integration Process on Memory Retention Characteristics in Thinned DRAM Chip 査読有り

    Kangwook Lee, Seiya Tanikawa, Hideki Naganuma, Jichel Bea, Mariappine Murugesan, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    2014 IEEE INTERNATIONAL RELIABILITY PHYSICS SYMPOSIUM 2014年

    ISSN:1541-7026

  210. Via-Last/Backside-Via 3D Integration Using a Visible-Light Laser Debonding Technique 査読有り

    T. Fukushima, M. Mariappan, J. -C. Bea, H. Hashimoto, Y. Sato, M. Motoyoshi, K. -W. Lee, M. Koyanagi

    2014 4TH IEEE INTERNATIONAL WORKSHOP ON LOW TEMPERATURE BONDING FOR 3D INTEGRATION (LTB-3D) 13-13 2014年

  211. Barrier Properties of CVD Mn Oxide Layer to Cu Diffusion for 3-D TSV 査読有り

    Kang-Wook Lee, Hao Wang, Ji-Cheol Bea, Mariappan Murugesan, Yuji Sutou, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Junichi Koike, Mitsumasa Koyanagi

    IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS 35 (1) 114-116 2014年1月

    DOI: 10.1109/LED.2013.2287879  

    ISSN:0741-3106

    eISSN:1558-0563

  212. Highly Beneficial Organic Liner with Extremely Low Thermal Stress for Fine Cu-TSV in 3D-Integration 査読有り

    M. Murugesan, T. Fukushima, J. C. Bea, Y. Sato, H. Hashimoto, K. W. Lee, M. Koyanagi

    2014 IEEE INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING (IEDM) 374-377 2014年

  213. Highly Dependable 3-D Stacked Multicore Processor System Module Fabricated Using Reconfigured Multichip-on-Wafer 3-D Integration Technology 査読有り

    K-W. Lee, H. Hashimoto, M. Onishi, S. Konno, Y. Sato, C. Nagai, J-C Bea, M. Murugesan, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2014 IEEE INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING (IEDM) 669-672 2014年

  214. A Study on Positive Photosensitive Epoxy Resins Using Reaction Development Patterning (RDP) 査読有り

    Wei Min Zhou, Takafumi Fukushima, Masao Tomoi, Toshiyuki Oyama

    JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY 27 (6) 713-717 2014年

    DOI: 10.2494/photopolymer.27.713  

    ISSN:0914-9244

  215. Wafer Thinning for High-Density Three Dimensional Integration _ 12-Inch Wafer-Level 3D-LSI Program at GINTI 査読有り

    M. Murugesan, T. Fukushima, J. C. Bea, H. Hashimoto, Y. Sato, K. W. Lee, M. Koyanagi

    2014 25TH ANNUAL SEMI ADVANCED SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CONFERENCE (ASMC) 57-61 2014年

    DOI: 10.1109/ASMC.2014.6846977  

    ISSN:1078-8743

  216. A New Temporary Bonding Technology with Spin-on Glass and Hydrogenated Amorphous Si for 3D LSIs 査読有り

    H. Hashiguchi, T. Fukushima, H. Kino, K. -W. Lee, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2014 INTERNATIONAL CONFERENCE ON ELECTRONICS PACKAGING (ICEP) 74-77 2014年

    DOI: 10.1109/ICEP.2014.6826664  

  217. A Resilient 3-D Stacked Multicore Processor Fabricated Using Die-level 3-D Integration and Backside TSV Technologies 査読有り

    K-W. Lee, H. Hashimoto, M. Onishi, Y. Sato, M. Murugesan, J-C Bea, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2014 IEEE 64TH ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC) 304-308 2014年

    DOI: 10.1109/ECTC.2014.6897303  

    ISSN:0569-5503

  218. Replacing the PECVD-SiO2 in the Through-Silicon Via of High-Density 3D LSIs with Highly Scalable Low Cost Organic Liner: Merits and Demerits 査読有り

    Murugesan Mariappan, Takafumi Fukushima, JiChel Beatrix, Hiroyuki Hashimoto, Yutaka Sato, Kangwook Lee, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    2014 IEEE 64TH ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC) 636-640 2014年

    DOI: 10.1109/ECTC.2014.6897353  

    ISSN:0569-5503

    eISSN:2377-5726

  219. Temporary Spin-on Glass Bonding Technologies for Via-Last/Backside-Via 3D Integration Using Multichip Self-Assembly 査読有り

    H. Hashiguchi, T. Fukushima, A. Noriki, H. Kino, K. -W. Lee, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2014 IEEE 64TH ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC) 856-861 2014年

    DOI: 10.1109/ECTC.2014.6897386  

    ISSN:0569-5503

  220. Minimization of Keep-Out-Zone (KOZ) in 3D IC by Local Bending Stress Suppression with Low Temperature Curing Adhesive 査読有り

    Hisashi Kino, Hideto Hashiguchi, Yohei Sugawara, Seiya Tanikawa, Takafumi Fukushima, Kangwook Lee, Mitsumasa Koyanagi, Tetsu Tanaka

    2014 IEEE 64TH ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC) 1110-1115 2014年

    DOI: 10.1109/ECTC.2014.6897428  

    ISSN:0569-5503

  221. Direct Multichip-to-Wafer 3D Integration Technology Using Flip-Chip Self-Assembly of NCF-Covered Known Good Dies 査読有り

    Yuka Ito, Mariappan Murugesan, Takafumi Fukushima, Kang-Wook Lee, Koji Choki, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    2014 IEEE 64TH ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC) 1148-1153 2014年

    DOI: 10.1109/ECTC.2014.6897434  

    ISSN:0569-5503

  222. Via-last/backside-via 3D integration using a visible-light laser debonding technique 査読有り

    T. Fukushima, M. Mariappan, J. C. Bea, H. Hashimoto, Y. Sato, M. Motoyoshi, K. W. Lee, M. Koyanagi

    Proceedings of 2014 4th IEEE International Workshop on Low Temperature Bonding for 3D Integration, LTB-3D 2014 13-70 2014年

    出版者・発行元: IEEE Computer Society

    DOI: 10.1109/LTB-3D.2014.6886152  

  223. Highly Thermoresistant Temporary Bonding/Debonding System without Organic Adhesives for 3D Integration 査読有り

    H. Hashiguchi, T. Fukushima, M. Murugesan, J. -C. Bea, H. Kino, K. -W. Lee, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2014 4TH IEEE INTERNATIONAL WORKSHOP ON LOW TEMPERATURE BONDING FOR 3D INTEGRATION (LTB-3D) 14-14 2014年

    DOI: 10.1109/LTB-3D.2014.6886153  

  224. Surface-Tension Driven Self-Assembly for VCSEL Chip Bonding to Achieve 3D and Hetero Integration 査読有り

    Y. Ito, T. Fukushima, K. -W. Lee, K. Choki, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2014 4TH IEEE INTERNATIONAL WORKSHOP ON LOW TEMPERATURE BONDING FOR 3D INTEGRATION (LTB-3D) 15-15 2014年

    DOI: 10.1109/LTB-3D.2014.6886154  

  225. Characterization of Vapor Deposited Polyimides and Process Integration with the Polymeric Liner for Via-Last/Backside-Via Cu-TSV Formation 査読有り

    Takafumi Fukushima, Murugesan Mariappan, Jichoel Bea, Kang-Wook Lee, Mitsumasa Koyanagi

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 720-721 2014年

  226. Stress Distribution Pattern in Cross-Sectional 3D-LSI Examined by u-XRD 査読有り

    M. Mariappan, J.C. Bea, T. Fukushima, K.W. Lee, M. Koyaangi

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 724-725 2014年

  227. Investigation of the Plasma Damage by Etching Process for TSV Formation in Via-last Backside-via 3D IC 査読有り

    Y. Sugawara, H. Hashiguchi, S. Tanikawa, H. Kino, K. Lee, T. Fukushima, M. Koyanagi, T. Tanaka

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 726-727 2014年

  228. Tiny VCSEL Chip Self-Assembly for Advanced Chip-to-Wafer 3D and Hetero Integration 査読有り

    Takafumi Fukushima, Yuka Ito, Mariappan Murugesan, Jicheol Bea, Kangwook Lee, Koji Choki, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    2014 INTERNATIONAL 3D SYSTEMS INTEGRATION CONFERENCE (3DIC) O4 2014年

    ISSN:2164-0157

  229. Effects of Electro-less Ni Layer as Barrier/Seed Layers for High Reliable and Low Cost Cu TSV 査読有り

    K. W. Lee, C. Nagai, A. Nakamura, J. C. Bea, M. Murugesan, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2014 INTERNATIONAL 3D SYSTEMS INTEGRATION CONFERENCE (3DIC) O13 2014年

    ISSN:2164-0157

  230. Micro-XRD Investigation of Fine-Pitch Cu-TSV Induced Thermo-Mechanical Stress in High-Density 3D-LSI 査読有り

    M. Murugesan, T. Fukushima, J. C. Bea, K. W. Lee, M. Koyanagi, Y. Imai, S. Kimura, T. Tanaka

    2014 INTERNATIONAL 3D SYSTEMS INTEGRATION CONFERENCE (3DIC) O18 2014年

    ISSN:2164-0157

  231. Die-Level 3-D Integration Technology for Rapid Prototyping of High-Performance Multifunctionality Hetero-Integrated Systems 査読有り

    Kang-Wook Lee, Yuki Ohara, Kouji Kiyoyama, Ji-Cheol Bea, Mariappan Murugesan, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES 60 (11) 3842-3848 2013年11月

    DOI: 10.1109/TED.2013.2280273  

    ISSN:0018-9383

    eISSN:1557-9646

  232. Degradation of Memory Retention Characteristics in DRAM Chip by Si Thinning for 3-D Integration 査読有り

    Kangwook Lee, Seiya Tanikawa, Mariappine Murugesan, Hideki Naganuma, Haro Shimamoto, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS 34 (8) 1038-1040 2013年8月

    DOI: 10.1109/LED.2013.2265336  

    ISSN:0741-3106

    eISSN:1558-0563

  233. Investigation of Local Bending Stress Effect on Complementary Metal–Oxide–Semiconductor Characteristics in Thinned Si Chip for Chip-to-Wafer Three-Dimensional Integration 査読有り

    Hisashi Kino, Ji Cheol Bea, Mariappan Murugesan, Kang, Wook Lee, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi, Tetsu Tanaka

    Japanese Journal of Applied Physics 52 (4) 04CB11-1-04CB11-5 2013年4月

    DOI: 10.7567/JJAP.52.04CB11  

    ISSN:0021-4922 1347-4065

  234. Reductant-Assisted Self-Assembly with Cu/Sn Microbump for Three-Dimensional Heterogeneous Integration 査読有り

    Yuka Ito, Takafumi Fukushima, Kang-Wook Lee, Koji Choki, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 52 (4) 04CB09-1-04CB09-6 2013年4月

    DOI: 10.7567/JJAP.52.04CB09  

    ISSN:0021-4922

    eISSN:1347-4065

  235. 3D Hetero-Integration Technology with Backside TSV and Reliability Challenges 査読有り

    Kang-Wook Lee, M. Murugesan, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2013 IEEE SOI-3D-SUBTHRESHOLD MICROELECTRONICS TECHNOLOGY UNIFIED CONFERENCE (S3S) 2013年

  236. Challenges in 3D Integration 査読有り

    Mitsumasa Koyanagi, Kang Wook Lee, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    SILICON COMPATIBLE MATERIALS, PROCESSES, AND TECHNOLOGIES FOR ADVANCED INTEGRATED CIRCUITS AND EMERGING APPLICATIONS 3 53 (3) 237-244 2013年

    DOI: 10.1149/05303.0237ecst  

    ISSN:1938-5862

    eISSN:1938-6737

  237. Revisiting the Silicon-Lattice in the High-Density 3D-LSIs - In the Perspective of Device Reliability 査読有り

    M. Murugesan, T. Fukushima, J. C. Bea, K. W. Lee, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2013 IEEE INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING (IEDM) 172-175 2013年

    DOI: 10.1109/IEDM.2013.6724578  

  238. Characterization and Reliability of 3D LSI and SiP 査読有り

    K-W. Lee, M. Murugesan, Jichel Bea, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2013 IEEE INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING (IEDM) 176-179 2013年

    DOI: 10.1109/IEDM.2013.6724579  

  239. 3次元システムLSI開発のためのチップレベルTSVプロセス 査読有り

    朴澤一幸, 古田太, 花岡裕子, 青木真由, 長田健一, 武田健一, LEE Kang Wook, 福島誉史, 小柳光正

    電子情報通信学会論文誌 C J96-C (11) 335-343 2013年

    ISSN:1345-2827

  240. Chip-to-Wafer 3D Stacking Using Self-Assembly and Electrostatic Temporary Bonding/Debonding 査読有り

    H. Hashiguchi, T. Fukushima, J. Bea, H. Kino, K.-W. Lee, T. Tanaka, M. Koyanagi

    Proceedings of International Conference on Electronics Packaging (ICEP) 502-505 2013年

  241. 3D Integration technologies using self-assembly and electrostatic temporary multichip bonding 査読有り

    T. Fukushima, H. Hashiguchi, J. Bea, M. Murugesan, K. W. Lee, T. Tanaka, M. Koyanagi

    Proceedings - Electronic Components and Technology Conference 58-63 2013年

    DOI: 10.1109/ECTC.2013.6575550  

    ISSN:0569-5503

  242. Impacts of static and dynamic local bending of thinned Si chip on MOSFET performance in 3-D stacked LSI 査読有り

    H. Kino, J. C. Bea, M. Murugesan, K. W. Lee, T. Fukushima, M. Koyanagi, T. Tanaka

    Proceedings - Electronic Components and Technology Conference 360-365 2013年

    DOI: 10.1109/ECTC.2013.6575596  

    ISSN:0569-5503

  243. Flux-Assisted Self-Assembly with Microbump Bonding for 3D Heterogeneous Integration 査読有り

    Yuka Ito, Takafumi Fukushima, Kang-Wook Lee, Koji Choki, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    2013 IEEE 63RD ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC) 891-896 2013年

    DOI: 10.1109/ECTC.2013.6575679  

  244. Young Modulus of Si in 3D-LSIs and Reliability 査読有り

    M. Murugesan, J.C. Bea, T. Fukushima, K.W. Lee, T. Tanaka, M. Koyanagi

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 38-39 2013年

  245. Self-Assembly and Electrostatic (SAE) Carrier Technology for Via-Last Backside-Via Multichip-to-Wafer 3D Integration 査読有り

    H. Hashiguchi, T. Fukushima, J.C. Bea, K.W. Lee, T. Tanaka, M. Koyanagi

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 40-41 2013年

  246. Local Bending Stress Reduction with Room-Temperature Curing Adhesive for Decrease in Keep-out-Zone (KOZ) of 3D-IC 査読有り

    H. Kino, T. Fukushima, K.-W. Lee, M. Koyanagi, T. Tanaka

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 862-863 2013年

  247. Low-Temperature and High-Step-Coverage Polyimide TSV Liner Formation by Vapor Deposition Polymerization 査読有り

    T. Fukushima, M. Murugesan, J. Bea, K.W. Lee, M. Koyanagi

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 866-867 2013年

  248. Self-Assembly Study to Precisely Align Dies Having Microbump Covered with Non-Conductive Film for Advanced Chip-to-Wafer 3D Integration 査読有り

    Y. Ito, T. Fukushima, K.W. Lee, K. Choki, T. Tanaka, M. Koyanagi

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 988-989 2013年

  249. Mechanical Characteristics of Thin Dies/Wafers in Three-Dimensional Large-Scale Integrated systems 査読有り

    M. Murugesan, T. Fukushima, J. C. Bea, K. W. Lee, M. Koyanagi, T. Tanaka

    2013 24TH ANNUAL SEMI ADVANCED SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CONFERENCE (ASMC) 66-69 2013年

    DOI: 10.1109/ASMC.2013.6552777  

    ISSN:1078-8743

  250. Impact of 3-D integration process on memory retention characteristics in thinned DRAM chip for 3-D memory 査読有り

    K-W Lee, S. Tanikawa, M. Murugesan, H. Naganuma, J-C Bea, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2013 IEEE INTERNATIONAL 3D SYSTEMS INTEGRATION CONFERENCE (3DIC) 2013年

    DOI: 10.1109/3DIC.2013.6702336  

    ISSN:2164-0157

  251. Highly Efficient TSV Repair Technology for Resilient 3-D Stacked Multicore Processor System 査読有り

    H. Hashimoto, T. Fukushima, K. W. Lee, M. Koyanagi, T. Tanaka

    2013 IEEE INTERNATIONAL 3D SYSTEMS INTEGRATION CONFERENCE (3DIC) 2013年

    DOI: 10.1109/3DIC.2013.6702338  

    ISSN:2164-0157

  252. 3D Memory Chip Stacking by Multi-Layer Self-Assembly Technology 査読有り

    T. Fukushima, J. Bea, M. Murugesan, H. -Y. Son, M. -S. Sun, K. -Y. Byun, N. -S. Kim, K. -W. Lee, M. Koyanagi

    2013 IEEE INTERNATIONAL 3D SYSTEMS INTEGRATION CONFERENCE (3DIC) 2013年

    DOI: 10.1109/3DIC.2013.6702360  

    ISSN:2164-0157

  253. A Block-Parallel ADC with Digital Noise Cancelling for 3-D Stacked CMOS Image Sensor 査読有り

    K. Kiyoyama, Y. Sato, H. Hashimoto, K-W Lee, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2013 IEEE INTERNATIONAL 3D SYSTEMS INTEGRATION CONFERENCE (3DIC) 2013年

    DOI: 10.1109/3DIC.2013.6702363  

    ISSN:2164-0157

  254. Effect of CVD Mn Oxide Layer as Cu Diffusion Barrier for TSV 査読有り

    M. Murugesan, J. C. Bea, K. W. Lee, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi, Y. Sutou, H. Wang, J. Koike

    2013 IEEE INTERNATIONAL 3D SYSTEMS INTEGRATION CONFERENCE (3DIC) 2013年

    DOI: 10.1109/3DIC.2013.6702364  

    ISSN:2164-0157

  255. Development of Via-Last 3D Integration Technologies Using a New Temporary Adhesive System 査読有り

    T. Fukushima, J. Bea, M. Murugesan, K. -W. Lee, M. Koyanagi

    2013 IEEE INTERNATIONAL 3D SYSTEMS INTEGRATION CONFERENCE (3DIC) 2013年

    DOI: 10.1109/3DIC.2013.6702383  

    ISSN:2164-0157

  256. Multichip-to-Wafer Three-Dimensional Integration Technology Using Chip Self-Assembly With Excimer Lamp Irradiation 査読有り

    Takafumi Fukushima, Eiji Iwata, Yuki Ohara, Mariappan Murugesan, Jichoel Bea, Kangwook Lee, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES 59 (11) 2956-2963 2012年11月

    DOI: 10.1109/TED.2012.2212709  

    ISSN:0018-9383

    eISSN:1557-9646

  257. Instability-driven terahertz emission and injection locking behavior in an asymmetric dual-grating-gate HEMT with a vertical cavity structure 査読有り

    T. Watanabe, T. Fukushima, Y. Kurita, A. Satou, T. Otsuji

    ICMNE: Int. Conf. on Micro and Nanoelectronics, Moscow, Russia, Oct. 1-5, 2012. 1 (1) P1-43 2012年10月3日

  258. Pillar-shaped stimulus electrode array for high-efficiency stimulation of fully implantable epiretinal prosthesis 査読有り

    Kang-Wook Lee, Yoshinobu Watanabe, Chikashi Kigure, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi, Tetsu Tanaka

    JOURNAL OF MICROMECHANICS AND MICROENGINEERING 22 (10) 2012年10月

    DOI: 10.1088/0960-1317/22/10/105015  

    ISSN:0960-1317

    eISSN:1361-6439

  259. Impact of Cu Contamination on Memory Retention Characteristics in Thinned DRAM Chip for 3-D Integration 査読有り

    Kangwook Lee, Takaharu Tani, Hideki Naganuma, Yuki Ohara, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS 33 (9) 1297-1299 2012年9月

    DOI: 10.1109/LED.2012.2202631  

    ISSN:0741-3106

    eISSN:1558-0563

  260. High-step-coverage Cu-lateral interconnections over 100 μm thick chips on a polymer substrate—an alternative method to wire bonding 査読有り

    M Murugesan, T Fukushima, K Kiyoyama, J-C Bea, T Tanaka, M Koyanagi

    JOURNAL OF MICROMECHANICS AND MICROENGINEERING 22 (8) 2012年8月

    DOI: 10.1088/0960-1317/22/8/085033  

    ISSN:0960-1317

    eISSN:1361-6439

  261. Low-Resistance Cu-Sn Electroplated-Evaporated Microbumps for 3D Chip Stacking 査読有り

    M. Murugesan, Y. Ohara, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    JOURNAL OF ELECTRONIC MATERIALS 41 (4) 720-729 2012年4月

    DOI: 10.1007/s11664-012-1949-1  

    ISSN:0361-5235

  262. Impact of Data Transmission over 10 Gbps on High-Density and Low-Cost Optoelectronic Module with Polynorbornene Waveguides 査読有り

    Yuka Ito, Shinsuke Terada, Shinya Arai, Makoto Fujiwara, Tetsuya Mori, Koji Choki, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 51 (4) 04DG01-1-04DG01-4 2012年4月

    DOI: 10.1143/JJAP.51.04DG01  

    ISSN:0021-4922

    eISSN:1347-4065

  263. Through-Silicon Photonic Via and Unidirectional Coupler for High-Speed Data Transmission in Optoelectronic Three-Dimensional LSI 査読有り

    Akihiro Noriki, Kangwook Lee, Jicheol Bea, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS 33 (2) 221-223 2012年2月

    DOI: 10.1109/LED.2011.2174608  

    ISSN:0741-3106

  264. Heterogeneous 3D Integration Technology and New 3D LSIs 査読有り

    Mitsumasa Koyanagi, Kang-Wook Lee, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    2012 IEEE 11TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON SOLID-STATE AND INTEGRATED CIRCUIT TECHNOLOGY (ICSICT-2012) 240-243 2012年

  265. Chip-Based Hetero-Integration Technology for High-Performance 3D Stacked Image Sensor 査読有り

    Yuki Ohara, Kang Wook Lee, Koji Kiyoyama, Shigehide Konno, Yutaka Sato, Shuichi Watanabe, Atsushi Yabata, Harufumi Kobayashi, Tadashi Kamada, Jichel Bea, Mariappan Murugesan, Hiroyuki Hashimoto, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    2012 2ND IEEE CPMT SYMPOSIUM JAPAN 2012年

    ISSN:2373-5449

  266. Minimizing the Local Deformation Induced around Cu-TSVs and CuSn/InAu-Microbumps in High-Density 3D-LSIs 査読有り

    M. Murugesan, H. Kobayashi, H. Shimamoto, F. Yamada, T. Fukushima, J. C. Bea, K. W. Lee, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2012 IEEE INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING (IEDM) 657-660 2012年

    DOI: 10.1109/IEDM.2012.6479124  

  267. Characterization of Chip-level Hetero-Integration Technology for High-Speed, Highly Parallel 3D-Stacked Image Processing System 査読有り

    K-W Lee, Y. Ohara, K. Kiyoyama, S. Konno, Y. Sato, S. Watanabe, A. Yabata, T. Kamada, J-C Bea, H. Hashimoto, M. Murugesan, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2012 IEEE INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING (IEDM) 785-788 2012年

    DOI: 10.1109/IEDM.2012.6479156  

  268. New Chip-to-Wafer 3D Integration Technology Using Hybrid Self-Assembly and Electrostatic Temporary Bonding 査読有り

    T. Fukushima, H. Hashiguchi, J. Bea, Y. Ohara, M. Murugesan, K. -W. Lee, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2012 IEEE INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING (IEDM) 789-792 2012年

    DOI: 10.1109/IEDM.2012.6479157  

  269. Impact of Cu Diffusion from Cu Through-Silicon Via (TSV) on Device Reliability in 3-D LSIs Evaluated by Transient Capacitance Measurement 査読有り

    Kangwook Lee, Jichel Bea, Yuki Ohara, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    2012 IEEE INTERNATIONAL RELIABILITY PHYSICS SYMPOSIUM (IRPS) 2B.4.1-2B.4.6 2012年

    DOI: 10.1109/IRPS.2012.6241777  

  270. Thermomechanical reliability challenges induced by high density Cu TSVs and metal micro-joining for 3-D ICs 査読有り

    Kangwook Lee, Itakafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Imitsumasa Koyanagi

    2012 IEEE INTERNATIONAL RELIABILITY PHYSICS SYMPOSIUM (IRPS) 5F.2.1-5F.2.4 2012年

    DOI: 10.1109/IRPS.2012.6241860  

  271. Self-assembly-based 3D integration technologies 査読有り

    T. Fukushima, J. Bea, M. Murugesan, K. W. Lee, T. Tanaka, M. Koyanagi

    Proceedings of 2012 3rd IEEE International Workshop on Low Temperature Bonding for 3D Integration, LTB-3D 2012 151-152 2012年

    DOI: 10.1109/LTB-3D.2012.6238075  

  272. Non-Conductive Film and Compression Molding Technology for Self-Assembly-Based 3D Integration 査読有り

    T. Fukushima, Y. Ohara, J. Bea, M. Murugesan, K. -W. Lee, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2012 IEEE 62ND ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC) 393-398 2012年

    DOI: 10.1109/ECTC.2012.6248860  

  273. Locally Induced Stress in Stacked Ultrathin Si wafers: XPS and mu-Raman study 査読有り

    M. Murugesan, H. Nohira, H. Kobayashi, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2012 IEEE 62ND ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC) 625-629 2012年

    DOI: 10.1109/ECTC.2012.6248896  

  274. Optical interconnect technology for 3-D LSI and neural engineering applications 査読有り

    T. Tanaka, A. Noriki, T. Kukushima, K-W Lee, M. Koyanagi

    2012 IEEE INTERNATIONAL INTERCONNECT TECHNOLOGY CONFERENCE (IITC) 2012年

  275. Demonstration of inter-chip data transmission in a three-dimensional stacked chip fabricated by chip-level TSV integration 査読有り

    Kazuyuki Hozawa, Futoshi Furuta, Yuko Hanaoka, Mayu Aoki, Kenichi Osada, Kenichi Takeda, Kang Wook Lee, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi

    Digest of Technical Papers - Symposium on VLSI Technology 175-176 2012年

    DOI: 10.1109/VLSIT.2012.6242518  

    ISSN:0743-1562

  276. 10μm-Pitch In-Au Microbump Interconnection by Chip Self-Assembly with Excimer Lamp Irradiation for 3D LSI Applications 査読有り

    Takafumi Fukushima, Jichoel Bea, Mariappan Murugesan, Kang-Wook Lee, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 46-47 2012年

  277. Grapho-Assembly Technology for Sub-Micron Accuracy 3D Chip Stacking with High-Density Through-Si Vias and Metal Microbumps 査読有り

    Takafumi Fukushima, Masaki Onishi, Jichoel Bea, Sayuri Hioki, Mariappan Murugesan, Kang-Wook Lee, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 48-49 2012年

  278. The Influence of Cu Diffusion from Cu Through-Silicon Via(TSV) on Device Reliability in the 3D LSI by Using C–V and C–t Measurements 査読有り

    Jichoel Bea, Kang-Wook Lee, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 50-51 2012年

  279. Analysis of Local Bending Stress Effect on CMOS Performance Fabricated in Thinned Si Chip for Chip-to-Wafer 3D Integration 査読有り

    H. Kino, J-C. Bea, M. Murugesan, K-W. Lee, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 52-53 2012年

  280. Optoelectronic Heterogeneous Integration Technology, Using Reductant-Assisted Self-Assembly with Cu/Sn Microbump 査読有り

    Yuka Ito, Takafumi Fukushima, Kang-Wook Lee, Koji Choki, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 1176-1177 2012年

  281. Electrostatic Temporary Bonding Technology and TSV Formation for Reconfigured Wafer-to-Wafer 3D Integration 査読有り

    Hideto Hashiguchi, Jichoel Bea, Yuki Ohara, Takafumi Fukushima, Kang-Wook Lee, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 1183-1184 2012年

  282. Reliability Challenges in High-Density 3D-Integration 査読有り

    M. Murugesan, H. Kobayashi, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 1185-1186 2012年

  283. Cu Contamination Assessment and Control in 3-D Integration 査読有り

    Mitsumasa Koyanagi, Kang Wook Lee, Jicheol Bea, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    The 222nd ECS Meeting: PRiME (Pacific Rim Meeting) 2012年

  284. Long Term Retention Characteristics of MOS Memory Devices with Self-Assembled Tungsten Nano-Dot Dispersed in Silicon Nitride 査読有り

    Y. Pei, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    Materials Research Society (MRS) 2008 Spring Meeting, Symposium F: Materials Science and Technology for Nonvolatile Memories, F2.4 2012年

  285. Multichip Self-Assembly Technology for Advanced Die-to-Wafer 3-D Integration to Precisely Align Known Good Dies in Batch Processing 査読有り

    Takafumi Fukushima, Eiji Iwata, Yuki Ohara, Mariappan Murugesan, Jichoel Bea, Kangwook Lee, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    IEEE TRANSACTIONS ON COMPONENTS PACKAGING AND MANUFACTURING TECHNOLOGY 1 (12) 1873-1884 2011年12月

    DOI: 10.1109/TCPMT.2011.2160266  

    ISSN:2156-3950

    eISSN:2156-3985

  286. Advanced die-to-wafer 3D integration platform: Self-assembly technology 査読有り

    Takafumi Fukushima, Kang-Wook Lee, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    3D Integration for VLSI Systems 153-174 2011年9月30日

    出版者・発行元: Pan Stanford Publishing Pte. Ltd.

    DOI: 10.4032/9789814303828  

  287. Evaluation of Cu Diffusion From Cu Through-Silicon Via (TSV) in Three-Dimensional LSI by Transient Capacitance Measurement 査読有り

    Jichel Bea, Kangwook Lee, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS 32 (7) 940-942 2011年7月

    DOI: 10.1109/LED.2011.2141109  

    ISSN:0741-3106

    eISSN:1558-0563

  288. MOSFET Nonvolatile Memory with High-Density Cobalt-Nanodots Floating Gate and HfO2 High-k Blocking Dielectric 査読有り

    Yanli Pei, Chengkuan Yin, Toshiya Kojima, Ji-Cheol Bea, Hisashi Kino, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    IEEE TRANSACTIONS ON NANOTECHNOLOGY 10 (3) 528-531 2011年5月

    DOI: 10.1109/TNANO.2010.2050331  

    ISSN:1536-125X

  289. Three-Dimensional Hybrid Integration Technology of CMOS, MEMS, and Photonics Circuits for Optoelectronic Heterogeneous Integrated Systems 査読有り

    Kang-Wook Lee, Akihiro Noriki, Kouji Kiyoyama, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES 58 (3) 748-757 2011年3月

    DOI: 10.1109/TED.2010.2099870  

    ISSN:0018-9383

    eISSN:1557-9646

  290. Self-Assembly of Chip-Size Components with Cavity Structures: High-Precision Alignment and Direct Bonding without Thermal Compression for Hetero Integration 査読有り

    Takafumi Fukushima, Takayuki Konno, Eiji Iwata, Risato Kobayashi, Toshiya Kojima, Mariappan Murugesan, Ji-Chel Bea, Kang-Wook Lee, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    MICROMACHINES 2 (1) 49-68 2011年3月

    DOI: 10.3390/mi2010049  

    ISSN:2072-666X

  291. Electrical evaluation of Cu contamination behavior at the backside surface of a thinned wafer by transient capacitance measurement 査読有り

    K-W Lee, J-C Bea, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY 26 (2) 2011年2月

    DOI: 10.1088/0268-1242/26/2/025007  

    ISSN:0268-1242

    eISSN:1361-6641

  292. Chip-level TSV integration for rapid prototyping of 3D system LSIs 査読有り

    Kazuyuki Hozawa, Futoshi Furuta, Yuko Hanaoka, Mayu Aoki, Kenichi Takeda, Katsuyuki Sakuma, Kang Wook Lee, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi

    2011 IEEE International 3D Systems Integration Conference, 3DIC 2011 2011年

    DOI: 10.1109/3DIC.2012.6262952  

  293. Stacked SOI pixel detector using versatile fine pitch μ-bump technology 査読有り

    Makoto Motoyoshi, Junichi Takanohashi, Takafumi Fukushima, Yasuo Arai, Mitsumasa Koyanagi

    2011 IEEE International 3D Systems Integration Conference, 3DIC 2011 2011年

    DOI: 10.1109/3DIC.2012.6262959  

  294. 3D Integration Technology and Reliability Challenges 査読有り

    Kangwook Lee, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    2011 IEEE ELECTRICAL DESIGN OF ADVANCED PACKAGING AND SYSTEMS SYMPOSIUM (EDAPS) 2011年

    ISSN:2151-1225

  295. Cu Retardation Performance of Extrinsic Gettering Layers in Thinned Wafers Evaluated by Transient Capacitance Measurement 査読有り

    K-W. Lee, J-C. Bea, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY 158 (8) H795-H799 2011年

    DOI: 10.1149/1.3597317  

    ISSN:0013-4651

    eISSN:1945-7111

  296. Energy Band Engineering of Metal Nanodots for High Performance Nonvolatile Memory Application 査読有り

    Yanli Pei, Tatsuro Hiraki, Toshiya Kojima, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi, Tetsu Tanaka

    TECHNOLOGY EVOLUTION FOR SILICON NANO-ELECTRONICS 470 140-+ 2011年

    DOI: 10.4028/www.scientific.net/KEM.470.140  

    ISSN:1013-9826

  297. 三次元集積化技術とヘテロインテグレーション 査読有り

    小柳光正, 福島誉史, LEE Kangwook, 田中徹

    電子情報通信学会論文誌 C J94-C (11) 355-364 2011年

    ISSN:1345-2827

  298. 三次元チップ積層のための電解めっきと蒸着法を用いた高密度Cu/Snマイクロバンプ形成技術 査読有り

    大原悠希, 乗木暁博, LEE Kang-Wook, 福島誉史, 田中徹, 田中徹, 小柳光正

    電子情報通信学会論文誌 C J94-C (11) 394-401 2011年

    ISSN:1345-2827

  299. シリコンバンプ上に積層した薄化チップの曲げ応力とデバイス特性評価 査読有り

    木野久志, MURUGESAN Mariappan, 小島俊哉, 福島誉史, 田中徹, 田中徹, 小柳光正

    電子情報通信学会論文誌 C J94-C (11) 411-418 2011年

    ISSN:1345-2827

  300. Evaluation of Cu Contamination at Backside Surface of Thinned Wafer in 3-D Integration by Transient-Capacitance Measurement 査読有り

    Jichel Bea, Kangwook Lee, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS 32 (1) 66-68 2011年1月

    DOI: 10.1109/LED.2010.2087004  

    ISSN:0741-3106

    eISSN:1558-0563

  301. High Density 3D LSI Technology using W/Cu Hybrid TSVs 査読有り

    M. Murugesan, H. Kino, A. Hashiguchi, C. Miyazaki, H. Shimamoto, H. Kobayashi, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2011 IEEE INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING (IEDM) 139-142 2011年

    DOI: 10.1109/IEDM.2011.6131503  

  302. Development of 5 µm Diameter Backside Cu TSV Technology for 3D LSI 査読有り

    Yuki Ohara, Yoshitomo Watanabe, Kangwook Lee, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    Proceedings of the International Conference on Electronics Packaging (ICEP) 237-240 2011年

  303. Self-Assembly Technologies with High-Precision Chip Alignment and Fine-Pitch Microbump Bonding for Advanced Die-to-Wafer 3D Integration 査読有り

    T. Fukushima, Y. Ohara, M. Murugesan, J. -C. Bea, K. -W. Lee, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2011 IEEE 61ST ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC) 2050-2055 2011年

    DOI: 10.1109/ECTC.2011.5898799  

    ISSN:0569-5503

  304. 3D LSI Technology and Reliability Issues 査読有り

    T. Tanaka, J. Bea, M. Murugesan, K. Lee, T. Fukushima, M. Koyanagi

    Proceedings of the 2011 Symposium on VLSI Technology 184-185 2011年

  305. Thinning Process Induced Surface Defects in Ultra-Thin Si Wafer 査読有り

    M. Murugesan, H. Nohira, C. Miyazaki, H. Shimamoto, H. Kobayashi, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 50-51 2011年

  306. Evaluation of Reconfigurable Processor Test Chip for Dependable 3D Stacked Multicore Processor 査読有り

    H. Hashimoto, T. Fukushima, K-W. Lee, T. Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 168-169 2011年

  307. Development of Implantable Si Neural Probe with Stimulus and Recording Electrodes for Deep Brain Stimulation 査読有り

    Yoshiho Yukita, Sanghoon Lee, Soichiro Kanno, Kangwook Lee, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi, Norihiro Katayama, Hajime Mushiake, Tetsu Tanaka

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 408-409 2011年

  308. Impacts of Microbump-Induced Local Bending Stress in 3D-LSI 査読有り

    H. Kino, M. Murugesan, K.-W. Lee, J.-C. Bea, C. Miyazaki, H. Kobayashi, H. Shimamoto, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 785-786 2011年

  309. Evaluation of Thermo-Mechanical Stress Induced by W-TSVs in 3D-LSI with W/Cu Hybrid TSVs 査読有り

    H. Hashiguchi, M. Murugesan, J.C. Bea, K.W. Lee, T. Fukushima, H. Kobayashi, T. Tanaka, M. Koyanagi

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 795-796 2011年

  310. Fabrication tolerance evaluation of high efficient unidirectional optical coupler for though silicon photonic via in optoelectronic 3D-LSI 査読有り

    Akihiro Noriki, Kang-Wook Lee, Jicheol Bea, Takafumi Fukushima, Tetsu Fanaka, Mitsumasa Koyanagi

    2011 IEEE International 3D Systems Integration Conference, 3DIC 2011 821-822 2011年

    DOI: 10.1109/3DIC.2012.6262957  

  311. A Block-Parallel SAR ADC for CMOS Image Sensor with 3-D Stacked Structure 査読有り

    K. Kiyoyama, K-W. Lee, T. Fukushima, H. Naganuma, H. Kobayashi, T. Tanaka, M. Koyanagi

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 1055-1056 2011年

  312. Development of Pillar-Shaped Stimulus Electrode Array for High Efficient Stimulation of Fully Implantable Retinal Prosthesis 査読有り

    Yoshitomo Watanabe, Chikashi Kigure, Kangwook Lee, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi, Tetsu Tanaka

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 1097-1098 2011年

  313. Performance of Low-Loss and Low-Cost Optoelectronic Module with Polynorbornene Waveguide for 10-Gbps Data Transmission 査読有り

    Yuka Ito, Shinsuke Terada, Shinya Arai, Makoto Fujiwara, Tetsuya Mori, Koji Choki, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 1125-1126 2011年

  314. Novel detachable bonding process with wettability control of bonding surface for versatile chip-level 3D integration 査読有り

    Yuki Ohara, Lee Kangwook, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    2011 IEEE International 3D Systems Integration Conference, 3DIC 2011 2011年

    DOI: 10.1109/3DIC.2012.6262950  

  315. Temporary bonding strength control for self-assembly-based 3D integration 査読有り

    Takafumi Fukushima, Yuki Ohara, Jicheol Bea, Mariappan Murugesan, Kang-Wook Lee, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    2011 IEEE International 3D Systems Integration Conference, 3DIC 2011 2011年

    DOI: 10.1109/3DIC.2012.6262954  

  316. Fabrication tolerance evaluation of high efficient unidirectional optical coupler for though silicon photonic via in optoelectronic 3D-LSI 査読有り

    Akihiro Noriki, Kang-Wook Lee, Jicheol Bea, Takafumi Fukushima, Tetsu Fanaka, Mitsumasa Koyanagi

    2011 IEEE International 3D Systems Integration Conference, 3DIC 2011 2011年

    DOI: 10.1109/3DIC.2012.6262957  

  317. A very low area ADC for 3-D stacked CMOS image processing system 査読有り

    K. Kiyoyama, K. W. Lee, T. Fukushima, H. Naganuma, H. Kobayashi, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2011 IEEE International 3D Systems Integration Conference, 3DIC 2011 2011年

    DOI: 10.1109/3DIC.2012.6262958  

  318. High-bandwidth data transmission of new transceiver module through optical interconnection 査読有り

    Yuka Ito, Shinsuke Terada, Shinya Arai, Koji Choki, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyangi

    2011 IEEE International 3D Systems Integration Conference, 3DIC 2011 1-36 2011年

    DOI: 10.1109/3DIC.2012.6263010  

  319. High density Cu-TSVs and reliability issues 査読有り

    Murugesan Mariappan, Harufumi Kobayashi, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    2011 IEEE International 3D Systems Integration Conference, 3DIC 2011 2011年

    DOI: 10.1109/3DIC.2012.6262969  

  320. W/Cu TSVs for 3D-LSI with minimum thermo-mechanical stress 査読有り

    Mariappan Murugesan, Hideto Hashiguchi, Harufumi Kobayashi, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    2011 IEEE International 3D Systems Integration Conference, 3DIC 2011 2011年

    DOI: 10.1109/3DIC.2012.6262970  

  321. High Reliable and Fine Size of 5-µm Diameter Backside Cu Through-Silicon Via(TSV)for High Reliability and High-End 3-D LSIs 査読有り

    K.-W. Lee, J.-C. Bea, T. Fukushima, Y. Ohara, T. Tanaka, M. Koyanagi

    Technical Digest of IEEE International 3D System Integration Conference (3DIC) 2011年

    DOI: 10.1109/3DIC.2012.6262975  

  322. A Cavity Chip Interconnection Technology for Thick MEMS Chip Integration in MEMS-LSI Multichip Module 査読有り

    Kang-Wook Lee, Soichiro Kanno, Kouji Kiyoyama, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    JOURNAL OF MICROELECTROMECHANICAL SYSTEMS 19 (6) 1284-1291 2010年12月

    DOI: 10.1109/JMEMS.2010.2082497  

    ISSN:1057-7157

    eISSN:1941-0158

  323. Effects of Postdeposition Annealing on Cobalt Nanodots Embedded in Silica for Nonvolatile Memory Application 査読有り

    Yanli Pei, Toshiya Kojima, Tatsuro Hiraki, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 49 (6) 066503-1-066503-4 2010年6月

    DOI: 10.1143/JJAP.49.066503  

    ISSN:0021-4922

  324. Surface tension-driven chip self-assembly with load-free hydrogen fluoride-assisted direct bonding at room temperature for three-dimensional integrated circuits 査読有り

    T. Fukushima, E. Iwata, T. Konno, J. -C. Bea, K. -W. Lee, T. Tanaka, M. Koyanagi

    APPLIED PHYSICS LETTERS 96 (15) 154105-1-154105-3 2010年4月

    DOI: 10.1063/1.3328098  

    ISSN:0003-6951

  325. Three-Dimensional Integration Technology Using Through-Si Via Based on Reconfigured Wafer-to-Wafer Bonding 査読有り

    Mitsumasa Koyanagi, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    IEEE CUSTOM INTEGRATED CIRCUITS CONFERENCE 2010 2010年

  326. セルフアセンブリを基盤としたウェーハレベル三次元集積化技術 査読有り

    福島誉史, LEE Kang-Wook, 田中徹, 田中徹, 小柳光正

    電子情報通信学会技術研究報告 109 (408(SDM2009 171-181)) 323-326 2010年

    ISSN:0913-5685

  327. Self-Assembly Technology for Advanced Die-to-Wafer 3D Integration 査読有り

    Takafumi Fukushima, Kang-Wook Lee, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    Technical Digest of the 2nd International IEEE Workshop on Low Temperature Bonding for 3D Integration (LTB-3D) 433-437 2010年

  328. Impact of Remnant Stress/Strain in 3D Stacked Retinal Chip by Wafer Thinning and Bonding 査読有り

    Hisashi Kino, Tatsuro Hiraki, Mariappan Murugesan, Jicheol Bea, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi, Testu Tanaka

    Proceedings of the 12th International Symposium of Tohoku University Global COE Programme Global Nano-Biomedical Engineering Education and Research Network Centre, Nano^Biomedical Engineering in the East Asian-Pacific Rim Region 123-124 2010年

  329. Electrical and Mechanical Characteristics of Si Double-sided Neural Probe for In-vivo Recording 査読有り

    Sanghoon Lee, Risato Kobayashi, Soichiro Kanno, Kangwook Lee, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi, Tetsu Tanaka

    Proceedings of the 12th International Symposium of Tohoku University Global COE Programme Global Nano-Biomedical Engineering Education and Research Network Centre, Nano^Biomedical Engineering in the East Asian-Pacific Rim Region 127-128 2010年

  330. Highly Accurate Optical Stimulation of Neuron using Si Neural Probe with Optical Waveguide 査読有り

    Risato Kobayashi, Sanghoon Lee, Soichiro Kanno, Yoshiho Yukita, Kangwook Lee, Takafumi Fukushima, Toru Ishizuka, Hajime Mushiake, Hiromu Yao, Mitsumasa Koyanagi, Tetsu Tanaka

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 181-182 2010年

  331. Development of Versatile Backside Via Technology for 3D System on Chip 査読有り

    Y. Ohara, K.-W. Lee, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 237-238 2010年

  332. Evaluation of Copper Diffusion in Thinned Wafer with Extrinsic Gettering for 3D-LSI by Capacitance-Time (C-t) measurement 査読有り

    J.-C. Bea, K.-W. Lee, M. Murugesan, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 1196-1197 2010年

  333. Through Silicon Photonic Via with Si core for Low loss and High Density Vertical Optical Interconnection in 3D-LSI 査読有り

    Akihiro Noriki, Kang-Wook Lee, Jicheol Bea, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 1198-1199 2010年

  334. Self-Assembly with Metal Microbump-to-Microbump Bonding for Advanced Chip-to-Wafer 3D Integration 査読有り

    Eiji Iwata, Yuki Ohara, Kang-Wook Lee, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 1202-1203 2010年

  335. Metal Micro-Bump Induced Stress in 3D-LSIs _a micro-Raman Study 査読有り

    M. Murugesan, Y. Ohara, J.C Bea, K.W. Lee, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 1204-1205 2010年

  336. Self-Assembly Technology for Reconfigured Wafer-to-Wafer 3D Integration 査読有り

    T. Fukushima, E. Iwata, K. -W. Lee, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2010 PROCEEDINGS 60TH ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC) 1050-1055 2010年

    DOI: 10.1109/ECTC.2010.5490830  

    ISSN:0569-5503

  337. Formation of Cobalt Nanodots Embedded in Silicon Oxide for Nonvolatile Memory Application 査読有り

    Yanli Pei, Tatsuro Hiraki, Toshiya Kojima, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    Proceedings of the China Semiconductor Technology International Conference (CSTIC) 55-55 2010年

  338. Impact of microbump induced stress in thinned 3D-LSIs after wafer bonding 査読有り

    Mariappan Murugesan, Yuki Ohara, Jichoel Bea, Kang-Wook Lee, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    IEEE 3D System Integration Conference 2010, 3DIC 2010 2010年

    DOI: 10.1109/3DIC.2010.5751432  

  339. Through Silicon photonic via (TSPV) with Si core for low loss and high-speed data transmission in opto-electronic 3-D LSI 査読有り

    Akihiro Noriki, Kang-Wook Lee, Jichoel Bea, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    IEEE 3D System Integration Conference 2010, 3DIC 2010 2010年

    DOI: 10.1109/3DIC.2010.5751435  

  340. エレクトロニクスの多様化を支える新デバイス技術-2020年を見据えて-4.極限集積化を目指すスーパチップ 査読有り

    小柳光正, 福島誉史, LEE Kangwook, 田中徹

    電子情報通信学会誌 93 (11) 918-922 2010年

    ISSN:0913-5693

  341. 3D Hybrid Integration Technology for Opto-Electronic Hetero-Integrated Systems 査読有り

    Kangwook Lee, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    PROCESSING, MATERIALS, AND INTEGRATION OF DAMASCENE AND 3D INTERCONNECTS 33 (12) 71-90 2010年

    DOI: 10.1149/1.3501035  

    ISSN:1938-5862

    eISSN:1938-6737

  342. Wafer Thinning, Bonding, and Interconnects Induced Local Strain/Stress in 3D-LSIs with Fine-Pitch High-Density Microbumps and Through-Si Vias 査読有り

    M. Murugesan, H. Kino, H. Nohira, J. C. Bea, A. Horibe, F. Yamada, C. Miyazaki, H. Kobayashi, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2010 INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING - TECHNICAL DIGEST 30-34 2010年

    DOI: 10.1109/IEDM.2010.5703279  

  343. 三次元積層型集積回路のための自己組織化チップ位置合せ技術 査読有り

    岩田永司, 福島誉史, 大原悠希, LEE Kang-Wook, 田中徹, 田中徹, 小柳光正

    電子情報通信学会論文誌 C J93-C (11) 493-502 2010年

    ISSN:1345-2827

  344. Evaluation of alignment accuracy on chip-to-wafer self-assembly and mechanism on the direct chip bonding at room temperature 査読有り

    T. Fukushima, E. Iwata, J. Bea, M. Murugesan, K. W. Lee, T. Tanaka, M. Koyanagi

    IEEE 3D System Integration Conference 2010, 3DIC 2010 2010年

    DOI: 10.1109/3DIC.2010.5751436  

  345. A block-parallel signal processing system for CMOS image sensor with three-dimensional structure 査読有り

    K. Kiyoyama, K. W. Lee, T. Fukushima, H. Naganuma, H. Kobayashi, T. Tanaka, M. Koyanagi

    IEEE 3D System Integration Conference 2010, 3DIC 2010 2010年

    DOI: 10.1109/3DIC.2010.5751479  

  346. Development of self-assembled 3-D integration technology and study of microbump and TSV induced stress in thinned chip/wafer 査読有り

    T. Tanaka, T. Fukushima, K. -W. Lee, M. Murugesan, M. Koyanagi

    2010 IEEE INTERNATIONAL SOI CONFERENCE 60-63 2010年

    DOI: 10.1109/SOI.2010.5641471  

    ISSN:1078-621X

  347. セルフアセンブリ法を用いた新しいヘテロインテグレーション技術 招待有り

    福島誉史, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学会分科会 シリコンテクノロジー 「VLSIシンポジウム特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術)」 115 17-22 2009年8月3日

  348. Memory characteristics of metal-oxide-semiconductor capacitor with high density cobalt nanodots floating gate and HfO2 blocking dielectric 査読有り

    Yanli Pei, Chengkuan Yin, Toshiya Kojima, Masahiko Nishijima, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    APPLIED PHYSICS LETTERS 95 (3) 033118-033120 2009年7月

    DOI: 10.1063/1.3189085  

    ISSN:0003-6951

  349. Memory characteristics of metal-oxide-semiconductor capacitor with high density cobalt nanodots floating gate and HfO2 blocking dielectric 査読有り

    Yanli Pei, Chengkuan Yin, Toshiya Kojima, Masahiko Nishijima, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    APPLIED PHYSICS LETTERS 95 (3) 033118-1-033118-3 2009年7月

    DOI: 10.1063/1.3189085  

    ISSN:0003-6951

  350. MOSFET nonvolatile memory with a high-density tungsten nanodot floating gate formed by self-assembled nanodot deposition 査読有り

    Y. Pei, C. Yin, J. C. Bea, H. Kino, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY 24 (4) 2009年4月

    DOI: 10.1088/0268-1242/24/4/045022  

    ISSN:0268-1242

  351. Optical Interposer Technology using Buried Vertical-Cavity Surface-Emitting Laser Chip and Tapered Through-Silicon Via for High-Speed Chip-to-Chip Optical Interconnection 査読有り

    Akihiro Noriki, Makoto Fujiwara, Kang-Wook Lee, Woo-Cheol Jeong, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 48 (4) C113-1-C113-5 2009年4月

    DOI: 10.1143/JJAP.48.04C113  

    ISSN:0021-4922

  352. Fundamental Study of Complementary Metal Oxide Semiconductor Image Sensor for Three-Dimensional Image Processing System 査読有り

    Kenji Makita, Kouji Kiyoyarna, Takeaki Sugimura, Kang Wook Lee, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 48 (4) C077-1-C077-5 2009年4月

    DOI: 10.1143/JJAP.48.04C077  

    ISSN:0021-4922

  353. Characteristics of Copper Spiral Inductors Utilizing FePt Nanodot Films 査読有り

    Woo-Cheol Jeong, Kouji Kiyoyama, Kang-Wook Lee, Akihiro Noriki, Mariappan Murugesan, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 48 (4) C157-1-C157-5 2009年4月

    DOI: 10.1143/JJAP.48.04C157  

    ISSN:0021-4922

    eISSN:1347-4065

  354. Development of Si Neural Probe with Microfluidic Channel Fabricated Using Wafer Direct Bonding 査読有り

    Soichiro Kanno, Risato Kobayashi, Lee Sanghoon, Bea Jicheol, Takafumi Fukushima, Kazuhiro Sakamoto, Norihiro Katayama, Hajime Mushiake, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 48 (4) C189-1-C189-4 2009年4月

    DOI: 10.1143/JJAP.48.04C189  

    ISSN:0021-4922

  355. Development of Si Double-Sided Microelectrode for Platform of Brain Signal Processing System 査読有り

    Risato Kobayashi, Soichiro Kanno, Lee Sanghoon, Bea Jicheol, Takafumi Fukushima, Kazuhiro Sakamoto, Norihiro Katayama, Hajime Mushiake, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 48 (4) C194-1-C194-5 2009年4月

    DOI: 10.1143/JJAP.48.04C194  

    ISSN:0021-4922

  356. Formation of high density tungsten nanodots embedded in silicon nitride for nonvolatile memory application 査読有り

    Yanli Pei, Chengkuan Yin, Masahiko Nishijima, Toshiya Kojima, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    APPLIED PHYSICS LETTERS 94 (6) 063108-063110 2009年2月

    DOI: 10.1063/1.3081042  

    ISSN:0003-6951

  357. Super chip integration technology for three-dimensionally stacked retinal prosthesis chips

    Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    Smart Systems Integration 2009, SSI 2009 299-306 2009年

    出版者・発行元: AKA Verlag

  358. 訂正:三次元積層型チップのためのSi貫通ビア(TSV)形成技術 [エレクトロニクス実装学会誌 12(2): 104-109 (2009)]

    福島 誉史, 田中 徹, 小柳 光正

    エレクトロニクス実装学会誌 12 (3) 262-262 2009年

    出版者・発行元: The Japan Institute of Electronics Packaging

    DOI: 10.5104/jiep.12.262  

    ISSN:1343-9677

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    Table 1. Trends in research and development of TSVs<br>-  2006 MRS [15] 2006 IEEE EDL [16] → 2006 MRS [15]<br>-  2006 IEEE EDL [16] 2006 SST [16] → 2006 IEEE EDL [16]<br>-  2007 SST [17] 2007 IEEE ED [17] → 2007 SST [17]<br>-  2008 IEEE ED [18] 2008 → 2008 IEEE ED [18]

  359. Three-Dimensional Integration Technology Based on Reconfigured Wafer-to-Wafer and Multichip-to-Wafer Stacking Using Self-Assembly Method 査読有り

    Takafumi Fukushima, Eiji Iwata, Yuki Ohara, Akihiro Noriki, Kiyoshi Inamura, Kang-Wook Lee, Jicheol Bea, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    2009 IEEE INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING 323-326 2009年

    ISSN:2380-9248

  360. Impact of remnant stress/strain and metal contamination in 3D-LSIs with through-Si vias fabricated by wafer thinning and bonding 査読有り

    M. Murugesan, J. C. Bea, H. Kino, Y. Ohara, T. Kojima, A. Noriki, K. W. Lee, K. Kiyoyama, T. Fukushima, H. Nohira, T. Hattori, E. Ikenaga, T. Tanaka, M. Koyanag

    Technical Digest - International Electron Devices Meeting, IEDM 14.5.4 2009年

    DOI: 10.1109/IEDM.2009.5424348  

    ISSN:0163-1918

  361. 3D stacked ICs using Cu TSVs and Die to Wafer Hybrid Collective bonding 査読有り

    Takafumi Fukushima, Eiji Iwata, Yuki Ohara, Akihiro Noriki, Kiyoshi Inamura, Kang-Wook Lee, Jicheol Bea, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    Technical Digest - International Electron Devices Meeting, IEDM 14.2.4 2009年

    DOI: 10.1109/IEDM.2009.5424351  

    ISSN:0163-1918

  362. Three-Dimensional Integration Technology and Integrated Systems 査読有り

    Mitsumasa Koyanagi, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    PROCEEDINGS OF THE ASP-DAC 2009: ASIA AND SOUTH PACIFIC DESIGN AUTOMATION CONFERENCE 2009 409-415 2009年

    ISSN:2153-6961

  363. Fabrication of Multichannel Neural Microelectrodes with Microfluidic Channels Based on Wafer Bonding Technology 査読有り

    R. Kobayashi, S. Kann, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    13TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON BIOMEDICAL ENGINEERING, VOLS 1-3 23 (1-3) 2258-+ 2009年

    ISSN:1680-0737

  364. Development of A Silicon Neural Probe for An Intelligent Silicon Neural Probe System

    Risato Kobayashi, Lee Sanghoon, Soichiro Kanno, Bea Jicheol, Takafumi Fukushima, Kazuhiro Sakamoto, Norihiro Katayama, Hajime Mushiake, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    Nano-Biomedical Engineering 2009 297-308 2009年

  365. Electrical characterization of MOS memory devices with self-assembled tungsten nano-dots dispersed in silicon nitride 査読有り

    Y. Pei, C. Yin, M. Nishijima, T. Kojima, H. Nohira, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    ECS Transactions 18 (1) 33-37 2009年

    DOI: 10.1149/1.3096423  

    ISSN:1938-5862 1938-6737

  366. Electrical Characterization of MOS Memory Devices with Self-assembled Tungsten Nano-dots Dispersed in Silicon Nitride 査読有り

    Y. Pei, C. Yin, M. Nishijima, T. Kojima, H. Nohira, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    Proceedings of the International Semiconductor Technology Conference/China Semiconductor Technology International Conference (ISTC/CSTIC) 85-89 2009年

  367. Super Hetero-Integration Technology for LSI /MEMS Integration 査読有り

    M. Koyanagi, K.-W. Lee, T. Fukushima, T. Tanaka

    Proceedings of the International Conference on Electronics Packaging (ICEP) 589-595 2009年

  368. Development of Double-sided Si Neural Probe with Microfluidic Channels Using Wafer Direct Bonding Technique 査読有り

    R. Kobayashi, S. Kanno, S. Lee, T. Fukushima, K. Sakamoto, Y. Matsuzaka, N. Katayama, H. Mushiake, M. Koyanagi, T. Tanaka

    2009 4TH INTERNATIONAL IEEE/EMBS CONFERENCE ON NEURAL ENGINEERING 96-+ 2009年

    DOI: 10.1109/NER.2009.5109243  

    ISSN:1948-3546

  369. A Simple Device Allowing Silicon Microelectrode Insertion for Chronic Neural Recording in Primates 査読有り

    Kazuhiro Sakamoto, Yoshia Matsuzaka, Tamotsu Suenaga, Hiroshi Watanabe, Risato Kobayashi, Takafumi Fukushima, Norihiro Katayama, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi, Hajime Mushiake

    2009 4TH INTERNATIONAL IEEE/EMBS CONFERENCE ON NEURAL ENGINEERING 104-+ 2009年

    DOI: 10.1109/NER.2009.5109245  

    ISSN:1948-3546

  370. Cu Lateral Interconnects Formed Between 100-mu m-Thick Self-Assembled Chips on Flexible Substrates 査読有り

    M. Murugesan, J. -C. Bea, T. Fukushima, T. Konno, K. Kiyoyama, W. -C. Jeong, H. Kino, A. Noriki, K. -W. Lee, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2009 IEEE 59TH ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE, VOLS 1-4 1496-1501 2009年

    DOI: 10.1109/ECTC.2009.5074210  

  371. Development of EEB (Electroplated Evaporation Bumping) Technology for Fine Pitch and Low Resistance Cu/Sn Micro-Bumps 査読有り

    Y. Ohara, A. Noriki, E. Iwata, T. Hiraki, K.-W. Lee, M. Murugesan, J.-C. Bea, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 86-87 2009年

  372. High-Aspect-Ratio Fine Cu Sidewall Interconnection over Chip Edge with Tapered Polymer for MEMS-LSI Multi-Chip Module 査読有り

    A. Noriki, Y. Kaiho, E. Iwata, Y. Ohara, M. Murugesan, K.-W. Lee, J.-C. Bea, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 88-89 2009年

  373. Evaluation of Thin LSI Wafers by Capacitance-Time (C-t) Measurement for the Process Characterization of Three-Dimensional (3D) Integration 査読有り

    J.-C. Bea, M. Murugesan, Y. Ohara, A. Noriki, H. Kino, K.-W. Lee, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    Extended Abstracts of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 370-371 2009年

  374. In vivo Neural Signal Recording using Double-sided Si Neural Probe 査読有り

    S. Lee, R. Kobayashi, S. Kanno, K. Lee, T. Fukushima, K. Sakamoto, Y. Matsuzaka, N. Katayama, H. Mushiake, M. Koyanagi, T. Tanaka

    Extended Abstract of International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 691-692 2009年

  375. Heterogeneous Integration Technology for MEMS-LSI Multi-Chip Module 査読有り

    K-W Lee, S. Kanno, Y. Ohara, K. Kiyoyama, J-C Bea, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2009 IEEE INTERNATIONAL CONFERENCE ON 3D SYSTEMS INTEGRATION 6-+ 2009年

    ISSN:2164-0157

  376. A Parallel ADC for High-Speed CMOS Image Processing System with 3D Structure 査読有り

    K. Kiyoyama, Y. Ohara, K-W Lee, Y. Yang, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2009 IEEE INTERNATIONAL CONFERENCE ON 3D SYSTEMS INTEGRATION 101-+ 2009年

    ISSN:2164-0157

  377. Micro-Raman Spectroscopy Analysis and Capacitance-Time (C-t) Measurement of Thinned Silicon Substrates for 3D Integration 査読有り

    J. -C. Bea, M. Murugesan, Y. Ohara, A. Noriki, H. Kino, K. -W Lee, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2009 IEEE INTERNATIONAL CONFERENCE ON 3D SYSTEMS INTEGRATION 189-193 2009年

    ISSN:2164-0157

  378. 10 µm Fine Pitch Cu/Sn Micro-Bumps for 3-D Super-Chip Stack 査読有り

    Yuki Ohara, Akihiro Noriki, Katsuyuki Sakuma, Kang-Wook Lee, Mariappan Murugesan, Jichoel Bea, Fumiaki Yamada, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    Technical Digest of the IEEE International 3D System Integration Conference 2009 (3DIC) 389-+ 2009年

    ISSN:2164-0157

  379. Development of a New Self-Assembled Die Bonder to Three-Dimensionally Stack Known Good Dies in Batch 査読有り

    Takafumi Fukushima, Eiji Iwata, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    2009 IEEE INTERNATIONAL CONFERENCE ON 3D SYSTEMS INTEGRATION 434-437 2009年

    ISSN:2164-0157

  380. Three-Dimensional Integration Technology Based on Self-Assembled Chip-to-Wafer Stacking 査読有り

    Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    MATERIALS AND TECHNOLOGIES FOR 3-D INTEGRATION 1112 121-130 2009年

    ISSN:0272-9172

  381. Ultra Low Power Vertical MOS Devices for Fully Implantable Rtinal Prosthesis 査読有り

    H. Kino, T. Hiraki, J-C. Bea, T. Fukushima, M. Koyanagi, T. Tanaka

    3rd East Asian Pacific Student Workshop on Nano-Biomedical Engineering 112-113 2009年

  382. Impact of Remnant Stress/Strain and Metal Contamination in 3D-LSIs with Through-Si Vias Fabricated by Wafer Thinning and Bonding 査読有り

    M. Murugesan, J. C. Bea, H. Kino, Y. Ohara, T. Kojima, A. Noriki, K. W. Lee, K. Kiyoyama, T. Fukushima, H. Nohira, T. Hattori, E. Ikenaga, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2009 IEEE INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING 335-+ 2009年

    DOI: 10.1109/IEDM.2009.5424348  

    ISSN:2380-9248

  383. 3D Heterogeneous Opto-Electronic Integration Technology for System-on-Silicon (SOS) 査読有り

    K-W Lee, A. Noriki, K. Kiyoyama, S. Kanno, R. Kobayashi, W-C Jeong, J-C Bea, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    2009 IEEE INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING 495-498 2009年

    DOI: 10.1109/IEDM.2009.5424305  

  384. 3D System Integration Technology and 3D Systems 査読有り

    Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    Conference Proceedings Advanced Metallization Conference 2008 (AMC 2008) 479-485 2009年1月

  385. High-Density Through Silicon Vias for 3-D LSIs 招待有り 査読有り

    Mitsumasa Koyanagi, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    PROCEEDINGS OF THE IEEE 97 (1) 49-59 2009年1月

    DOI: 10.1109/JPROC.2008.2007463  

    ISSN:0018-9219

    eISSN:1558-2256

  386. Three-Dimensional Integration Technology Based on Self-Assembled Chip-to-Wafer Stacking 招待有り 査読有り

    Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    MATERIALS AND TECHNOLOGIES FOR 3-D INTEGRATION 1112 121-130 2009年

    ISSN:0272-9172

  387. 三次元実装材料 三次元積層型チップのためのSi貫通ビア(TSV)形成技術 招待有り 査読有り

    福島誉史, 田中徹, 田中徹, 小柳光正

    エレクトロニクス実装学会誌 12 (2) 104-109 2009年

    出版者・発行元:

    DOI: 10.5104/jiep.12.104  

    ISSN:1343-9677

  388. Cu filling characteristics in through-Si via holes by electroless plating with addition of inhibitors 査読有り

    F. Inoue, M. Koyanagi, T. Fukushima, K. Yamamoto, S. Tanaka, Z. Wang, S. Shingubara

    ECS Transactions 16 (22) 27-32 2009年

    DOI: 10.1149/1.3115647  

    ISSN:1938-5862 1938-6737

  389. Perfect Conformal Deposition of Electroless Cu for High Aspect Ratio Through-Si Vias 査読有り

    F. Inoue, Y. Harada, M. Koyanagi, T. Fukushima, K. Yamamoto, S. Tanaka, Z. Wang, S. Shingubara

    ELECTROCHEMICAL AND SOLID STATE LETTERS 12 (10) H381-H384 2009年

    DOI: 10.1149/1.3193535  

    ISSN:1099-0062

  390. Investigation of the effect of in situ annealing of FePt nanodots under high vacuum on the chemical states of Fe and Pt by x-ray photoelectron spectroscopy 査読有り

    M. Murugesan, J. C. Bea, C. -K. Yin, H. Nohira, E. Ikenaga, T. Hattori, M. Nishijima, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Miyao, M. Koyanagi

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 104 (7) 074316-1-074316-5 2008年10月

    DOI: 10.1063/1.2973665  

    ISSN:0021-8979

  391. Memory characteristics of self-assembled tungsten nanodots dispersed in silicon nitride 査読有り

    Yanli Pei, Masahiko Nishijima, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    APPLIED PHYSICS LETTERS 93 (11) 113115-113117 2008年9月

    DOI: 10.1063/1.2986409  

    ISSN:0003-6951

    eISSN:1077-3118

  392. Chip Self-Assembly Technique for 3D LSI Fabrication

    T. Fukushima, T. Konno, T. Tanaka, M. Koyanagi

    Technical Digest of the International 3D System Integration Conference (3D-SIC) 2008 207-216 2008年5月12日

  393. Low-loss optical interposer with recessed vertical-cavity surface-emitting laser diode and photodiode chips into Si substrate 査読有り

    Makoto Fujiwara, Shinsuke Terada, Yoji Shirato, Hiroshi Owari, Kei Watanabe, Mutsuhiro Matsuyama, Keizo Takahama, Tetsuya Mori, Kenji Miyao, Koji Choki, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 47 (4) 2936-2940 2008年4月

    DOI: 10.1143/JJAP.47.29361  

    ISSN:0021-4922

    eISSN:1347-4065

  394. Tungsten through-silicon via technology for three-dimensional LSIs 査読有り

    Hirokazu Kikuchi, Yusuke Yamada, Atif Mossad Ali, Jun Liang, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 47 (4) 2801-2806 2008年4月

    DOI: 10.1143/JJAP.47.2801  

    ISSN:0021-4922

  395. New reconfigurable memory architecture for parallel image-processing LSI with three-dimensional structure 査読有り

    Shigeo Kodama, Daijirou Amano, Takeaki Sugimura, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 47 (4) 2774-2778 2008年4月

    DOI: 10.1143/JJAP.47.2774  

    ISSN:0021-4922

  396. Power supply system using electromagnetic induction for three-dimensionally stacked retinal prosthesis chip 査読有り

    Ken Komiya, Risato Kobayashi, Takafumi Kobayashi, Keigo Sato, Takafumi Fukushima, Hiroshi Tomita, Hiroyuki Kurino, Tetsu Tanaka, Makoto Tamai, Mitsumasa Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 47 (4) 3244-3247 2008年4月

    DOI: 10.1143/JJAP.47.3244  

    ISSN:0021-4922

  397. Electrical Characterization of Metal–Oxide–Semiconductor Memory Devices with High-Density Self-Assembled Tungsten Nanodots 査読有り

    Yan-Li PEI, Takafumi FUKUSHIMA, Tetsu TANAKA, Mitsumasa KOYANAGI

    Japanese Journal of Applied Physics 47 (4) 2680-2683 2008年4月

    DOI: 10.1143/JJAP.47.2680  

    ISSN:0021-4922

  398. A New Nano-System with Three-Dimensional Structure for Real Time Parallel Image Processing

    Mitsumasa Koyanagi, Takafumi Fukushima

    Proceeding of the 5th International Conference on Mechanical Science based on Nanotechnology 117-118 2008年3月6日

  399. 3D system integration technology and 3D systems 招待有り

    Takafumi FUKUSHIMA Tetsu TANAKA, Mitsumasa KOYANAGI

    Abstract Book: European Workshop Materials for Advanced Metallization (MAM) 2008 37-38 2008年3月2日

  400. 自己組織化ウェーハ張り合せによる三次元集積化技術 招待有り

    福島誉史, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学会分科会 シリコンテクノロジー 「多層配線」特集号 (99) 34-37 2008年2月8日

  401. 3-D integration technology for realizing super chip

    Tetsu Tanaka, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi

    2008 Proceedings - 25th International VLSI Multilevel Interconnection Conference, VMIC 2008 197-202 2008年

  402. Deep trench etching for through-silicon vias in three-dimensional integration technology

    Jun Liang, Hirokazu Kikuchi, Takayuki Konno, Yusuke Yamada, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    Proceedings - Electrochemical Society PV 2008-1 674-678 2008年

  403. Three-Dimensional Super-Chip Integration Technology Using Self-Assembly Technique 査読有り

    Mitsumasa Koyanagi, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    2008 IEEE SILICON NANOELECTRONICS WORKSHOP 23-24 2008年

  404. Three-dimensional integration technology using self-assembly technique and super-chip integration 査読有り

    Mitsumasa Koyanagi, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    PROCEEDINGS OF THE IEEE 2008 INTERNATIONAL INTERCONNECT TECHNOLOGY CONFERENCE 10-12 2008年

    ISSN:2380-632X

    eISSN:2380-6338

  405. New Three-Dimensional Integration Technology Using Reconfigured Wafers 査読有り

    Mitsumasa Koyanagi, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    2008 9TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON SOLID-STATE AND INTEGRATED-CIRCUIT TECHNOLOGY, VOLS 1-4 1180-1183 2008年

  406. A Closed-loop Power Control Function for Bio-implantable devices 査読有り

    Kouji Kiyoyama, Yoshito Tanaka, Mashahiro Onoda, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    2008 IEEE ASIAN SOLID-STATE CIRCUITS CONFERENCE 321-+ 2008年

  407. 受光素子と刺激電流生成回路を有する完全埋込型人工網膜チップ 査読有り

    田中徹, 福島誉史, 小柳光正

    映像情報メディア学会技術報告 32 (19(IST2008 8-18/CE2008 21-31)) 1015-+ 2008年

    DOI: 10.1109/IEDM.2007.4419127  

    ISSN:1342-6893

  408. Multichip self-assembly technique on flexible polymeric substrate 査読有り

    T. Fukushima, T. Konno, T. Tanaka, M. Koyanagi

    58TH ELECTRONIC COMPONENTS & TECHNOLOGY CONFERENCE, PROCEEDINGS 1532-1537 2008年

    DOI: 10.1109/ECTC.2008.4550179  

    ISSN:0569-5503

  409. A Novel SPRAM (SPin-transfer torque RAM)-based Reconfigurable Logic Block for 3D-Stacked reconfigurable Spin Processor 査読有り

    M. Sekikawa, K. Kiyoyama, H. Hasegawa, K. Miura, T. Fukushima, S. Ikeda, T. Tanaka, H. Ohno, M. Koyanagi

    IEEE INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING 2008, TECHNICAL DIGEST 935-+ 2008年

    DOI: 10.1109/IEDM.2008.4796645  

  410. New Heterogeneous Multi-Chip Module Integration Technology Using Self-Assembly Method 査読有り

    T. Fukushima, T. Konno, K. Kiyoyama, M. Murugesan, K. Sato, W. -C. Jeong, Y. Ohara, A. Norki, S. Kanno, Y. Kaiho, H. Kino, K. Makita, R. Kobayashi, C. -K. Yin, K. Inamura, K. -W. Lee, J. -C. Bea, T. Tanaka, M. Koyanagi

    IEEE INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING 2008, TECHNICAL DIGEST 499-502 2008年

    DOI: 10.1109/IEDM.2008.4796735  

  411. Evaluation of platinum-black stimulus electrode array for electrical stimulation of retinal cells in retinal prosthesis system 査読有り

    Taiichiro Watanabe, Risato Kobayashi, Ken Komiya, Takafumi Fukushima, Hiroshi Tomita, Eriko Sugano, Hiroyuki Kurino, Tetsu Tanaka, Makoto Tamai, Mitsumasa Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS 46 (4B) 2785-2791 2007年4月

    DOI: 10.1143/JJAP.46.2785  

    ISSN:0021-4922

  412. Novel optical/electrical printed circuit board with polynorbornene optical waveguide 査読有り

    Makoto Fujiwara, Yoji Shirato, Hiroshi Owari, Kei Watanabe, Mutsuhiro Matsuyama, Keizo Takahama, Tetsuya Mori, Kenji Miyao, Koji Choki, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS 46 (4B) 2395-2400 2007年4月

    DOI: 10.1143/JJAP.46.23951  

    ISSN:0021-4922

  413. Low power spin-transfer magnetoresistive random access memory writing scheme with selective word line bootstrap 査読有り

    Takeaki Sugimura, Takeshi Sakaguchi, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS 46 (4B) 2226-2230 2007年4月

    DOI: 10.1143/JJAP.46.2226  

    ISSN:0021-4922

  414. New magnetic nanodot memory with FePt nanodots 査読有り

    Cheng-Kuan Yin, Mariappan Murugesan, Ji-Chel Bea, Mikihiko Oogane, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Shozo Kono, Seiji Samukawa, Mitsumasa Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS 46 (4B) 2167-2171 2007年4月

    DOI: 10.1143/JJAP.46.2167  

    ISSN:0021-4922

  415. Fully implantable retinal prosthesis chip with photodetector and stimulus current generator

    T. Tanaka, K. Sato, K. Komiya, T. Kobayashi, T. Watanabe, T. Fukushima, H. Tomita, H. Kurino, M. Tamai, M. Koyanagi

    Technical Digest - International Electron Devices Meeting, IEDM 1015-1018 2007年

    DOI: 10.1109/IEDM.2007.4419127  

    ISSN:0163-1918

  416. New three-dimensional integration technology to achieve a super chip 査読有り

    Mitsumasa Koyanagi, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    ICSICT-2006: 2006 8th International Conference on Solid-State and Integrated Circuit Technology, Proceedings 318-321 2007年

    DOI: 10.1109/ICSICT.2006.306217  

  417. High performance polynorbornene optical waveguide for Opto-Electric interconnections 査読有り

    M. Fujiwara, Y. Shirato, H. Owari, K. Watanabe, M. Matsuyama, K. Takahama, T. Mori, K. Miyao, K. Choki, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    6TH INTERNATIONAL IEEE CONFERENCE ON POLYMERS AND ADHESIVES IN MICROELECTRONICS AND PHOTONICS, PROCEEDINGS 2007 193-+ 2007年

  418. Magnetic characteristics of FePt nanodots formed by a self-assembled nanodot deposition method 査読有り

    C. K. Yin, H. Choi, J. C. Bea, M. Murugesan, J. H. Yoo, T. Fukushima, Y. Murakami, T. Tanaka, D. Shindo, M. Miyao, M. Koyanagi

    2007 NSTI Nanotechnology Conference and Trade Show - NSTI Nanotech 2007, Technical Proceedings 4 401-404 2007年

  419. Self-assembly process for chip-to-wafer three-dimensional integration 査読有り

    T. Fulcushima, Y. Yamada, H. Kikuchi, T. Tanaka, M. Koyanagi

    57TH ELECTRONIC COMPONENTS & TECHNOLOGY CONFERENCE, 2007 PROCEEDINGS 836-+ 2007年

    DOI: 10.1109/ECTC.2007.373895  

    ISSN:0569-5503

  420. New three-dimensional integration technology based on reconfigured wafer-on-wafer bonding technique 査読有り

    Takafumi Fukushima, Hirokazu Kikuchi, Yusuke Yamada, Takayuki Konno, Jun Liang, Keiichi Sasaki, Kiyoshi Inamura, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    2007 IEEE INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING, VOLS 1 AND 2 985-988 2007年

    DOI: 10.1109/IEDM.2007.4419119  

    ISSN:2380-9248

  421. Analysis of GOI-MOSFET with high-k gate dielectric and metal gate fabricated by Ge condensation technique 査読有り

    Mungi Park, Jicheol Bea, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi

    SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS 38 (12-13) 1720-1724 2006年12月

    DOI: 10.1002/sia.2434  

    ISSN:0142-2421

  422. Three-dimensional integration technology based on wafer bonding with vertical buried interconnections 招待有り 査読有り

    Mitsumasa Koyanagi, Tomonori Nakamura, Yuusuke Yamada, Hirokazu Kikuchi, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Hiroyuki Kurino

    IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES 53 (11) 2799-2808 2006年11月

    DOI: 10.1109/TED.2006.884079  

    ISSN:0018-9383

    eISSN:1557-9646

  423. Development of Si Long Microprobe (SiLM) for Platform of Intelligent Neural Implant Microsystem 査読有り

    Risato Kobayashi, Taiichiro Watanabe, Ken Komiya, Takafumi Fukushima, Kazuhiro Sakamoto, Hiroyuki Kurino, Tetsu Tanaka, Norihiro Katayama, Hajime Mushiake, Mitsumasa Koyanagi

    International Conference on Solid State Devices and Materials 898-899 2006年9月12日

  424. Magnetic properties of FePt nanodots formed by a self-assembled nanodot deposition method 査読有り

    C. K. Yin, T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi, J. C. Bea, H. Choi, M. Nishijima, M. Miyao

    APPLIED PHYSICS LETTERS 89 (6) 063109-1-063109-3 2006年8月

    DOI: 10.1063/1.2335588  

    ISSN:0003-6951

  425. Multichip shared memory module with optical interconnection for parallel-processor system 査読有り

    Hirofumi Kuribara, Hiroyuki Hashimoto, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS 45 (4B) 3504-3509 2006年4月

    DOI: 10.1143/JJAP.45.3504  

    ISSN:0021-4922

  426. Low-power and high-sensitivity magnetoresistive random access memory sensing scheme with body-biased preamplifier 査読有り

    Takeaki Sugimura, Jun Deguchi, Hoon Choi, Takeshi Sakaguchi, Hyuckjae Oh, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS 45 (4B) 3321-3325 2006年4月

    DOI: 10.1143/JJAP.45.3321  

    ISSN:0021-4922

  427. Quantitative derivation and evaluation of wire length distribution in three-dimensional integrated circuits using simulated quenching 査読有り

    Jun Deguchi, Takeaki Sugimura, Yoshihiro Nakatani, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS 45 (4B) 3260-3265 2006年4月

    DOI: 10.1143/JJAP.45.3260  

    ISSN:0021-4922

  428. Fabrication and evaluation of magnetic tunnel junction with MgO tunneling barrier 査読有り

    Takeshi Sakaguchi Hoon Choi, Ahn Sung-Jin, Takeaki Sugimura, Mungi Park, Milcihiko Oogane, Hyuckjae Oh, Jun Hayakawa, Shoji Ikeda, Young Min Lee, Takafumi Fukushima, Terunobu Miyazaki, Hideo Ohno, Mitsumasa Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS 45 (4B) 3228-3232 2006年4月

    DOI: 10.1143/JJAP.45.3228  

    ISSN:0021-4922

  429. New magnetic flash memory with FePt magnetic floating gate 査読有り

    CK Yin, JC Bea, YG Hong, T Fukushima, M Miyao, K Natori, M Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS 45 (4B) 3217-3221 2006年4月

    DOI: 10.1143/JJAP.45.3217  

    ISSN:0021-4922

  430. Characteristics of silicon-on-low k insulator metal oxide semiconductor field effect transistor with metal back gate 査読有り

    Y Yamada, H Oh, T Sakaguchi, T Fukushima, M Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS 45 (4B) 3040-3044 2006年4月

    DOI: 10.1143/JJAP.45.30401  

    ISSN:0021-4922

  431. Deep-trench etching for chip-to-chip three-dimensional integration technology 査読有り

    H Kikuchi, Y Yamada, H Kuima, T Fukushima, M Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS 45 (4B) 3024-3029 2006年4月

    DOI: 10.1143/JJAP.45.3024  

    ISSN:0021-4922

  432. Nickel germanide formation on condensed Ge layer for Ge-on-insulator device application 査読有り

    H Choi, M Park, T Fukushima, M Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS 45 (4B) 2984-2986 2006年4月

    DOI: 10.1143/JJAP.45.2984  

    ISSN:0021-4922

  433. Effects of ion implantation damage on elevated source/drain formation for ultrathin body silicon on insulator metal oxide semiconductor field-effect transistor 査読有り

    H Oh, T Sakaguchi, T Fukushima, M Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS 45 (4B) 2965-2969 2006年4月

    DOI: 10.1143/JJAP.45.2965  

    ISSN:0021-4922

  434. New three-dimensional integration technology using chip-to-wafer bonding to achieve ultimate super-chip integration 査読有り

    T Fukushima, Y Yamada, H Kikuchi, M Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS 45 (4B) 3030-3035 2006年4月

    DOI: 10.1143/JJAP.45.3030  

    ISSN:0021-4922

  435. Fabrication of magnetic tunnel junction with FePt nanodots for magnetic nanodot memory

    Cheng-Kuan Yin, Mariappan Murugesan, Ji-Chel Bea, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    Semiconductor Technology, ISTC2007 - Proceedings of the 6th International Conference on Semiconductor Technology 418-422 2006年

  436. Semiconductor-on-Low-K Substrate Technology

    Tetsu Tanaka, Yusuke Yamada, Mungi Park, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi

    Proceedings - Electrochemical Society PV 2006-03 297-301 2006年

  437. New non-volatile memory with magnetic nano-dots

    Mitsumasa Koyanagi, J. C. Bea, C. K. Yin, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka

    ECS Transactions 2 (1) 209-215 2006年

    ISSN:1938-5862 1938-6737

  438. Research and development of transistor structure in nano-scale region 査読有り

    M. Koyanagi, Y. Yamada, M. Park, T. Fukushima, T. Tanaka

    2006 INTERNATIONAL WORKSHOP ON NANO CMOS, PROCEEDINGS 34-37 2006年

  439. Development of new three-dimensional integration technology for retinal prosthesis 査読有り

    Yusuke Yamada, Jun Deguchi, Taiichiro Watanabe, Takafumi Fukushima, Hiroyuki Kurino, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    FUTURE MEDICAL ENGINEERING BASED ON BIONANOTECHNOLOGY, PROCEEDINGS 613-+ 2006年

    DOI: 10.1142/9781860948800_0067  

  440. Neuromorphic analog circuits for three-dimensionally stacked vision chip 査読有り

    Jun Liang, Yoshihiro Nakagawa, Jun Deguchi, Jeoung-Chill Shim, Takafumi Fukushima, Hiroyuki Kurino, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    FUTURE MEDICAL ENGINEERING BASED ON BIONANOTECHNOLOGY, PROCEEDINGS 455-+ 2006年

    DOI: 10.1142/9781860948800_0049  

  441. Chip-to-wafer three-dimensional integration technology for retinal prosthesis chips 査読有り

    Hircrazu Kikuchi, Yusuke Yamada, Takafumi Fukushima, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    FUTURE MEDICAL ENGINEERING BASED ON BIONANOTECHNOLOGY, PROCEEDINGS 385-+ 2006年

  442. Novel retinal prosthesis system with three dimensionally stacked LSI chip 査読有り

    T. Watanabe, H. Kikuchi, T. Fukushima, H. Tomita, E. Sugano, H. Kurino, T. Tanaka, M. Tamai, M. Koyanagi

    ESSDERC 2006: PROCEEDINGS OF THE 36TH EUROPEAN SOLID-STATE DEVICE RESEARCH CONFERENCE 327-+ 2006年

    DOI: 10.1109/ESSDER.2006.307704  

    ISSN:1930-8876

  443. Evaluation of electrical stimulus current applied to retinal cells for retinal prosthesis 査読有り

    Taiichiro Watanabe, Keita Motonami, Takafumi Fukushima, Hiroyuki Kurino, Tetsu Tanaka, Mitsumasa Koyanagi

    FUTURE MEDICAL ENGINEERING BASED ON BIONANOTECHNOLOGY, PROCEEDINGS 45 (4B) 585-+ 2006年

    DOI: 10.1142/9781860948800_0065  

  444. ロボットビジョンシステムのための積層型並列リコンフィギャラブル画像処理プロセッサの設計 査読有り

    杉村武昭, 小西雄太, 出口淳, 石原聡之, 福島誉史, 近野敦, 内山勝, 小柳光正

    電子情報通信学会論文誌 D J89-D (6) 1141-1152 2006年

    ISSN:1880-4535

  445. New Three-Dimensional Integration Technology Using Chip-to-Wafer Bonding to Achieve Ultimate Super Chip Integration 査読有り

    T. Fukushima, Y. Yamada, H. Kikuchi, M.Koyanagi

    Proceeding of SOLID STATE DEVICES AND MATERIALS (SSDM) 2005 64-65 2005年9月

  446. Nickel Germanide Formation on Condensed Ge Layer For Ge-on-Insulator Device Application 査読有り

    Hoon CHOI, Mungi PARK, Takafumi FUKUSHIMA, Mitsumasa KOYANAGI

    International Conference on Solid State Device and Materials (SSDM) 572-573 2005年9月

  447. Characteristics of Silicon-on-Low-K Insulator (SOLK) MOSFET with Metal Back-Gate 査読有り

    Y. Yamada, Hyuckjae Oh, T. Sakaguchi, T. Fukushima, M. Koyanagi

    International Conference on Solid State Device and Materials (SSDM) 66-67 2005年9月

  448. Multi-Chip Shared-Memory Module with Optical Interconnection for Parallel Processor System 査読有り

    Hirofumi Kuribara, Hiroyuki Hashimoto, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi

    International Conference on Solid State Device and Materials (SSDM) 2005 334-335 2005年9月

  449. Magnetic and Microstructural Properties of FePt L10 Nanoparticle Films Fabricated by Self-Assembled Nano-Dot Deposition(SAND) Method 査読有り

    J. C. Bea, C.-K. Yin, M. Nishijima,T. Fukushima, T. Sadoh, M. Miyao, M. Koyanagi

    International Conference on Solid State Device and Materials (SSDM) 436-437 2005年9月

  450. Intelligent Neural Implant Microsystem Fabricated Using Multi-Chip Bonding Technique 査読有り

    Taiichiro Watanabe, Keita Motonami, Kazuhiro Sakamoto, Jun Deguchi, Risato Kobayashi, Ken Komiya, Keiji Okumura, Takafumi Fukushima, Hiroyuki Kurino, Hajime Mushiake, Mitsumasa Koyanagi

    International Conference on Solid State Device and Materials (SSDM) 2005 462-463 2005年9月

  451. Influences of Ion Implantation Damages on Elevated Source/Drain Formation for Ultra-Thin Body SOI MOSFET 査読有り

    Hyuckjae Oh, Takeshi Sakaguchi, Jicheol Bea, Takafumi Fukusima, Mitsumasa Koyanagi

    International Conference on Solid State Device and Materials (SSDM) 520-521 2005年9月

  452. Deep Trench Etching for Chip-to-Chip Three-Dimensional Integration 査読有り

    Hirokazu Kikuchi, Yusuke Yamada, Hitoshi Kijima, Takafumi Fukushima

    International Conference on Solid State Device and Materials (SSDM) 562-563 2005年9月

  453. Characteristics of Metal Gate GOI-MOSFET with High-k Gate Dielectric Fabricated by Ge Condensation Method 査読有り

    Mungi Park, Hoon Choi, Jicheol Bea, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi

    International Conference on Solid State Device and Materials (SSDM) 588-589 2005年9月

  454. Fabrication and Evaluation of Magnetic Tunnel Junction with MgO Tunneling Barrier 査読有り

    Takeshi Sakaguchi, Hoon Choi, Takeaki Sugimura, Mikihiko Oogane, Hyuckjae Oh, Jun Hayakawa, Shoji Ikeda, Young Min Lee, Takafumi Fukushima, Terunobu Miyazaki, Hideo Ohno, Mitsumasa Koyanagi

    International Conference on Solid State Device and Materials (SSDM) 642-643 2005年9月

  455. Estimation of Wire Length Distribution for Evaluating Performance Improvement of Three-Dimensional LSI 査読有り

    Jun Deguchi, Yoshihiro Nakatani, Takeaki Sugimura, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi

    International Conference on Solid State Device and Materials (SSDM) 2005 660-661 2005年9月

  456. Low Power and High Sensitivity MRAM Sensing Scheme with Body Biased Preamplifier 査読有り

    Takeaki Sugimura, Jun Deguchi, Hoon Choi, Takeshi Sakaguchi, Hyuchjae Oh, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi

    International Conference on Solid State Device and Materials (SSDM) 2005 928-929 2005年9月

  457. 三次元積層型リコンフィギャラブル画像処理プロセッサを用いたロボットビジョンシステム

    杉村武昭, 出口淳, 小西雄太, 中谷好博, 福島誉史, 近野敦, 栗野浩之, 内山勝, 小柳光正

    電子情報通信学会技術研究報告 105 (43(RECONF2005 15-29)) 79-84 2005年

    ISSN:0913-5685

  458. New three-dimensional integration technology using self-assembly technique 査読有り

    T Fukushima, Y Yamada, H Kikuchi, M Koyanagi

    IEEE INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING 2005, TECHNICAL DIGEST 359-362 2005年

  459. Deep Si Hole Etching Technique for Super Chip Integration 査読有り

    T. Fukushima, H. Kurino, H. Kikuchi, H. Kijima, Y. Yamada, J. Shim, M. Koyanagi

    Proceeding of The Electrochemical Society International Semiconductor Technology Conference (ISTC) 364-366 2004年9月

  460. Bump Formation Technique for Multi-Chip Module with Optical Interconnections 査読有り

    T. Fukushima, H. Kurino, R. Nitobe, H. Kuribara, Y. Yamada, J. Shim, M. Koyanagi

    Proceeding of The Electrochemical Society International Semiconductor Technology Conference (ISTC) 442-444 2004年9月

  461. Ultimate Functional Multi-Electrode System (UFMES) Formed by Multi-Chip Bonding Technology 査読有り

    T. Watanabe, K. Motonami, K. Sakamoto, J. Deguchi, T. Fukushima, J. Shim, H. Mushiake, H. Kurino, M. Koyanagi

    Proceeding of 2004 International Conference on Solid State Device and Materials (SSDM) 2004年9月

  462. Ultrathin-SOI PMOSFET with Elevated S/D and buried back gate

    H. Oh, T. Fukushima, T. Sakaguchi, J. Shim, C. Yin, M. Park, H. Kurino, M. Koyanagi

    Proceeding of The Electrochemical Society International Semiconductor Technology Conference (ISTC) 51-56 2004年9月

  463. Three-dimensionally stacked analog retinal prosthesis chip 査読有り

    J Deguchi, T Watanabe, T Nakamura, Y Nakagawa, T Fukushima, S Jeoung-Chill, H Kurino, T Abe, M Tamai, M Koyanagi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS 43 (4B) 1685-1689 2004年4月

    DOI: 10.1143/JJAP.43.1685  

    ISSN:0021-4922

  464. 並列リコンフィギュラブル画像処理プロセッサを用いたロボットビジョンシステム

    杉村武昭, 出口淳, 小西雄太, 中谷好博, 福島誉史, 近野敦, 栗野浩之, 内山勝, 小柳光正

    電子情報通信学会技術研究報告 104 (521(ICD2004 183-192)) 49-54 2004年

    ISSN:0913-5685

  465. Heat-resistant photoresists based on new imaging technique: reaction development patterning 査読有り

    T Fukushima, Y Kawakami, A Kitamura, T Oyama, M Tomoi

    JOURNAL OF MICROLITHOGRAPHY MICROFABRICATION AND MICROSYSTEMS 3 (1) 159-167 2004年1月

    DOI: 10.1117/1.1633273  

    ISSN:1537-1646

  466. Photosensitive fluorinated polyimides with constant based on reaction development a low dielectric patterning 査読有り

    T Miyagawa, T Fukushima, T Oyama, T Iijima, M Tomoi

    JOURNAL OF POLYMER SCIENCE PART A-POLYMER CHEMISTRY 41 (6) 861-871 2003年3月

    DOI: 10.1002/pola.10638  

    ISSN:0887-624X

  467. Ultrafast active transmission lines with low-k polyimide integrated with ultrafast photoconductive switches 査読有り

    S Yagi, T Itatani, H Kawanami, S Gorwadkar, T Uemura, T Fukushima, H Itatani, M Tomoi, M Tacano

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS 42 (2B) L154-L156 2003年2月

    DOI: 10.1143/JJAP.42.L154  

    ISSN:0021-4922

  468. Heat-resistant photoresists based on new imaging technique: reaction development patterning (RDP) 査読有り

    T Fukushima, T Oyama, M Tomoi

    ADVANCES IN RESIST TECHNOLOGY AND PROCESSING XX, PTS 1 AND 2 5039 960-967 2003年

    DOI: 10.1117/12.483709  

    ISSN:0277-786X

  469. Ionic-bonded negative photosensitive polyimides having pendant aminoalkyl (meth)acrylamide groups 査読有り

    T Fukushima, T Oyama, M Tomoi

    REACTIVE & FUNCTIONAL POLYMERS 56 (1) 59-73 2003年

    DOI: 10.1016/S1381-5148(03)00033-6  

    ISSN:1381-5148

  470. 反応現像画像形成法を基盤とした感光性エンジニアリングプラスチックの開発 招待有り 査読有り

    福島誉史, 大山俊幸, 友井正男

    日本化学会講演予稿集 83rd (2) 585-588 2003年

    ISSN:0285-7626

  471. New Concept of Heat-Resistant Photoresists: Reaction Development Patterning (RDP) 査読有り

    T. Fukushima, T. Oyama, M. Tomoi

    IUPAC World Polymer Congress 2002, 39th International Symposium on Macromolecules 2002年7月

  472. Positive Photosensitive Polyimides Based on Novel Imaging Principle: Reaction Development Patterning (RDP)

    T. Fukushima, T. Oyama, M. Tomoi

    Proceedings of STEPI6: 6th European Technical Symposium on Polyimides and High Performance Functional Polymer 2002年5月

  473. Photosensitive polyarylates based on reaction development patterning 査読有り

    T Oyama, A Kitamura, T Fukushima, T Iijima, M Tomoi

    MACROMOLECULAR RAPID COMMUNICATIONS 23 (2) 104-108 2002年1月

    ISSN:1022-1336

  474. Photosensitive polyetherimide (Ultem) based on reaction development patterning (RDP) 査読有り

    T Fukushima, Y Kawakami, T Oyama, M Tomoi

    JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY 15 (2) 191-196 2002年

    DOI: 10.2494/photopolymer.15.191  

    ISSN:0914-9244

  475. Ultrafast photoconductive swiches integrated with electrical waveguides of low-k polyimide 招待有り 査読有り

    S Yagi, T Itatani, H Kawanami, S Gorwadkar, T Uemura, T Fukushima, H Itatani, M Tomoi, M Tacano

    APPLICATIONS OF PHOTONIC TECHNOLOGY 5 4833 623-632 2002年

    DOI: 10.1117/12.474331  

    ISSN:0277-786X

  476. Durable and refreshable polymeric N-halamine biocides containing 3-(4′-vinylbenzyl)-5,5-dimethylhydantoin 査読有り

    Takafumi Fukushima, Toshiyuki Oyama, Takao Iijima, Masao Tomoi, Hiroshi Itatani

    Journal of Polymer Science, Part A: Polymer Chemistry 39 (19) 3348-3355 2001年10月1日

    DOI: 10.1002/pola.1317  

    ISSN:0887-624X

  477. Photosensitive polycarbonates based on reaction development patterning (RDP) 査読有り

    T Oyama, Y Kawakami, T Fukushima, T Iijima, M Tomoi

    POLYMER BULLETIN 47 (2) 175-181 2001年10月

    DOI: 10.1007/s002890170009  

    ISSN:0170-0839

  478. New concept of positive photosensitive polyimide: Reaction development patterning (RDP) 査読有り

    T Fukushima, T Oyama, T Iijima, M Tomoi, H Itatani

    JOURNAL OF POLYMER SCIENCE PART A-POLYMER CHEMISTRY 39 (19) 3451-3463 2001年10月

    DOI: 10.1002/pola.1327  

    ISSN:0887-624X

  479. Synthesis and positive-imaging photosensitivity of soluble polyimides having pendant carboxyl groups 査読有り

    T Fukushima, K Hosokawa, T Oyama, T Iijima, M Tomoi, H Itatani

    JOURNAL OF POLYMER SCIENCE PART A-POLYMER CHEMISTRY 39 (6) 934-946 2001年3月

    DOI: 10.1002/1099-0518(20010315)39:6<934::AID-POLA1068>3.0.CO;2-T  

    ISSN:0887-624X

  480. Positive photosensitive polyimide synthesized by block-copolymerization for KrF lithography 査読有り

    T Itatani, S Gorwadkar, T Fukushima, M Komuro, H Itatani, M Tomoi, T Sakamoto, S Matsumoto

    ADVANCES IN RESIST TECHNOLOGY AND PROCESSING XVII, PTS 1 AND 2 3999 552-558 2000年

    ISSN:0277-786X

  481. Applications of newly developed positive photosensitive block co-polyimides to CSPs 査読有り

    S Matsumoto, XZ Jin, T Fukushima, M Miyamura, H Itatani

    PROCEEDINGS OF 3RD ELECTRONICS PACKAGING TECHNOLOGY CONFERENCE 367-372 2000年

  482. Sub-micron Patterning of Positive Photo-sensitive Polyimide Synthesized by Block Copolymerization 査読有り

    T. Itatani, S. Gorwadkar, T. Fukushima, Y. Yamamoto, M. Maezawa, M. Komuro, T. Sakamoto, M. Tomoi, H. Itatani

    Proceedings of International Conference on Solid State Device and Materials (SSDM), 1999年9月

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MISC 235

  1. 高い画像認識性能を有する三次元積層人工網膜チップの作製

    番場 崚太郎, 岸本 凌平, 加藤 勇志, 桂井 亮介, 木野 久志, 福島 誉史, 田中 徹

    第71回応用物理学会春季学術講演予稿集 2024年3月

  2. フレキシブルFOWLP に基づく貫通配線TXV の微細化と曲げ特性向上

    篠田敦志, 劉暢, 冨永晃洋, 田中徹, 福島誉史

    第38回エレクトロニクス実装学会講演大会 2024年3月

  3. Feasibility Study of Self-Assembly Technology for DRAM Chip Stacking Using Hybrid Bonding (ハイブリッド接合を用いたDRAMチップ積層のための自己組織化実装技術の基礎検討)

    Du Zehua, Hiroshi Kikuchi, Hayato Hishinuma, Tetsu Tanaka, Takafumi Fukushima

    第38回エレクトロニクス実装学会講演大会 2024年3月

  4. プロセスフレンドリな三次元積層デジタル人工網膜チップの作製と評価

    岸本 凌平, 番場 崚太郎, 加藤 勇志, 桂井 亮介, 木野 久志, 福島 誉史, 田中 徹

    第71回応用物理学会春季学術講演予稿集 11-150 2024年3月

  5. 頚髄バイパスデバイスのためのSU-8カフ電極の提案と作製

    辻󠄀 一志, 岩沼 尚樹, 邱 晨曦, 大庭 脩太郎, 木野 久志, 福島 誉史, 田中 徹

    第71回応用物理学会春季学術講演予稿集 11-242 2024年3月

  6. 下方光照射を可能にする光伝播UCNPメッシュシートの作製と評価

    大庭 脩太郎, 岩沼 尚樹, 邱 晨曦, 辻 一志, 木野 久志, 福島 誉史, 田中 徹

    第71回応用物理学会春季学術講演予稿集 11-243 2024年3月

  7. 非接触非圧平ポータブル眼圧測定デバイスの開発 -計測手法の提案と計測回路設計

    杉下 景俊, 杜 邦, 中村 晧平, 黄 貝宇彤, 片浦 葵, 長谷川 稜, 木野 久志, 福島 誉史, 清山 浩司, 田中 徹

    第71回応用物理学会春季学術講演予稿集 11-244 2024年3月

  8. 高速な動作誘導を可能にするウェアラブルGVS ナビゲーションデバイスの開発 -前庭電気刺激回路の設計と評価-

    長谷川 稜, 杜 邦, 中村 皓平, 杉下 景俊, 黄 貝宇彤, 片浦 碧, 藤井 まなみ, 木野 久, 志, 福島 誉史, 清山 浩司, 田中 徹

    電子情報通信学会エレクトロニクスソサイエティ大会 2023年9月

  9. ハイドロゲルFHEデバイスのためのRDL-first Multichip-to-Wafer集積技術

    星 匡朗, 西口 大智, 木野 久志, 田中 徹, 福島 誉史

    第84回応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集 2023年9月

  10. 銅ピラーのアセンブリを用いたFOWLPによるTXV形成と曲げ特性の強化

    篠田 敦志, 冨永 晃洋, 木野 久志, 田中 徹, 福島 誉史

    第84回応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集 2023年9月

  11. 柔軟性と機械的強度を両立する骨髄用神経プローブの開発

    岩沼 尚樹, 大庭 脩太郎, 木野 久志, 福島 誉史, 田中 徹

    第84回応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集 2023年9月

  12. 骨髄用シリコン神経プローブの作製と評価

    岩沼 尚樹, 鈴木 志門, 木野 久志, 福島 誉史, 田中 徹

    第70回応用物理学会春季学術講演予稿集 2023年3月

  13. 経爪型集積化光電容積脈波計測システム向けノイズキャンセル機能を有するI/V 変換回路のノイズ検討

    井上 文, 梁 耀淦, 杜 邦, 中村 皓平, 王 勝瑋, 有賀 優太, 木野 久志, 福島 誉史, 清山, 浩司, 田中 徹

    第70回応用物理学会春季学術講演予稿集 2023年3月

  14. 人の視覚情報処理機能を有する三次元積層人工網膜チップの作製と評価

    大西 青葉, 番場 崚太郎, 岸本 凌平, 木野 久志, 福島 誉史, 田中 徹

    第70回応用物理学会春季学術講演予稿集 2023年3月

  15. 指先の血液量変化を利用する安定・快適に装着可能な経爪型 PPGコントローラ の開発

    有賀 優太, 中村 浩平, 梁 耀淦, 杜 邦, 王 勝瑋, 井上 文太, 木野 久志, 福島 誉史, 清山 浩司, 田中 徹

    第70回応用物理学会春季学術講演予稿集 2023年3月

  16. Smart Skin Display の要素技術研究III: 銅ピラーのアセンブリによるTXV 形成とフレキシブル配線の細線化

    篠田 敦志, 煤孫 祐樹, 劉 暢, 星 匡朗, 申 家屹, 木野 久志, 田中 徹, 福島 誉史

    第70回応用物理学会春季学術講演予稿集 2023年3月

  17. Smart Skin Displayの要素技術研究II: PDMS上に形成する二層配線の曲げ特性強化手法の検討 (Integration Technology for Smart Skin Display II: Bendability Enhancement of Multi-level Metallization on a PDMS Elastomer)

    Liu Chang, Y. Susumago, T. Hoshi, H. Kino, T. Tanaka, T. Fukushima

    第70回応用物理学会春季学術講演予稿集 2023年3月

  18. Smart Skin Displayの要素技術研究Ⅰ: Cuめっき直接接合を用いたマイクロLEDと3D-ICの常温積層

    煤孫 祐樹, 劉 暢, 星 匡朗, 申 家屹, 篠田 敦志, 木野 久志, 田中 徹, 福島 誉史

    第70回応用物理学会春季学術講演予稿集 2023年3月

  19. Cu結晶粒の低温成長と配向制御を利用したCu-SiO2 ハイブリッド接合3D-IC技術

    マリアッパン ムルゲサン, 森 聖晴, 曽根 絵理子, 佐波 正浩, 小柳 光正, 福島 誉史

    第32回マイクロエレクトロニクスシンポジウム(MES2022) 2022年9月

  20. 臓器治療用UCNPディスクデバイスのためのUC発光強度評価

    鈴木 志門, 木野 久志, 福島 誉史, 田中 徹

    第83回応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集 2022年9月

  21. 経爪型集積化光電容積脈波計測システムにおけるスイッチドキャパシタCDS型バックグラウンドノイズキャンセル回路価

    井上 文太, 梁 耀淦, 杜 邦, 中村 皓平, 王 勝瑋, 有賀 優太, 木野 久志, 福島 誉史, 清山 浩司, 田中 徹

    第83回応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集 2022年9月

  22. 高QOL人工網膜チップのための明暗順応機能の設計と評価

    中村 皓平, 梁 耀淦, 杜 邦, 王 勝瑋, 有賀 優太, 井上 文太, 木野 久志, 福島 誉史, 清山 浩司, 田中 徹

    第83回応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集 2022年9月

  23. 人工網膜の高性能化に向けた三次元積層人工網膜チップの作製

    大西 青葉, 番場 崚太郎, 田中 文悟, 岸本 凌平, 木野 久志, 福島 誉史, 田中 徹

    第83回応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集 2022年9月

  24. Smart Skin Display用マイクロLEDのCuめっき直接接合技術: 不良解析と歩留り強化

    煤孫 祐樹, 星 匡朗, 劉 暢, 篠田 敦志, 木野 久志, 田中 徹, 福島 誉史

    第83回応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集 2022年9月

  25. アセンブリによるSmart Skin Display用フレキシブル基板貫通配線の形成と評価

    荒山 俊亮, 煤孫 祐樹, 小田島 輩, 星 匡朗, 木野 久志, 田中 徹, 福島 誉史

    第69回応用物理学会春季学術講演予稿集 2022年3月

  26. FOWLPによるフォトバイオモジュレーション用FHEデバイスの開発

    星 匡朗, 小田島 輩, 煤孫 祐樹, 荒山 俊亮, 木野 久志, 田中 徹, 福島 誉史

    第69回応用物理学会春季学術講演予稿集 2022年3月

  27. HMDS-CVD による TSV 絶縁層の低温形成技術の検討

    田中 文悟, 大西 青葉, 番場 峻太郎, 木野 久志, 福島 誉史, 田中 徹

    第69回応用物理学会春季学術講演予稿集 2022年3月

  28. 多段階励起による発光現象を用いた臓器治療用ディスクデバイスの提案と作製

    鈴木 志門, 長﨑 春樹, 木野 久志, 福島 誉史, 田中 徹

    第69回応用物理学会春季学術講演予稿集 2022年3月

  29. ファンアウト配線を利用したフレキシブルフルカラーマイクロLED ディスプレイの作製技術(Flexible Full-Color Micro-LED Display Fabrication Technology with Fan-Out Interconnections)

    Zhe Wang, Shunsuke Arayama, Yuki Susumago, Tomo Odashima, Hisashi Kino, Tetsu Tanaka, Takafumi Fukushima

    第31回マイクロエレクトロニクスシンポジウム(MES2021) 2021年9月

  30. 人工網膜チップの低消費電力化に向けた物体検出回路の開発

    中村 皓平, 銭 正阳, 梁 耀淦, 杜 邦, 叶 津銘, 王 勝瑋, 有賀 優太, 井上 文太, 木野 久志, 福島 誉史, 清山 浩司, 田中 徹

    電子情報通信学会2021年ソサイエティ大会 2021年9月

  31. 人工眼用固視微動回路e-Microsaccadeの開発

    梁 耀淦, 銭 正阳, 杜 邦, 叶 津銘, 中村 皓平, 王 勝瑋, 木野 久志, 福島 誉史, 清山 浩司, 田中 徹

    電子情報通信学会2021年ソサイエティ大会 2021年9月

  32. 経爪型光電容積脈波を利用する多目的コントローラの開発

    叶 津銘, Filipe Alves Satake, 銭 正阳, 梁 耀淦, 杜 邦, 中村 皓平, 王 勝瑋, 有賀 優太, 井上 文太, 木野 久志, 福島 誉史, 清山 浩司, 田中 徹

    電子情報通信学会2021年ソサイエティ大会 2021年9月

  33. GIDLリングオシレータを利用したウェアラブルデバイス用小面積CMOS温度センサの開発

    杜 邦, 銭 正阳, 梁 耀淦, 中村 皓平, 叶 津銘, 王 勝瑋, 有賀 優太, 井上 文太, 木野 久志, 福島 誉史, 清山 浩司, 田中, 徹

    電子情報通信学会2021年ソサイエティ大会 2021年9月

  34. 経爪型集積化光電容脈波計測システムにおけるバックグラウンドノイズキャセル回路の設 計と評価

    井上 文太, 銭 正阳, 梁 耀淦, 杜 邦, 叶 津銘, 中村 皓平, 王 勝瑋, 有賀 優太, 木野 久志, 福島 誉史, 清山 浩司, 田中 徹

    第82回応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集 2021年9月

  35. 光遺伝学用神経メッシュプローブの作製と評価

    長﨑 春樹, 楊 芬, 鈴木 志門, 木野 久志, 福島 誉史, 田中 徹

    第82回応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集 2021年9月

  36. 皮下血管を表示するスマートスキンディスプレイ用ピクセル回路の開発

    有賀 優太, 銭 正阳, 杜 邦, 梁 耀淦, 叶 津銘, 中村 浩平, 王 勝瑋, 井上 文太, 木野 久志, 福島 誉史, 清山 浩司, 田中 徹

    第82回応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集 2021年9月

  37. スマートスキンディスプレイの提案とマイクロLEDの常温Cu直接接合技術

    煤孫 祐樹, 王 喆, 小田島 輩, 荒山 俊亮, 星 匡朗, 木野 久志, 田中 徹, 福島 誉史

    第82回応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集 2021年9月

  38. チップレット内蔵インモールドエレクトロニクス用フレキシブル基板の細線化

    小田島 輩, 煤孫 祐樹, 王 喆, 木野 久志, 田中 徹, 福島 誉史

    第82回応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集 2021年9月

  39. PMMA被覆Auナノ粒子含有ブロック高分子の誘導自己組織化と三次元配線形成

    福島 誉史

    第70回高分子学会年次大会 1H09 2021年5月

  40. 多段階励起による発光現象を用いた光遺伝学用神経メッシュプローブの提案と作製

    長崎春樹, 浦山翔太, YANG Fen, 木野久志, 福島誉史, 福島誉史, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 68th 2021年

  41. UV-LED内蔵ハイドロゲルフレキシブル基板を用いた殺菌絆創膏の作製と評価

    高橋則之, 煤孫祐樹, WANG Z., 小田島輩, 木野久志, 田中徹, 田中徹, 福島誉史, 福島誉史

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 68th 2021年

  42. Directed Self-Assembly based Interconnect Technology for Next-Generation 2D/3D LSI

    Takafumi Fukushima

    Impact 2020 (1) 6-8 2020年2月27日

    出版者・発行元: Science Impact, Ltd.

    DOI: 10.21820/23987073.2020.1.6  

    ISSN: 2398-7073

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    Three-dimensional integrated circuits (3D ICs) contain multiple layers of active device chiplets and have the potential to improve signal transfer and the overall performance of a microelectronic systems, while saving energy. Dr Takafumi Fukushima is an Associate Professor based in the Department of Mechanical Systems Engineering, Tohoku University, Japan, whose research revolves around 3D/heterogeneous/flexibel integration technologies. Within the Department Fukushima focuses on self-assembly technologies. 'Self-assembly is the process by which an organised structure spontaneously forms from individual components, as a result of specific, local interactions among the components,' he explains. One of these is advanced DSA. This process enables ultrafine-pitch interconnect formation through the simple coating and heating of nanocomposites with block co-polymers and metal compounds/nanoparticles. 'DSA is a type of directed assembly which utilises the nano-phase separation of block co-polymers to create ultrafine lines, space and hole patterns, facilitating more accurate control of the feature shapes,' Fukushima outlines. 'Conventional DSA with the block co-polymers is an alternative way to photo-patterning with photoresists that are spin-on photosensitive materials to photolithographically form fine patterns and traditionally used in semiconductor industry.' Through his advanced DSA Fukushima is able to make both ultrafine patterns as well as form lateral and vertical interconnections with nanocomposites based on non-photolithographic methodology.

  43. RDL-First FOWLP技術を利用したハイドロゲルフレキシブル基板上への配線形成

    高橋則之, 煤孫祐樹, 木野久志, 田中徹, 田中徹, 福島誉史, 福島誉史

    電子情報通信学会論文誌 C(Web) J103-C (3) 2020年

    ISSN: 1881-0217

  44. Fan-Out Wafer-Level Packagingによるフレキシブル経爪脈波センサの集積化

    小田島輩, 煤孫祐樹, QIAN Zhengyang, 高橋則之, 永田柊太, 木野久志, 田中徹, 田中徹, 福島誉史, 福島誉史

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 81st 2020年

  45. インモールドエレクトロニクス用フレキシブル三次元波状配線の作製

    永田柊太, 木野久志, 田中徹, 田中徹, 福島誉史, 福島誉史

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 81st 2020年

  46. SPECIAL REPORT (SEMICON Taiwan Special): Through Silicon Via Propels 3D Chip Integration 招待有り

    24-25 2019年9月

  47. 誘導自己組織化による極微細三次元配線形成技術

    福島誉史, 福島誉史, MURUGESAN Mariappan, 小柳光正

    電子情報通信学会技術研究報告 118 (438(SDM2018 91-97)) 2019年

    ISSN: 0913-5685

  48. Multichip-to-Wafer三次元集積化基盤技術の開発(3)-異種機能集積化に向けたマイクロバンプ接合技術-

    三輪侑紀, LEE Sungho, LIANG Rui, 木野久志, 福島誉史, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 66th 2019年

  49. Multichip-to-Wafer三次元集積化基盤技術の開発(1)-テンポラリ接着剤を用いた一括チップ薄化技術-

    LEE Sungho, LIANG Rui, 三輪侑紀, 木野久志, 福島誉史, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 66th 2019年

  50. μLED埋め込み型フレキシブルオプト神経プローブの開発

    島智大, 煤孫裕樹, ZHANG Bowen, 浦山翔太, 木野久志, 福島誉史, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 66th 2019年

  51. 高集積ストレッチャブルデバイス作製に資する基盤技術研究

    福島誉史

    村田学術振興財団年報 (33) 2019年

    ISSN: 0919-3383

  52. チップ内蔵フレキシブル・ハイブリッド・エレクトロニクスの電気特性評価

    煤孫祐樹, ZHENGYANG Qian, 高橋則之, 木野久志, 田中徹, 田中徹, 福島誉史

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 66th 2019年

  53. ハイドロゲルを用いたフレキシブル・ハイブリッド・エレクトロニクス作製

    高橋則之, 煤孫祐樹, 木野久志, 田中徹, 田中徹, 福島誉史

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 66th 2019年

  54. TSVを用いた三次元集積技術によるAIチップの開発

    福島誉史, 福島誉史, 福島誉史

    半導体・集積回路技術シンポジウム(CD-ROM) 83rd 2019年

  55. RDL-first FOWLPによるハイドロゲル用いたFHEのためのチップ内蔵技術

    高橋則之, 煤孫祐樹, 木野久志, 田中徹, 田中徹, 福島誉史, 福島誉史

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 80th 2019年

  56. 光遺伝学用UCNPオプト神経プローブの発光強度特性評価

    浦山翔太, 木野久志, 福島誉史, 福島誉史, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 80th 2019年

  57. 経爪型集積化光電容積脈波計測システムの開発-二階微分回路の設計と評価-

    SATAKE Filipe Alves, LEE Kar Mun, QIAN Zhengyang, 矢吹僚介, DU Bang, 福島奨, 木野久志, 福島誉史, 清山浩司, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 80th 2019年

  58. 高密度電極接続を用いた三次元集積のための低背マイクロバンプ接合評価

    三輪侑紀, LEE Sungho, LIANG Rui, 熊原宏征, 木野久志, 福島誉史, 福島誉史, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 80th 2019年

  59. Multichip-to-Wafer三次元集積に向けたマイクロバンプ接合技術

    熊原宏征, 三輪侑紀, LEE Sungho, LIANG Rui, 木野久志, 福島誉史, 福島誉史, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 80th 2019年

  60. 硬い単結晶半導体で創る曲面集積フレキシブルデバイス創製

    福島誉史

    天野工業技術研究所年次報告 2018 2019年

  61. ニューラルネットワーク向け相関二重サンプリング回路の開発

    清水郁也, 清山浩司, 木野久志, 福島誉史, 田中徹, 小柳光正

    電気・情報関係学会九州支部連合大会講演論文集(CD-ROM) 72nd 2019年

  62. 多段階励起による発光現象を用いた光遺伝学用神経プローブの作製

    浦山翔太, 島智大, ZHANG Bowen, 木野久志, 福島誉史, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 66th 2019年

  63. 高集積フレキシブルデバイスシステム作製の技術基盤構築

    煤孫祐樹, 木野久志, 田中徹, 田中徹, 福島誉史

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 65th 2018年

  64. 経爪型集積化光電容積脈波計測システムの開発(2)-動脈血酸素飽和度(SpO2)の計測-

    矢吹僚介, QIAN Zhengyang, 竹澤好樹, 下川賢士, LEE Kar Mun, 木野久志, 福島誉史, 清山浩司, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 65th 2018年

  65. 三次元積層シリコン神経プローブアレイの開発(2)-低侵襲刺入を目的としたシャンク配置の検討-

    島智大, 原島卓也, ZHANG Bowen, 森川拓実, 木野久志, 福島誉史, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 65th 2018年

  66. 経爪型集積化光電容積脈波計測システムの開発(1)-集積化PPG計測LSIの設計と評価-

    QIAN Zhengyang, 竹澤好樹, 下川賢士, 矢吹僚介, LEE Karmun, 木野久志, 福島誉史, 清山浩司, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 65th 2018年

  67. 真空支援スピン塗布型BCBライナー絶縁膜を用いたTSV形成技術

    李晟豪, 菅原陽平, 伊藤誠人, 木野久志, 福島誉史, 田中徹, 田中徹

    エレクトロニクス実装学会講演大会講演論文集(CD-ROM) 32nd 2018年

    ISSN: 1880-4616

  68. DRAMセルアレイを用いた3D-IC内部のCu汚染の高精度評価

    谷川星野, 福島誉史, 木野久志, 田中徹, 田中徹

    エレクトロニクス実装学会講演大会講演論文集(CD-ROM) 32nd 2018年

    ISSN: 1880-4616

  69. マルチウェル構造TSVを用いたTSV側壁界面評価方法の開発

    菅原陽平, 木野久志, 福島誉史, 田中徹, 田中徹

    電子情報通信学会論文誌 C(Web) J101-C (2) 2018年

    ISSN: 1881-0217

  70. 高集積フレキシブルデバイスシステム作製のための応力緩衝層の評価

    煤孫祐樹, JACQUMOND Achille, JACQUMOND Achille, 高橋則之, 木野久志, 田中徹, 田中徹, 福島誉史

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 79th 2018年

  71. 経爪型集積化光電式SpO2計測システムの開発-回路の設計と評価-

    矢吹僚介, QIAN Zhengyang, LEE Kar Mun, BANG Du, 木野久志, 福島誉史, 清山浩司, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 79th 2018年

  72. 三次元集積化技術の現状と脳型情報処理システムへの応用

    小柳光正, 福島誉史

    光技術コンタクト 56 (10) 30-40 2018年

    ISSN: 0913-7289

  73. 経爪型集積化光電容積脈波計測システムの開発-受光・計測回路の設計と評価-

    QIAN Zhengyang, 竹澤好樹, 下川賢士, 木野久志, 福島誉史, 清山浩司, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 78th 2017年

  74. 三次元積層人工網膜チップのためのラプラシアンエッジ強調機能を有する刺激電流生成回路の評価

    下川賢士, QIAN Zhengyang, 竹澤好樹, 木野久志, 福島誉史, 清山浩司, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 78th 2017年

  75. 矩形波インピーダンス計測のためのGIDL電流を用いた低周波リングオシレータの設計と評価

    竹澤好樹, 下川賢士, QIAN Zhengyang, 福島奨, 木野久志, 福島誉史, 清山浩司, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 78th 2017年

  76. 皮質層別刺激可能なシリコンオプト神経プローブの開発

    森川拓実, 原島卓也, ZHANG Bowen, 土居史弥, 木野久志, 福島誉史, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 78th 2017年

  77. 生体信号計測・電気刺激のためのGIDL電流を用いたインピーダンス計測回路の評価

    清山浩司, 竹澤好樹, 下川賢士, 銭正ヨウ, 木野久志, 福島誉史, 田中徹

    電気・情報関係学会九州支部連合大会講演論文集(CD-ROM) 70th 2017年

  78. 三次元神経活動記録のための積層シリコン神経プローブアレイの開発

    原島卓也, 森川拓実, ZHANG Bowen, 土居史弥, 木野久志, 福島誉史, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 78th 2017年

  79. 特定深さの細胞のみ光刺激可能な光ファイバ埋め込みシリコンオプト神経プローブの開発

    森川拓実, 原島卓也, 木野久志, 福島誉史, 片山統裕, 虫明元, 田中徹

    日本生体医工学会大会プログラム・抄録集(Web) 56th (3) 191-191 2017年

    出版者・発行元: 公益社団法人 日本生体医工学会

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    近年、脳科学研究の分野において光遺伝学が注目されている。光遺伝学は光感受性タンパク質を発現した細胞のみを刺激可能であり、発現させる光感受性タンパク質を変えることで細胞の興奮と抑制を制御することができる。一方、脳神経の電気活動記録に用いられるツールの一つであるシリコン神経プローブは、微細な記録電極を高密度に形成することができ、脳神経活動を多点かつ精密に記録することが可能である。このシリコン神経プローブ上に光刺激機能を実装することで、光感受性タンパク質を発現させた細胞を光刺激し、同時に神経プローブ上の記録電極で神経活動を記録することが可能である。これまで、光ファイバをプローブのシャンク部上面に接着した光刺激機能を有する神経プローブが報告されている。しかし、接着された光ファイバによって、刺入時の脳細胞の損傷が増大する恐れがある。我々は細胞損傷を抑制しながら脳に刺入して光刺激できる神経プローブの実現を目指し、光ファイバ埋め込みシリコンオプト神経プローブの開発を行った。神経プローブのシャンク部に溝を形成し、光ファイバを埋め込むことで脳内に刺入する際の損傷を低減できる。また、溝端部に斜め加工を施すことでプローブ刺入方向と垂直に光を照射でき、特定の深さの細胞のみに光刺激を行うことが可能である。この新しい神経プローブは光遺伝学を用いた脳機能解明において有用なツールの一つとして使用可能である。

  80. 三次元神経活動記録のための積層尖鋭化シリコン神経プローブアレイの開発

    原島卓也, 森川拓実, 木野久志, 福島誉史, 片山統裕, 虫明元, 田中徹

    日本生体医工学会大会プログラム・抄録集(Web) 56th (3) 189-189 2017年

    出版者・発行元: 公益社団法人 日本生体医工学会

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    &lt;p&gt;神経回路網の研究では三次元的に高密度で配置された記録電極を有する神経プローブを用いた神経活動の解析が有効である。これまでに三次元的に記録点を配置した神経プローブはいくつか報告されているが、電極密度や加工精度に限界がある。今回、我々は三次元神経活動記録のための積層尖鋭化シリコン神経プローブアレイについて報告する。このシリコン神経プローブアレイは4本のシャンクを有する3つの単層プローブを2つのスペーサを用いて熱圧着で積層したもので、12本のシャンクと三次元的に配置された156の記録電極を有している。脳刺入による細胞損傷を低減させるために、積層後のSiの異方性エッチングによってシャンクの断面形状を四角形から三角形にして断面積を減らし、刺入後の脳への圧迫を低減している。また、シャンク先端を尖らせることで刺入に必要な力や脳の変形も同様に低減している。本神経プローブアレイは半導体微細加工技術を用いて作製しているため、高い電極密度と位置合わせ精度を実現している。試作した積層尖鋭化シリコン神経プローブアレイの刺入特性を評価したところ、尖鋭化していないものに比べて優れた刺入特性を示すことを確認した。積層尖鋭化シリコン神経プローブアレイは三次元的に高密度で配置された記録電極と優れた刺入特性を有しており、神経回路網の解明や神経生理学の発展に大きく寄与するものである。&lt;/p&gt;

  81. Heterogeneous Integration with High-Performance and Scalable Substrates: Si-IF (Interconnect Fabric) and FlexTrateTM

    T. Fukushima, A. Bajwa, S.S.Iyer

    Advancing Microelectronics Magazine Mar./Apr. 2017年

  82. 『健康的に見える外見に着目した取り組み』~統合失調症患者に対する立位姿勢・歩行へのアプローチ~

    坂井孝行, 東将洋, 山井亨, 上村真紀, 福島翔, 尾林誉史, 佐田美佐子, 岡崎祐士

    九州精神神経学会・九州精神医療学会プログラム・抄録集 69th-62nd 2016年

  83. シリコンウエハの表面処理 半導体ウエハへの三次元配線加工:TSVと狭ピッチ電極を中心に

    福島誉史, 福島誉史, 福島誉史, LEE Kang-Wook, 田中徹, 田中徹, 小柳光正

    表面技術 67 (8) 414-420 2016年

    DOI: 10.4139/sfj.67.414  

    ISSN: 0915-1869

  84. 高集積フレキシブルSiデバイス作製技術の開発

    福島誉史

    立石科学技術振興財団助成研究成果集 (24) 2015年

    ISSN: 0918-9939

  85. 気相堆積重合ポリイミドを用いたTSVライナー形成

    福島誉史, MARIAPPAN Murugesan, BEA Ji-Ceol, LEE Kang-Wook, 小柳光正

    電子情報通信学会技術研究報告 113 (451(SDM2013 165-173)) 2014年

    ISSN: 0913-5685

  86. 3D IC用ビアラスト・バックサイドビアプロセスにおけるプラズマダメージのMOSFET特性への影響評価

    菅原陽平, 橋口日出登, 谷川星野, 木野久志, 福島誉史, LEE K.-W., 小柳光正, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 75th 2014年

  87. 三次元集積化におけるTSV作製プロセスがトランジスタ特性に及ぼす影響評価

    菅原陽平, 谷川星野, 橋口日出登, 木野久志, 福島誉史, LEE Kangwook, 小柳光正, 田中徹

    電気学会全国大会講演論文集(CD-ROM) 2014 2014年

  88. 高解像網膜下刺激人工網膜モジュールの開発

    木暮爾, 笹木悠一郎, 長沼秀樹, 渡辺洋太, 木野久志, 福島誉史, LEE Kangwook, 小柳光正, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 60th 2013年

  89. 光電子集積三次元LSIのための高効率光カップラの作製

    乗木暁博, LEE K.-W, BEA J.-C., 福島誉史, 田中徹, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 60th 2013年

  90. 自己組織化静電仮接合を用いたC2W三次元集積化技術

    橋口日出登, 福島誉史, BEA J., MURUGESAN Mariappan, 木野久志, LEE K.-W., 田中徹, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 60th 2013年

  91. 室温硬化型樹脂による3D IC内の機械応力低減に関する検討

    木野久志, 福島誉史, 小柳光正, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 74th 2013年

  92. C2W三次元集積のための自己組織化静電仮接合の評価

    橋口日出登, 福島誉史, BEA J.-C., 木野久志, LEE K.-W., 田中徹, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 74th 2013年

  93. 三次元LSIとヘテロインテグレーション

    LEE K-W., 福島誉史, 田中徹, 小柳光正

    半導体・集積回路技術シンポジウム講演論文集 77th 2013年

  94. 機能性液体を用いた自己組織化チップ実装技術

    伊藤有香, 伊藤有香, 福島誉史, 李康旭, 長木浩司, 田中徹, 田中徹, 小柳光正

    エレクトロニクス実装学会講演大会講演論文集(CD-ROM) 27th 2013年

    ISSN: 1880-4616

  95. 自己組織化静電吸着技術を利用した三次元チップ積層

    橋口日出登, 福島誉史, はい志哲, 木野久志, 李康旭, 田中徹, 田中徹, 小柳光正

    エレクトロニクス実装学会講演大会講演論文集(CD-ROM) 27th 2013年

    ISSN: 1880-4616

  96. 三次元集積化技術の動向と実用化に向けた課題

    李 康旭, 福島 誉史, 田中 徹, 小柳 光正

    電子情報通信学会技術研究報告. ICD, 集積回路 112 (324) 15-22 2012年11月20日

    出版者・発行元: 一般社団法人電子情報通信学会

    ISSN: 0913-5685

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    これまで,LSIは,半導体素子の微細化により,著しい速度で高性能化,大容量化が達成されてきた.しかし,消費電力の増大や特性ばらつきの増加などにより微細化が次第に難しくなってきている.これらの問題を解決するためには,素子の微細化だけでなく,LSIに実装技術やMEMS技術,フォトニクス技術などの異種技術を融合して,システム全体で高性能化,高機能化をはかる新しい集積化技術が必要となる.したがって,今後のLSI開発は,素子の微細化を更に進めるMore Moore技術と,異種技術を融合するMore than Moore技術を車の両輪のようにうまく協調,共存させながら進めていくことが重要になる.本報告では,More than Moore技術を代表する技術の一つである3次元集積化技術について,現状の課題と将来の可能性について言及する.

  97. 三次元積層人工網膜チップ用TiN薄膜を有するZnO系透明刺激電極の開発

    大西 青葉, 田中 文悟, 番場 崚太郎, 劉 帥, 木野 久志, 福島 誉史, 田中 徹

    第82回応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集 2012年9月

  98. 風力発電機出力平滑化用エネルギー貯蔵装置の定格決定に関する検討

    黒瀬誉史, 高橋理音, 田村淳二, 福島知之, 坂原淳史, 新谷宏治

    電気学会論文誌 B 132 (2) 2012年

    ISSN: 0385-4213

  99. 24×24ピクセルを有する網膜下刺激人工網膜モジュールの開発

    渡辺慶朋, 長沼秀樹, 木暮爾, 笹木悠一郎, 清山浩司, 清山浩司, 福島誉史, LEE Kangwook, 小柳光正, 田中徹, 田中徹

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM) 59th 2012年

  100. 高信頼性Cu-TSVのための応力低減層の開発

    橋口日出登, MURGESAN Mariappan, 福島誉史, LEE K., 田中徹, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM) 59th 2012年

  101. チッププロセスによる積層チップ形成

    朴澤一幸, 花岡裕子, 青木真由, 武田健一, LEE K.W., 福島誉史, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 73rd 2012年

  102. 光電子集積三次元LSIのための高効率光カップラの検討

    乗木暁博, LEE K.-W, BEA J.-C., 福島誉史, 田中徹, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 73rd 2012年

  103. 三次元リコンフィギャラブルスピンプロセッサ用金属マイクロバンプ接合技術の開発

    木野久志, 福島誉史, 小柳光正, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 73rd 2012年

  104. 接着界面の濡れ性を制御した3D IC用チップ/ウェーハ転写技術

    大原悠希, LEE K., 福島誉史, 田中徹, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM) 59th 2012年

  105. 和文論文誌C 特集号 「高密度実装を牽引する材料技術とヘテロインテグレーション」編集幹事(特集号編集委員会)

    福島誉史

    電子情報通信学会, エレクトロニクスソサエティNEWS LETTER 150 19-19 2012年

  106. Cu-TSV/Cu-Snマイクロバンプを有する薄ウェハのストレス評価

    マリヤッパン ムルゲサン, 福島 誉史, 田中 徹, 小柳 光正

    電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス 110 (408) 43-47 2011年1月31日

    出版者・発行元: 一般社団法人電子情報通信学会

    ISSN: 0913-5685

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    マイクロバンプとTSVインターコネクションにより薄いLSIウェハで発生したストレスをマイクロラマン分光による詳細な分析を行った。(i)大型バンプでは、より深部までストレスが伝播する。(ii)バンプ間隔がより小さい場合、ストレスはより広範囲に伝播する。(iii) Cu-TSVに囲まれたSi内で大きな圧縮ストレスに続いて引張ストレスが継続される。

  107. 脳深部刺激のための刺激電極付きシリコン神経プローブの開発

    菅野壮一郎, 小林吏悟, LEE S., 雪田嘉穂, LEE K., 福島誉史, 片山統裕, 虫明元, 小柳光正, 田中徹

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM) 58th 2011年

  108. 3次元積層による薄化LSIチップの変形と応力分布の解析

    木野久志, MURUGESAN Mariappan, BEA Jichel, LEE Kangwook, 福島誉史, 小柳光正, 田中徹, 田中徹

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM) 58th 2011年

  109. 高集積微細デバイスにおける今後の信号伝達/配線技術:シリコン貫通光インターコネクション(TSPV)を用いた光電子三次元集積化技術

    福島誉史, 乗木暁博, 田中徹, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM) 58th 2011年

  110. 眼球内完全埋込型人工網膜用ピラー型刺激電極アレイの開発

    竹下博隆, 渡辺慶朋, 乗木暁博, LEE Kangwook, 福島誉史, 小柳光正, 田中徹, 田中徹

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM) 58th 2011年

  111. 光・電気刺激に対する網膜応答記録用フレキシブルケーブル電極の作製

    木暮爾, 渡辺慶朋, 笹木悠一郎, LEE Kangwook, 福島誉史, 小柳光正, 田中徹

    応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 72nd 2011年

  112. 脳深部刺激用シリコン神経プローブの刺激電極材料評価

    雪田嘉穂, LEE S., 菅野壮一郎, LEE K., 福島誉史, 小柳光正, 片山統裕, 虫明元, 田中徹

    応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 72nd 2011年

  113. 電極間クロストークを抑制した人工網膜用ピラー型刺激電極アレイの開発

    渡辺慶朋, 木暮爾, LEE Kangwook, 福島誉史, 小柳光正, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 72nd 2011年

  114. 光電子集積三次元LSIに用いるシリコン貫通光配線のFDTD解析

    乗木暁博, LEE K.-W, BEA J.-C., 福島誉史, 田中徹, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 72nd 2011年

  115. 三次元積層時の局所応力がMOSFETの特性に与える影響

    木野久志, MURUGESAN Mariappan, BEA Jichel, LEE Kangwook, 福島誉史, 小柳光正, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 72nd 2011年

  116. 三次元集積のための高精度チップ位置合わせと常温直接接合技術

    岩田永司, 福島誉史, LEE K.-W., 田中徹, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM) 58th 2011年

  117. 狭ピッチ金属マイクロバンプを有するチップの自己組織化実装技術

    福島誉史, 岩田永司, 李康旭, 田中徹, 田中徹, 小柳光正

    エレクトロニクス実装学会講演大会講演論文集(CD-ROM) 25th 2011年

    ISSN: 1880-4616

  118. 三次元光・電子融合集積化技術

    李 康旭, 乗木 暁博, 清山 浩司, 福島 誉史, 田中 徹, 小柳 光正

    電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス 109 (408) 21-24 2010年1月22日

    出版者・発行元: 一般社団法人電子情報通信学会

    ISSN: 0913-5685

    詳細を見る 詳細を閉じる

    三次元光・電子融合集積化技術を提案した。三次元光・電子融合システムを実現する為、セルフアセンブリによるチップ積層、乗越え配線およびチップ間の光接続を用いたLSI、MEMSや光デバイスを統合する技術を開発した。三次元光・電子融合集積化技術を用いて、複数のLSI、MEMSや光デバイスにより構成される三次元光・電子融合マルチチップモジュールを作製した。デジタル振幅変調LSI、LCフィルタ、MEMS圧カセンサチップが搭載された電気通信用インターポーザとVCSELやフォトダイオードが埋め込まれた光通信用インターポーザの接合によって、三次元光・電子融合マルチチップモジュールが製作された。光および電子デバイスは各々のTSVを介して通信が行われる。光デバイス間は光通信用インターポーザに作製された導波路を用いて接続される。三次元光・電子融合マルチチップモジュールに搭載されたLSL、MEMSおよび光デバイスの機能動作に初めて成功した。

  119. 三次元集積化技術の課題と展望

    小柳光正, 福島誉史, LEE Kang-Wook, 田中徹

    電子情報通信学会技術研究報告 109 (412(SDM2009 182-192)) 2010年

    ISSN: 0913-5685

  120. 三次元積層型人工網膜チップのための三次元積層技術の開発

    海法克享, 大原悠希, 清山浩司, LEE K., 福島誉史, 小柳光正, 田中徹, 田中徹

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM) 57th 2010年

  121. 三次元集積回路のための高密度Cu/Snマイクロバンプ形成技術

    大原悠希, 乗木暁博, MURUGESAN Mariappan, 岩田永司, 開達郎, LEE K.-W., BEA J.-C., 福島誉史, 田中徹, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM) 57th 2010年

  122. メタルナノドットメモリの電荷保持特性に関する研究

    開達郎, PEI Yanli, 小島俊哉, BEA Ji Cheol, 木野久志, 福島誉史, 小柳光正, 田中徹, 田中徹

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM) 57th 2010年

  123. スピン回路を用いたリコンフィギュラブルプロセッサに関する基礎検討

    清山浩司, 清山浩司, 福島誉史, 小柳光正, 田中徹

    電気関係学会九州支部連合大会講演論文集(CD-ROM) 63rd 2010年

  124. 縦型メタルナノドット不揮発性メモリに関する研究

    開達郎, 栗山祐介, 小島俊哉, MURUGESAN Mariappan, PEI Yanli, 木野久志, BEA Ji Cheol, 福島誉史, 小柳光正, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 71st 2010年

  125. LSI積層による曲げ応力がデバイス特性に与える影響に関する研究

    木野久志, 開達郎, 栗山祐介, MURUGESAN Mariappan, BEA Jichel, LEE Kangwook, 福島誉史, 小柳光正, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 71st 2010年

  126. ファインピッチ金属マイクロバンプを有するチップの自己組織化積層

    岩田永司, 福島誉史, LEE Kang-Wook, 小柳光正, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 71st 2010年

  127. 金属マイクロバンプ接合を介した自己組織化チップ積層

    岩田永司, 福島誉史, LEE K.-W., 田中徹, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM) 57th 2010年

  128. 風力発電機出力平滑化用エネルギー貯蔵装置の定格決定に関する検討

    黒瀬誉史, 高橋理音, 田村淳二, 福島知之, 笹野栄一, 坂原淳史, 新谷宏治

    電気学会回転機研究会資料 RM-10 (134-152) 2010年

  129. 光導波路付きシリコン神経プローブの開発

    小林吏悟, LEE S., 菅野壮一郎, 酒井誠一郎, LEE K., 福島誉史, 片山統裕, 虫明元, 八尾寛, 小柳光正, 田中徹, 田中徹

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM) 57th ROMBUNNO.17P-ZD-15 2010年

  130. 神経細胞の高精度光刺激のための光導波路付きシリコン神経プローブの開発

    小林吏悟, LEE S., 菅野壮一郎, 酒井誠一郎, LEE K., 福島誉史, 石塚徹, 虫明元, 八尾寛, 小柳光正, 田中徹

    応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 71st ROMBUNNO.16A-ZW-24 2010年

  131. 電子回路・実装の注目製品・技術 3次元積層型集積回路に向けた自己組織化チップ実装技術

    福島誉史, LEE Kang Wook, 田中徹, 小柳光正

    電子材料 49 (6) 17-24 2010年

    ISSN: 0387-0774

  132. in-vivo神経細胞活動記録用両面電極付きSiプローブの開発

    LEE S., 小林吏悟, 管野壮一郎, 福島誉史, 坂本一寛, 松坂義哉, 片山統裕, 虫明元, 田中徹, 田中徹, 小柳光正, 小柳光正

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集 56th (3) 2009年

  133. 神経細胞活動のin vivo記録用Si両面プローブの開発

    LEE S., 小林吏悟, 菅野壮一郎, 福島誉史, 坂本一寛, 松坂義哉, 片山統裕, 虫明元, 小柳光正, 田中徹, 田中徹

    日本生体医工学会大会プログラム・論文集(CD-ROM) 48th 2009年

  134. メタルナノドットメモリの電荷保持特性に関する研究

    開達郎, PEI Yanli, 小島俊哉, BEA Ji Cheol, 木野久志, 福島誉史, 田中徹, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 70th (2) 2009年

  135. 周波数変動を考慮した風力発電機出力平滑化用エネルギー貯蔵装置の設計に関する基礎検討

    黒瀬誉史, 高橋理音, 田村淳二, 福島知之, 笹野栄一, 新谷宏治

    電気・情報関係学会北海道支部連合大会講演論文集(CD-ROM) 2009 2009年

  136. 窒化膜スペーサによる縦型MOSFETの寄生容量低減に関する研究

    木野久志, 開達郎, BEA J.C., 福島誉史, 田中徹, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 70th (2) 2009年

  137. 眼球内完全埋め込み型人工網膜のためのピラー型刺激電極の開発

    竹下博隆, 海法克享, LEE K.-W., 福島誉史, 田中徹, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 70th (3) 2009年

  138. 自己組織化による三次元LSIチップの高精度位置合わせ技術

    岩田永司, 福島誉史, 田中徹, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 70th (2) 2009年

  139. マイクロ流路付き両面シリコン神経プローブの開発

    菅野壮一郎, 小林吏悟, LEE S., LEE K., 福島誉史, 坂本一寛, 松坂義哉, 片山統裕, 虫明元, 小柳光正, 田中徹, 田中徹

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 70th (3) 2009年

  140. 実装技術とそれを支える周辺機器 自己組織化によるウェハレベル三次元集積化技術

    福島誉史, 小柳光正, 田中徹

    M & E 36 (1) 123-125 2009年

    ISSN: 0286-1550

  141. Characterization of metal nanodots nonvolatile memory (シリコン材料・デバイス)

    裴 艶麗, 西嶋 雅彦, 福島 誉史, 田中 徹, 小柳 光正

    電子情報通信学会技術研究報告 108 (80) 83-88 2008年6月9日

    出版者・発行元: 一般社団法人電子情報通信学会

    ISSN: 0913-5685

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    SAND(Self-Assembled Nanodot Deposition)法を用いて、絶縁膜中に高密度の金属ナノドットが埋め込まれた金属ナノドット膜を形成した。金属としてタングステン、絶縁膜としてシリコン酸化膜とシリコン窒化膜を用いた。TEMやXPSの物性分析によって、金属ナノドットの熱安定性と化学組成を評価し、シリコン窒化膜中ではタングステンナノドット(W-ND)の酸化が抑制されていることを明らかにした。さらに、W-ND膜を用いたMOSキャパシタを試作し、ナノドットへの電子注入・放出、電荷保持特性を評価した。W-NDをシリコン酸化膜中に埋め込んだMOSキャパシタの短い電荷保持時間に対して、W-NDをシリコン窒化膜に埋め込んだMOSキャパシタでは約10年の電荷保持が可能である。前者ではW-NDが酸化されることにより、捕獲される電子のエネルギー状態が変わり、電荷保持時間が短くなっていると考えられる。金属ナノドット不揮発性メモリの実現には、金属ナノドットが酸化されない絶縁膜を採用することが重要である。

  142. MEMS-半導体横方向配線技術 II:配線基板へのMEMSチップのセルフアセンブリ

    今野隆行, 福島誉史, 菊池宏和, 佐藤圭悟, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集 55th (2) 2008年

  143. 三次元LSI技術を用いた人工視覚と脳埋め込み電極

    小柳光正, 福島誉史, 田中徹

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集 55th 2008年

  144. 自己組織化ウェーハ張り合わせによる三次元集積化技術

    福島誉史, 田中徹, 小柳光正

    電子情報通信学会技術研究報告 107 (481(SDM2007 263-272)) 2008年

    ISSN: 0913-5685

  145. MEMS-半導体横方向配線技術 IV:インプリント技術を用いたマイクロバンプ形成

    菊池宏和, 山田裕介, 福島誉史, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集 55th (2) 2008年

  146. 高密度記録のためのSi両面電極の開発

    小林吏悟, 佐藤圭悟, 小宮謙, 管野壮一郎, 福島誉史, 坂本一寛, 田中徹, 片山統裕, 虫明元, 小柳光正

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集 55th (3) 2008年

  147. FM/I/Nano-Dot FM構造でのスピン電子の磁気トンネル効果

    BEA JiChel, BEA JiChel, MURUGESAN M., MURUGESAN M., YIN ChengKuan, 福島誉史, 田中徹, 寒川誠二, 河野省三, 佐道泰造, 宮尾正信, 名取研二, 小柳光正

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集 55th (2) 2008年

  148. MEMS-半導体横方向配線技術 V:高透磁率膜上に形成したインダクタの基本特性

    木野久志, YIN C.K., JEON W.C, 小宮謙, 清山浩司, 福島誉史, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集 55th (2) 2008年

  149. シリコン窒化膜中に埋め込んだタングステンナノドットフローティングゲートMOSキャパシタのメモリ特性

    PEI Y, 福島誉史, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集 55th (2) 2008年

  150. キャビティ構造を有するMEMSチップのセルフアセンブリ

    今野隆行, 小林吏悟, 福島誉史, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 69th (2) 2008年

  151. 三次元LSIを搭載した光インターポーザのためのテーパTSVの形成

    乗木暁博, 藤原誠, 藤原誠, 福島誉史, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 69th (3) 2008年

  152. 直接接合法を用いたマイクロ流路付Siプローブの開発

    菅野壮一郎, 小林吏悟, 福島誉史, 坂本一寛, 片山統裕, 虫明元, 田中徹, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 69th (3) 2008年

  153. High-k絶縁膜を有するタングステンナノドットフローティングゲートMOSキャパシタのメモリ特性

    PEI Y., 西嶋雅彦, 福島誉史, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 69th (2) 2008年

  154. MEMS-半導体横方向配線技術I:フレキシブル基板へのLSIチップのセルフアセンブリ

    福島誉史, 今野隆行, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集 55th (2) 2008年

  155. 眼球内撮像型人工網膜システムで用いるTiN刺激電極のインピーダンス特性

    佐藤圭悟, 小宮謙, 小林貴史, 小林吏悟, 福島誉史, 富田浩史, 菅野江里子, 栗野浩之, 田中徹, 玉井信, 小柳光正

    日本生体医工学会大会プログラム・論文集(CD-ROM) 47th ROMBUNNO.PS2-6-11 2008年

  156. 眼球内人工網膜チップへの電力供給用2次コイルの開発

    小宮謙, 佐藤圭吾, 小林貴史, 小林吏悟, 海法克享, 福島誉史, 富田浩史, 栗野浩之, 田中徹, 玉井信, 小柳光正, 小柳光正

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集 55th (3) 1360 2008年

  157. 無線通信による出力電流調整可能な人工網膜チップの設計

    小林貴史, 小宮謙, 佐藤圭悟, 清山浩司, 福島誉史, 富田浩史, 栗野浩之, 田中徹, 玉井信, 小柳光正, 小柳光正

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集 55th (3) 1359 2008年

  158. 3次元積層型人工網膜チップ実装のためのフレキシブル基板上におけるマイクロバンプ形成

    佐藤圭悟, 小宮謙, 小林貴史, 小林吏悟, 福島誉史, 富田浩史, 栗野浩之, 田中徹, 小柳光正, 小柳光正

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集 55th (3) 1360 2008年

  159. Tungsten Through-Si Via (TSV) Technology for Three-Dimensional LSIs

    KIKUCHI Hirokazu, YAMADA Yusuke, ALI Atif Mossad, LIANG Jun, FUKUSHIMA Takafumi, TANAKA Tetsu, KOYANAGI Mitsumasa

    Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials 2007 482-483 2007年9月19日

  160. Memory Window Enhancement of MOS Memory Devices with High Density Self-Assembled Tungsten Nano-dot

    PEI Yanli, FUKUSHIMA Takafumi, TANAKA Tetsu, KOYANAGI Mitsumasa

    Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials 2007 242-243 2007年9月19日

  161. New Reconfigurable Memory Architecture for Parallel Image Processing LSI with Three-Dimensional Structure

    KODAMA Shigeo, AMANO Daijiro, SUGIMURA Takeaki, FUKUSHIMA Takafumi, TANAKA Tetsu, KOYANAGI Mitsumasa

    Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials 2007 1064-1065 2007年9月19日

  162. Development of Power Supply System for Three-Dimensionally Staked Retinal Prosthesis Chip

    KOMIYA Ken, KOBAYASHI Risato, KOBAYASHI Takafumi, SATO Keigo, FUKUSHIMA Takafumi, TOMITA Hiroshi, KURINO Hiroyuki, TANAKA Tetsu, TAMAI Makoto, KOYANAGI Mitsumasa

    Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials 2007 658-659 2007年9月19日

  163. VCSEL のインターコネクションへの応用

    小柳光正, 福島誉史, 田中徹, 藤原誠

    O Plus E (特集:VCSELの最先端技術と応用, そして将来展望) 29 (4) 348-352 2007年4月

    出版者・発行元: 新技術コミュニケーションズ

  164. 金属ナノドットフローティングゲートMOSキャパシタのメモリ特性

    PEI Y., 福島誉史, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 68th (2) 2007年

  165. 3次元実装技術とスーパーチップインテグレーション

    田中徹, 福島誉史, 小柳光正

    電子情報通信学会技術研究報告 106 (467(CPM2006 129-154)) 2007年

    ISSN: 0913-5685

  166. VCSELの最先端技術と応用,そして将来展望 VCSELのインターコネクションへの応用

    小柳光正, 福島誉史, 田中徹, 藤原誠, 藤原誠

    O plus E (329) 2007年

    ISSN: 0911-5943

  167. 三次元集積化のための高アスペクト比シリコンエッチング技術の開発

    菊池宏和, 山田裕介, 福島誉史, 田中徹, 小柳光正

    エレクトロニクス実装学会講演大会講演論文集 21st 2007年

    ISSN: 1880-4616

  168. 3次元積層型LSIチップを用いた人工視覚システム

    田中徹, 福島誉史, 小柳光正

    日本生体医工学会大会プログラム・論文集(CD-ROM) 46th 2007年

  169. Investigation of FePt Nano-Dots Fabricated by Self-Assembled Nano-Dot Deposition Method Using X-ray Photoelectron Spectroscopy

    M. Murugesan, J. C. Bea, C-K. Yin, H. Nohira, E. Ikenaga, T. Hattori, M. Nishijima, T. Fukushima, T. Tanaka, M.Miyao, M. Koyanagi

    Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials CDROM 1026-1027 2007年

  170. 積層型人工網膜チップへの電力供給方法の開発-ショットキーバリアダイオードの設計と試作-

    小宮謙, 渡部泰一郎, 小林貴史, 小林吏悟, 福島誉史, LI H. G., 富田浩史, 菅野江里子, 栗野浩之, 田中徹, 玉井信, 小柳光正, 小柳光正

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集 54th (3) 1376 2007年

  171. 人工網膜システム用可変バイアス電圧生成回路の設計

    小林貴史, 小宮謙, 渡部泰一郎, 福島誉史, LI H. G., 富田浩史, 菅野江里子, 栗野浩之, 田中徹, 玉井信, 小柳光正, 小柳光正

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集 54th (3) 1375 2007年

  172. 人工網膜用データ受信回路の試作と評価

    小林貴史, 小宮謙, 佐藤圭悟, 福島誉史, 富田浩史, 栗野浩之, 田中徹, 玉井信, 小柳光正, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 68th (3) 1307 2007年

  173. 網膜刺激電極のインピーダンス特性に対する電極材料および寸法の影響

    佐藤圭悟, 小宮謙, 小林貴史, 小林吏悟, 福島誉史, 富田浩史, 栗野浩之, 田中徹, 小柳光正, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 68th (3) 1308 2007年

  174. 三次元積層型人工網膜チップへの電力供給用2次コイルの開発

    小宮謙, 小林貴史, 佐藤圭吾, 小林吏悟, 福島誉史, 富田浩史, 栗野浩之, 田中徹, 玉井信, 小柳光正, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 68th (3) 1308 2007年

  175. 三次元集積回路技術を用いた並列画像処理のための再構成可能な積層型メモリシステムの設計

    天野 大二朗, 杉村 武昭, 小西 雄太, 福島 誉史, 田中 徹, 小柳 光正

    情報処理学会研究報告システムLSI設計技術(SLDM) 2006 (111) 147-152 2006年10月27日

    出版者・発行元: 一般社団法人情報処理学会

    ISSN: 0919-6072

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    ロボットビジョンのような視覚情報処理においてはビデオレポートを大幅に超える実時間高速画像処理システムが必要とされる。このような画像処理システムとして、これまでにイメージセンサ、メモリ、処理回路を積層した三次元積層型並列画像処理システムが提案されている。このシステムではイメージセンサから得られた画像は分割され、処理回路と1対1で結合された複数のメモリに格納される。そして、処理回路により並列に画像処理を行う。しかし、演算対象の画素だけではなく、その近傍の画像データを用いるフィルタリングのような処理では、分割画像間の境界部分のデータのロード・ストアが複雑になっている。これは演算対象の分割画像を格納するメモリだけでなく、近傍の画像を格納するメモリへのアクセスが必要となるからである。そこで、メモリ構成を動的に再構成することによって、分割画像間の境界を自由に移動することが可能なメモリシステムの設計を行った。提案するメモリシステムを用いることで対象画素の演算の際に近傍のメモリにアクセスする必要がなくなり、実行サイクル数が減少して、従来よりも高速に画像処理が可能である。提案したメモリシステムをFPGAに実装し画像処理の動作を確認した。The real-time image processing system with a frame rate beyond video rate is required for the high-speed visual information processing which is employed in the robot vision and moving target tracking. So far the parallel image processing system using a three-dimensional integrated circuit was proposed. This system has several layers where the image sensor circuit, the memory circuit, and the processing circuit are incorporated into the respective layers. In this system, the image data captured by the image sensor is divided into many units and stored in the memories. The stored image data is processed in parallel by the processing circuit. However, it becomes difficult to perform the processing operation such as filtering which needs the data processing beyond the boundary between the divided image units. In the filtering operation, we use not only the pixel data of target unit but also the peripheral pixel data in the neighboring units. Therefore, it is needed to access both memories of the target unit and the neighboring units. In order to overcome such difficulties in memory access, we proposed a novel memory system using three-dimensional LSI technology. In this system, the image can be easily divided into many image units without any restrictions by dynamically changing the memory configuration. This system does not need to access the pixel memories of the neighboring units as a result of dynamically changing the memory configuration. Consequently, the number of execution cycles is decreased, and the image data processing with higher speed compared with the previous system is possible. We implenmented this memory system on FPGA and confirmed the basic operations for the image processing.

  176. 三次元集積回路を用いた並列画像処理システムのためのばらつき補正回路を有する並列AD変換器の設計

    小西 雄太, 杉村 武昭, 天野 大二朗, 福島 誉史, 田中 徹, 小柳 光正

    情報処理学会研究報告システムLSI設計技術(SLDM) 2006 (111) 153-158 2006年10月27日

    出版者・発行元: 一般社団法人情報処理学会

    ISSN: 0919-6072

    詳細を見る 詳細を閉じる

    近年、ロボット技術の発展により高速で高性能の画像処理システムの開発が望まれている。三次元集積回路を用いた画像処理システムは、配線長の短縮による高速化、低消費電力化、並列化のしやすさなどの利点からこのような高速、高性能の画像処理システムへの応用が期待されている。この画像処理システムでは、入力画像をいくつかのブロックに分割し、ブロックごとにAD変換器、メモリ、画像処理PEを割り当てる。この構成により平列数を任意に増やすことが出来るため、高速での画像処理を行うことが可能になる。その一方で、並列AD変換器の変換特性のばらつきにより並列ブロック間で出力画像がばらつくという問題が生じる。本研究では、AD変換器の変換特性を処理回路で抽出し、各AD変換器にフィードバックすることでばらつきを除去するシステムを提案する。また、同様に処理回路からの命令によってプログラマブルにAD変換を行うシステムについて提案する。Recently, the demand for high-speed and high-performance robot-vision system increases with the progress of the robot technology. The image processing system using three-dimensional integration technology is expected to dramatically improve the perfomance of robot-vision system because it has advantages of high speed operation due to shortening of wiring length, low power consumption and parallel processing capability. In this system, input image is divided into many parallel image blocks. A/D converter, frame memory, and image processing element are allocated to one image block. We can increase the number of parallel blocks if it is necessary. This system achieves high speed image processing by employing a highly parallel processing with the three-dimensionally stacked structure. On the other hand, there is problem that the quality of output image is seriously degraded by the variations of conversion characteristics in parallel A/D converters which are distributed to many image blocks. Then we propose the new parallel image processing system to improve the quality of output image by minimizing the variations of conversion characteristics of the A/D converters using the respective processing elements. We also propose the system to execute programmable A/D conversion according to the instructions of processing elements.

  177. New Magnetic Nano-Dot Memory with FePt Nano-Dots

    YIN Cheng-Kuan, BEA Ji-Chel, MURUGESAN Mariappan, OOGANE Mikihiko, FUKUSHIMA Takafumi, TANAKA Tetsu, NATORI Kenji, MIYAO Masanobu, KOYANAGI Mitsumasa

    Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials 2006 994-995 2006年9月13日

  178. Low Power Spin-Transfer MRAM Writing Scheme with Selective Word Line Bootstrap

    SUGIMURA Takeaki, SAKAGUCHI Takeshi, AMANO Daijiro, FUKUSHIMA Takafumi, TANAKA Tetsu, KOYANAGI Mitsumasa

    Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials 2006 602-603 2006年9月13日

  179. Sub-Atmospheric Chemical Vapor Deposition Process for Chip-to-Wafer 3-Dimensional Integration

    KIKUCHI Hirokazu, YAMADA Yusuke, ALI Atif Mossad, FUKUSHIMA Takafumi, TANAKA Tetsu, KOYANAGI Mitsumasa

    Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials 2006 490-491 2006年9月13日

  180. Evaluation of Electrical Stimulus Current to Retina Cells for Retinal Prosthesis by Using Platinum-Black (Pt-b) Stimulus Electrode Array

    WATANABE Taiichiro, KOMIYA Ken, KOBAYASHI Takafumi, KOBAYASHI Risato, FUKUSHIMA Takafumi, TOMITA Hiroshi, SUGANO Eriko, SATO Manami, KURINO Hiroyuki, TANAKA Tetsu, TAMAI Makoto, KOYANAGI Mitsumasa

    Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials 2006 890-891 2006年9月13日

  181. ウェーハレベル三次元集積化技術の開発

    福島誉史, 山田祐介, 菊池宏和, 田中徹, 小柳光正

    エレクトロニクス実装学会講演大会講演論文集 20th 2006年

    ISSN: 1880-4616

  182. 脳深部解析のためのSi製測定探針の開発

    小林吏悟, 渡部泰一郎, 坂本一寛, 片山統裕, 本波啓太, 出口淳, 小宮謙, 福島誉史, 栗野浩之, 田中徹, 虫明元, 小柳光正

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集 53rd (3) 2006年

  183. 神経細胞同時多点計測のためのSi微小探針アレイの開発

    小林吏悟, 渡部泰一郎, 小宮謙, 福島誉史, 坂本一寛, 栗野浩之, 田中徹, 片山統裕, 虫明元, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 67th (3) 2006年

  184. 3次元集積化技術とリコンフィギャラブル3D-SoC

    小柳光正, 杉村武昭, 福島誉史, 田中徹

    電子情報通信学会技術研究報告 106 (49(RECONF2006 1-10)) 2006年

    ISSN: 0913-5685

  185. 三次元集積回路技術を用いた並列画像処理のための再構成可能な積層型メモリシステムの設計

    天野大二朗, 杉村武昭, 小西雄太, 福島誉史, 田中徹, 小柳光正

    電子情報通信学会技術研究報告 106 (317(ICD2006 127-142)) 2006年

    ISSN: 0913-5685

  186. チップ-ウェーハ張り合わせによる三次元LSI作製技術

    福島誉史, 山田裕介, 菊池宏和, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 67th (2) 2006年

  187. In-situアニールによる自己組織化FePt磁気ナノドットの形成

    YIN C. K., BEA J. C., BEA J. C., CHOI H., CHOI H., 西嶋雅彦, 福島誉史, 田中徹, 名取研二, 宮尾正信, 小柳光正

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集 53rd (1) 2006年

  188. 三次元集積回路を用いた並列画像処理システムのためのばらつき補正回路を有する並列AD変換器の設計

    小西雄太, 杉村武昭, 天野大二朗, 福島誉史, 田中徹, 小柳光正

    電子情報通信学会技術研究報告 106 (317(ICD2006 127-142)) 2006年

    ISSN: 0913-5685

  189. 三次元集積化のための高ステップカバレージ絶縁膜の形成

    菊池宏和, 山田裕介, 福島誉史, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 67th (2) 2006年

  190. ノルボルネン樹脂光導波路を用いた光電気複合基板の開発

    藤原誠, 藤原誠, 白土洋次, 尾張洋史, 渡辺啓, 松山睦宏, 高浜啓造, 森哲也, 宮尾憲治, 長木浩司, 福島誉史, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 67th (3) 2006年

  191. 積層型人工網膜に用いるPt刺激電極のin-vivo評価

    渡部泰一郎, 本波啓太, 出口淳, 小林吏悟, 小宮謙, 福島誉史, 富田浩史, 菅野江里子, 佐藤まなみ, 栗野浩之, 田中徹, 玉井信, 小柳光正, 小柳光正

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集 53rd (3) 1381 2006年

  192. 積層型人工網膜チップ用基本回路の改良

    小林貴史, 出口淳, 渡部泰一郎, 小宮謙, 小林吏悟, 福島誉史, LI H., 富田浩史, 菅野江里子, 栗野浩之, 田中徹, 玉井信, 小柳光正, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 67th (3) 1187 2006年

  193. 眼球内埋め込み型人工網膜システムへの電力供給方法の開発

    小宮謙, 渡部泰一郎, 小林吏悟, 小林貴史, 福島誉史, LI H., 富田浩史, 菅野江里子, 栗野浩之, 田中徹, 玉井信, 小柳光正, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 67th (3) 1188 2006年

  194. 視覚にせまる最先端技術 三次元集積化人工網膜デバイス

    小柳光正, 福島誉史, 田中徹, 富田浩史

    光アライアンス 17 (11) 16-21 2006年

    ISSN: 0917-026X

  195. Evaluation of Electrical Stimulus Current to Retina Cells for Retinal Prosthesis

    MOTONAMI Keita, WATANABER Taiichiro, DEGUCHI Jun, FUKUSHIMA Takafumi, TOMITA Hiroshi, SUGANO Eriko, SATO Manami, KURINO Hiroyuki, TAMAI Makoto, KOYANAGI Mitsumasa

    Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials 2005 464-465 2005年9月13日

  196. マルチチップボンディング技術を用いた脳インプラント集積化デバイスの開発

    渡部泰一郎, 小林吏悟, 坂本一寛, 本波啓太, 小宮謙, 出口淳, 福島誉史, 虫明元, 栗野浩之, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 66th (3) 2005年

  197. チップ間光インターコネクションを有するSRAMメモリモジュールの試作

    栗原宏文, 二藤部隆太郎, 福島誉史, 栗野浩之, 小柳光正

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集 52nd (3) 2005年

  198. 基板バイアス電圧制御プリアンプを用いたMRAMの低消費電力読み出し手法

    杉村武昭, 出口淳, CHOI H., 坂口武史, OH H., 福島誉史, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 66th (2) 2005年

  199. FePt磁気ナノドットの不揮発性メモリへの適用

    YIN Cheng-Kuan, BEA JiChel, HONG YounGi, 坂口武史, OH Hyuck-Jae, 福島誉史, 栗野浩之, 名取研二, 宮尾正信

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集 52nd (3) 2005年

  200. チップ・ウェーハ張り合わせによる三次元集積化技術

    菊池宏和, 木島均, 大石壮一郎, 山田裕介, 福島誉史, 栗野浩之, 小柳光正

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集 52nd (2) 2005年

  201. 犠牲サイドウォール手法による極薄SOI MOSFETの作製

    坂口武史, OH Hyuckjae, BEA Jicheol, SHIM JeoungChill, 福島誉史, 栗野浩之, 小柳光正

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集 52nd (2) 2005年

  202. 動き検出・エッジ検出同時処理可能なCMOSイメージセンサの開発

    辻孝司, 出口淳, 杉村武昭, 福島誉史, 小柳光正

    映像情報メディア学会技術報告 29 (61(IST2005 74-80)) 2005年

    ISSN: 1342-6893

  203. 三次元集積化技術のための高アスペクト比エッチング技術の開発

    菊池宏和, 山田裕介, 福島誉史, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 66th (1) 2005年

  204. 配線長分布を用いた三次元集積回路の総配線長・最大配線長の評価

    出口淳, 中谷好博, 杉村武昭, 福島誉史, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 66th (2) 2005年

  205. チップ間光インターコネクションのためのビームリード電極を用いたVCSEL実装技術

    栗原宏文, 福島誉史, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 66th (3) 2005年

  206. 積層型人工眼システム用刺激電極ケーブルのin-vivo評価

    本波啓太, 渡部泰一郎, 出口淳, 福島誉史, 菅野江里子, 佐藤まなみ, 富田浩史, 栗野浩之, 玉井信

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集 52nd (3) 1465 2005年

  207. 眼内埋め込み用積層型人工網膜のための刺激パルス電流のin-vivo評価

    本波啓太, 渡部泰一郎, 出口淳, 福島誉史, 富田浩史, 菅野江里子, 佐藤まなみ, 栗野浩之, 玉井信, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 66th (3) 1138 2005年

  208. 三次元集積回路のための層間絶縁膜を貫通する高アスペクトホールの形成

    菊池宏和, 山田裕介, 福島誉史, 栗野浩之, 小柳光正

    電子情報通信学会大会講演論文集 2004 2004年

    ISSN: 1349-1369

  209. 活動電位の同時多点計測のための集積化神経インプラントの開発

    渡部泰一郎, 本波啓太, 坂本一寛, 出口淳, 福島誉史, SHIM J C, 虫明元, 栗野浩之, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 65th (3) 2004年

  210. Ultimate Functional Multi-Electrode System (UFMES) Based on Multi-Chip Bonding Technique

    Taiichiro Watanabe, Keita Motonami, Kazuhiro Sakamoto, Jun Deguchi, Takafumi Fukushima

    Extended Abstracts of the 2004 International Conference on Solid State Devices and Materials 2004年

  211. 錐状刺激電極を有する人工眼システムに関する研究

    本波啓太, 渡部泰一郎, 出口淳, 福島誉史, 富田浩史, SHIM J-C, 玉井信, 栗野浩之, 小柳光正

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 65th (3) 1146 2004年

  212. ポリイミドを組み込んだ超高速非線形伝送線路

    八木修一, 板谷太郎, 川浪仁志, GORWADKAR S, 上村貴之, 福島誉史, 板谷博, 友井正男, 鷹野致和

    明星大学理工学部研究紀要 (39) 2003年

    ISSN: 1346-7239

  213. 反応現像型感光性エンプラ ポリマー構造と感光特性との関連

    大山俊幸, 川上由紀子, 喜多村明, 福島誉史, 友井正男

    高分子学会予稿集 52 (12) 2003年

  214. 反応現像型感光性含フッ素ポリイミド

    川上由紀子, 福島誉史, 大山俊幸, 友井正男

    高分子学会予稿集 52 (4) 2003年

  215. low-kポリイミドを組み込んだ伝送線路のネットワークアナライザーによる評価

    八木修一, 板谷太郎, 川浪仁志, GORWADKAR S, 上村貴之, 福島誉史, 板谷博, 友井正男, 鷹野致和

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集 50th (3) 2003年

  216. 反応現像型感光性ポリアリレート:ポリマー構造と感光特性の関連

    喜多村明, 福島誉史, 大山俊幸, 友井正男

    高分子学会予稿集 52 (4) 2003年

  217. Positive Photosensitive Polyimides Based on Novel Imaging Principle: Reaction Development Patterning (RDP)

    T. Fukushima, T. Oyama, M. Tomoi

    POLYIMIDE & HIGH PERFORMANCE POLYMERES: STEPI 6 229-238 2002年12月

  218. エンプラを感光性ポリマーに変える新原理:反応現像画像形成法

    大山俊幸, 福島誉史, 友井正男

    マテリアルステージ 2 (4) 90-96 2002年4月

    出版者・発行元: 技術情報協会

    ISSN: 1346-3926

  219. 光導電スイッチと集積化されたIow-kポリイミドを取り入れた超高速伝送線路

    八木修一, 板谷太郎, 川浪仁志, GORWADKAR S, 上村貴之, 福島誉史, 板谷博, 友井正男, 鷹野致和

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集 49th (3) 2002年

  220. 反応現像型感光性ポリアリレート

    大山俊幸, 喜多村明, 福島誉史, 飯島孝雄, 友井正男

    高分子学会予稿集 51 (4) 2002年

  221. イオン結合型ネガ型感光性ポリイミドの開発

    福島誉史, 大山俊幸, 友井正男

    高分子学会予稿集 51 (12) 2002年

  222. 反応現像型感光性エンジニアリングプラスチック

    大山俊幸, 川上由紀子, 喜多村明, 福島誉史, 友井正男

    高分子学会予稿集 51 (12) 2002年

  223. 反応現像型感光性ポリカーボネート

    大山俊幸, 川上由紀子, 福島誉史, 飯島孝雄, 友井正男

    高分子学会予稿集 51 (4) 2002年

  224. 反応現像型感光性ポリエーテルイミド

    大山俊幸, 川上由紀子, 福島誉史, 飯島孝雄, 友井正男

    高分子学会予稿集 51 (4) 2002年

  225. イオン結合型ネガ型感光性ポリイミドの開発

    福島誉史, 大山俊幸, 飯島孝雄, 友井正男

    高分子学会予稿集 51 (4) 160-163 2002年

  226. 光機能性高分子材料の最新動向 反応現像型フォトレジスト

    福島誉史, 大山俊幸, 友井正男

    機能材料 22 (5) 24-33 2002年

    ISSN: 0286-4835

  227. 感光性ポリイミドの新しいコンセプト 反応現像画像形成(RDP)原理

    福島誉史, 大山俊幸, 飯島孝雄, 友井正男

    ポリマー材料フォーラム講演要旨集 10th 2001年

  228. 感光性ポリイミドの新しいコンセプト 反応現像画像形成原理

    福島誉史, 友井正男

    高分子加工 50 (12) 553-560 2001年

    ISSN: 0023-2564

  229. ポジ型感光性ブロック共重合ポリイミドのCSP-IPへの適用

    松本俊一, 板谷博, 金行洲, 福島誉史, 上村貴之, 友井正男

    エレクトロニクス実装学術講演大会講演論文集 14th 2000年

    ISSN: 1346-2199

  230. ポジ型感光性ブロック共重合ポリイミドのレジスト特性

    福島誉史, 大山俊幸, 飯島孝雄, 友井正男, 板谷博

    高分子学会予稿集 49 (4) 2000年

  231. ポジ型感光性ブロック共重合ポリイミドのリソグラフィー特性

    福島誉史, 大山俊幸, 飯島孝雄, 友井正男, 板谷博

    ポリマー材料フォーラム講演要旨集 9th 2000年

  232. ペンダントフェノール性水酸基含有ポリイミドの合成とフォトレジストへの応用

    早川光太郎, 福島誉史, 大山俊彦, 飯島孝雄, 友井正男, 板谷博

    高分子学会予稿集 49 (10) 2000年

  233. ブロック共重合法によるポジ型感光性ポリイミドによる0.4μmパターニング

    板谷太郎, GORWADKAR S, 山本芳久, 福島誉史, 古室昌徳, 坂本統徳, 板谷博

    応用物理学会学術講演会講演予稿集 60th (2) 1999年

  234. ポジ型感光性ポリイミドの開発

    福島誉史, 細川勝元, 飯島孝雄, 友井正男, 板谷博

    エレクトロニクス実装学術講演大会講演論文集 13th 1999年

    ISSN: 1346-2199

  235. ポジ型感光性ポリイミドの開発

    細川勝元, 福島誉史, 飯島孝雄, 友井正男, 板谷博

    高分子学会予稿集 47 (10) 1998年

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書籍等出版物 9

  1. 次世代ウェアラブルデバイスに向けたフレキシブル・伸縮性エレクトロニクス技術とセンサ開発

    福島誉史

    Science & Technology 2024年6月

  2. ポリイミドの高機能設計と応用技術

    技術情報協会

    技術情報協会 2022年8月

    ISBN: 9784861048876

  3. マイクロLEDディスプレイ ~市場と要素技術の開発動向~

    福島誉史

    Science & Technology 2021年8月

  4. Flexible, Wearable, and Stretchable Electronics 1st Edition (Editor: Katsuyuki Sakuma)

    CRC Press 2020年11月

  5. 次世代ディスプレイの応用に向けた材料、プロセス技術の開発動向

    福島誉史

    技術情報協会 2020年2月

  6. 3D Integration in VLSI Circuits: Implementation Technologies and Application (Editor: Katsuyuki Sakuma)

    CRC Press 2018年4月

  7. Handbook of 3D Integration – Volume 3: 3D Process Technology (Editors: Phil Garrou, Mitsumasa Koyanagi, Peter Ramm)

    Wiley-VCH 2014年6月

  8. 3D Integration for VLSI Systems

    Pan Stanford Publishing 2011年5月

  9. MEMS/NEMS工学大全

    福島誉史

    テクノシステム 2009年4月22日

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講演・口頭発表等 98

  1. <ECTC2023での発表を解説> 先端半導体パッケージング・実装技術の研究開発動向 ~チップレット・RDLインターポーザ・Siブリッジ・FOWLPに加え、50件のハイブリッド接合技術を紹介~ 招待有り

    福島 誉史

    サイエンス&テクノロジー主催セミナー 2023年9月14日

  2. 先端半導体パッケージングの技術トレンド: IEDMやECTCで発表されたハイブリッド接合やチップレットインテグレーション技術を中心に、3D-IC/TSVからFOWLPまで ~材料を含めた個別プロセスを詳細に解説~ 招待有り

    福島 誉史

    情報機構主催セミナー 2023年7月27日

  3. 短TATを実現する3D-ICのラピッドプロトタイピングと最新技術 招待有り

    Fukushima Takafumi

    くまもと3D連携コンソーシアム 第2回オープンセミナー 2023年7月27日

  4. 三次元実装/TSVおよび先端半導体パッケージの最新製造技術・信頼性解析技術と研究開発動向 招待有り

    福島誉史

    R&D支援センター主催セミナー 2023年5月19日

  5. 3D Super Chip Concept to Build a New Era of Chiplet and Heterogeneous Integration 招待有り

    Takafumi Fukushima

    ICEP (International Conference on Electronics Packaging) 2023年4月21日

  6. 進化する三次元実装・集積化技術 招待有り

    福島誉史

    第37回ネプコン ジャパン(エレクトロニクス開発・実装展)最先端のロジックおよびパワーデバイスの3D実装技術: ISP-2 半導体・センサ パッケージング展 専門セミナー② 2023年1月

  7. 先端半導体パッケージングの技術トレンドと今後の方向性、課題 招待有り

    福島誉史

    情報機構主催セミナー 2022年10月25日

  8. <ECTC2022での発表を解説>先端半導体パッケージング・実装技術の研究開発動向 招待有り

    福島誉史

    Science & Technology主催セミナー 2022年9月27日

  9. 先端半導体パッケージングの技術トレンド: 3D-IC/チップレットからFOWLP、FHEまで ~材料を含めた個別プロセスを詳細に解説~ 招待有り

    福島誉史

    情報機構主催のセミナー 2022年7月28日

  10. In-mold Flexible Hybrid Electronics (iFHE) Based on Holistic System Integration with FOWLP, 3D-IC/TSV, and Chiplets 招待有り

    福島誉史

    the 20th International Symposium on the Physics of Semiconductors and Applications (ISPSA 2022) 2022年7月17日

  11. 半導体産業のこれからを担う3D-IC実装技術の現状と課題、アカデミアからの提案 招待有り

    福島誉史

    一般社団法人日本電子回路工業会(JPCA)が主催するJPCA Show 2022などを含む「電子機器トータルソリューション展2022」(東京ビッグサイト)一般社団法人エレクトロニクス実装学会(JIEP)主催 JIEP最先端実装技術シンポジウム 2022年6月17日

  12. 新たな実装技術で創るフレキシブルデバイス”インモールド・フレキシブル・ハイブリッド・エレクトロニクス(iFHE) 招待有り

    福島誉史

    一般社団法人日本電子回路工業会(JPCA)が主催するJPCA Show 2022などを含む「電子機器トータルソリューション展2022」(東京ビッグサイト) 2022年6月16日

  13. 三次元実装/ TSV および 先端半導体パッケージの最新製造技術/信頼性解析技術と研究開発動向 招待有り

    福島誉史

    R&D支援センター主催のセミナー 2022年4月26日

  14. 東北大学GINTIの取り組みとダイレベル&マルチチップ・ツー・ウエハ三次元集積 招待有り

    福島誉史

    第112回ミニマル3DICファブ開発研究会コア・オープン会議 2022年3月29日

  15. 先端半導体パッケージング技術と最新動向: ~FOWLP, 3D-IC/TSV, 各種インターポーザ, チップレット, Si Bridge等で多様化する実装形態の進化について~ 招待有り

    福島誉史

    サイエンス&テクノロジー主催セミナー 2022年3月18日

  16. 東北大発3D-IC 試作製造拠点GINTI の取り組みと多様化する先端半導体パッケージングの動向 招待有り

    福島誉史

    日本実装技術振興協会主催 第213 回定例講演会『先端半導体後工程(More than Moore)技術』 2022年3月17日

  17. 三次元実装/TSVを基盤としたヘテロインテグレーション技術の研究開発動向 招待有り

    福島誉史

    電子情報通信学会総合大会 企画講演セッション「電子デバイスの性能を最大限に引き出す高周波・高出力実装技術」 2022年3月16日

  18. 先端3DIC半導体パッケージの最新技術と開発状況(先端3DIC半導體封裝最新技術與開發動向) 招待有り

    福島誉史

    三建産情(台湾)主催の公開セミナー(台湾身分証明書所有者限定) 2022年2月17日

  19. 先端半導体パッケージング技術で創るインモールド・フレキシブル・ハイブリッド・エレクトロニクス(iFHE) 招待有り

    福島誉史

    エレクトロニクス実装学会(JIEP) 電子部品・実装技術委員会 プリンタブルデバイス研究会主催 2022年2月16日

  20. 半導体事業を牽引する3D実装の技術動向とホリスティック実装工学の歩み 招待有り

    福島誉史

    よこはま高度実装技術コンソーシアム(YJC)主催 第52回YJC実装技術セミナー 2021年12月8日

  21. 3D-IC/TSVの最新動向と自己組織化による三次元実装/ヘテロ集積 招待有り

    福島誉史

    公益社団法⼈化学⼯学会 エレクトロニクス部会主催 2021先端技術シンポジウム: 次世代半導体の展望 〜原理と⽣産技術〜 2021年12月7日

  22. 半導体パッケージング技術の最新動向: FOWLP, 3D-IC/TSV, チップレットが融合する実装形態の進化について 招待有り

    福島誉史

    トリケップス主催セミナー 2021年11月25日

  23. 未来の産業を担う三次元積層半導体(3D-IC)の現況と今後の展開 ―東北大学3D-IC研究開発拠点「GINTI」の活動成果よりー 招待有り

    福島誉史

    未来科学オープンセミナー 2021年11月19日

  24. iFHE: In-Mold Flexible Hybrid Electronics Using Fan-Out Wafer-Level Packaging with Chiplets 招待有り

    Takafumi Fukushima

    2021 Materials Research Society Taiwan International Conference (MRSTIC)

  25. 300mmウエハを用いた三次元積層型半導体チップ試作製造拠点GINTIの取り組みと研究開発動向 招待有り

    福島誉史

    第33回マイクロエレクトロニクス研究会 2021年11月13日

  26. インモールド・フレキシブル・ハイブリッド・エレクトロニクス(FHE)と医療応用 招待有り

    福島誉史

    NEDIA 第8回 電子デバイスフォーラム京都(2021) 2021年10月29日

  27. In-Mold Flexible Hybrid Electronics (FHE) Based on Advanced Wafer-Level Packaging with Chiplets 招待有り

    Takafumi Fukushima

    34th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2021) 2021年10月28日

  28. ECTC2021を解説: 先端半導体パッケージの開発動向と材料・プロセス技術” 招待有り

    福島誉史

    サイエンス&テクノロジー主催セミナー 2021年10月12日

  29. Heterogeneous, 3D, and Flexible System Integration Technology Based on Chiplet-on-Wafer Assembly 招待有り

    福島誉史

    一般社団法人電子実装工学研究所(IMSI) 接合界面創成技術研究会(LTB 研究会) 2021年9月16日

  30. 自己組織化実装によるチップレットのアセンブリとインターコネクト~基礎から応用、最近の3D-IC/FOWLP/VCSEL・μLEDの集積化まで~ 招待有り

    福島誉史

    サイエンス&テクノロジー主催セミナー 2021年8月5日

  31. ホリスティック・システム・インテグレーションに向けた三次元実装の技術動向と課題 招待有り

    福島誉史

    エレクトロニクス実装学会(JIEP)主催 先端ファブリケーション研究会 第8回公開研究会 2021年7月28日

  32. 先端半導体のパッケージング技術: FOWLPから3D-IC/TSV、チップレット、FHEやμLEDまで ~半導体後工程最大の国際会議ECTCを中心に個別プロセスや材料を詳細解説~ 招待有り

    福島誉史

    情報機構主催セミナー 2021年7月20日

  33. Chiplet-Based Advanced Packaging Technology from 3D/TSV to FOWLP/FHE 招待有り

    Takafumi Fukushima

    The 2021 Symposia on VLSI Technology and Circuits, Technology / Circuits Joint Focus Session 2021年6月17日

  34. 自己組織化実装とマイクロLEDディスプレイへの応用 招待有り

    福島誉史

    技術情報協会主催マイクロLEDディスプレイの実装、製造技術と市場動向に関するセミナー 2021年5月25日

  35. 三次元実装/TSVおよび先端半導体パッケージの最新技術と研究開発動向 招待有り

    福島誉史

    R&D支援センター主催セミナー 2021年4月22日

  36. 先端半導体パッケージのキーテクノロジーと研究動向 ―国際会議ECTCの発表を中心にTSV,Cu/Cu接合,FOWLP,チップレット, FHE, μLED, 自己組織化実装まで― 招待有り

    福島誉史

    サイエンス&テクノロジー主催セミナー 2021年2月25日

  37. Flexible In-Mold Electronics: Advanced FHE Technologies and Applications 招待有り

    Takafumi Fukushima

    2021FLEX 2021年2月24日

  38. Thin Film Deposition, Characterization, and Application of Polyimides by Vapor-Phase Polymerization 招待有り

    Takafumi Fukushima

    Webinar on Polymer Science and Chemistry (LongDom Conferences) 2020年11月8日

  39. Multilithic 3D and Heterogeneous Integration Using Capillary Self-Assembly 招待有り

    Takafumi Fukushima

    ”, 4th IEEE Electron Devices Technology and Manufacturing Conference (EDTM)

  40. Multichip-to-Wafer 3D Integration Technology 招待有り

    Takafumi Fukushima

    2020 International Conference on Electronics Packaging (ICEP 2020)

  41. Self-Assembly Based 3D Integration: Capillary Self-Assembly and Directed Self-Assembly 招待有り

    Takafumi Fukushima

    Huawei Workshop in 3D-IC 2019年11月22日

  42. FOWLP-based Flexible Hybrid Sensor Systems with Dieletsand 3D-IC 招待有り

    Takafumi Fukushima

    The 18th International Symposium on Microelectronics and Packaging and 21st International Conference on Electronic Materials and Packaging (ISMP-EMAP 2019) 2019年11月15日

  43. 誘導自己組織化配線を用いた三次元積層型集積回路の高性能化(Performance Scaling of 3D Integration with DSA Technology) 招待有り

    福島誉史

    日本学術振興会「先端ナノデバイス・材料テクノロジー第151委員会」 平成31年度第4回研究会「機能性デバイスの三次元化とその展開」 2019年11月15日

  44. New Flexible Hybrid Electronics Technologies for Biomedical Application 招待有り

    Takafumi Fukushima

    EMN Meeting on Flexible Electronics 2019年10月22日

  45. 三次元集積技術を用いたAIチップの開発 招待有り

    福島誉史

    電気化学会電子材料委員会, 第83回半導体・集積路技術シンポジウム 2019年8月28日

  46. 自己組織化実装の基礎原理と応用: FOWLPから、FHE、マイクロLEDディスプレイまで 招待有り

    福島誉史

    技術情報協会セミナー 2019年7月26日

  47. New Flexible Hybrid Electronics (FHE) Using Advanced Wafer-Level Packaging Technology 招待有り

    Takafumi Fukushima

    ”, International Congress on Advanced Materials Sciences and Engineering 2019 (AMSE-2019) 2019年7月22日

  48. 誘導自己組織化による極微細三次元配線形成技術 招待有り

    福島誉史

    応用物理学会・シリコンテクノロジー分科会多層配線委員会および電子情報通信学会・シリコン材料・デバイス研究会(SDM) 「配線・実装技術と関連材料技術」研究会 2019年2月7日

  49. 先端三次元積層LSIから高集積FHEへの展開 招待有り

    福島誉史

    日本学術振興会産学協力研究委員会 情報科学用有機材料 学振142委員会 2018年11月15日

  50. 三次元実装とフレキシブルハイブリッドエレクトロニクスに(FHE)向けた取り組み 招待有り

    福島誉史

    , 第155回有機エレクトロニクス研究センター講演会 2018年9月27日

  51. Moor’s Law for Packaging 招待有り

    Takafumi Fukushima, S. S. Iyer

    The 2018 International Conference on Solid-State Devices and Materials (SSDM) 2018年9月12日

  52. Capillary Self-Assembly Based Multichip-to-Wafer System Integration Technologies 招待有り

    Takafumi Fukushima

    The annual International Conference on Manipulation, Automation and Robotics at Small Scales (MARSS) 2018年7月6日

  53. 人工知能チップの開発に向けた自己組織化ヘテロ集積技術 招待有り

    福島誉史

    東北大学NICHe戦略セミナーシリーズ(第3回)『考える』イメージ・センサーの将来 2018年7月5日

  54. テンポラリー接合を用いたマルチリシック集積化技術 招待有り

    福島誉史

    日本学術振興会産学協力研究委員会 接合界面創成技術 第191委員会 2018年3月23日

  55. 自己組織化TSV/3次元実装と高集積フレキシブル・ハイブリッド・エレクトロニクス(FHE)技術 招待有り

    福島誉史

    第189回高密度実装技術部会 定例会 2018年3月15日

  56. SOG/a-Si:Hを用いたテンポラリー接合技術, FOWLPを応用した高集積フレキシブルデバイス基板「FlexTrateTM」 招待有り

    福島誉史

    第37回IEEE CPMT Society Japan Chapter イブニングミーティング37th IEEE CPMT Society Japan Chapter Evening Meeting 2017年10月6日

  57. FlexTrateTM Characterization 国際会議 招待有り

    福島 誉史

    Flex2017 2017年7月20日

  58. Directed Self-Assembly Patterning for 3D LSI 国際会議 招待有り

    福島 誉史

    INC (International Nanotechnology Conference on Communication and Cooperation) Global Conference and Workshops 2017年5月10日

  59. FlexTrate™: High Interconnect Density Fan-Out Wafer Level Processing for Flexible Bio-compatible Electronics 招待有り

    Takafumi Fukushima

    ”, NBMC (Nano-Bio Manufacturing Consortium) Workshop: Blood, Sweat and Tears III 2016年11月6日

  60. Self-Assembly Based Multichip-to-Wafer Bonding Technologies for 3D/Hetero Integration 招待有り

    Takafumi Fukushima

    ”, The 230th ECS Meeting: PRiME (Pacific Rim Meeting) 2016年10月5日

  61. シリコン貫通配線(TSV)と三次元集積化技術の研究開発動向 招待有り

    福島誉史

    第32回センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム 2015年10月28日

  62. 高分子材料を用いた三次元集積技術 招待有り

    福島誉史

    第41回 よこはま高度実装技術コンソーシアム(YJC)実装技術セミナー 2015年6月11日

  63. Die-to-Wafer Self-Assembly by Droplet Surface Tension for 3D LSI & Advanced System Integration 招待有り

    Takafumi Fukushima

    EMN Meeting on Droplets 2015年5月15日

  64. 3D/TSV技術と最近の動向 招待有り

    福島誉史

    日本学術振興会 結晶加工と評価技術 第145委員会 2014年12月18日

  65. HETEROGENEOUS 3D INTEGRATION FOR INTERNET OF THINGS 招待有り

    Takafumi Fukushima

    2014 IEEE 12th International Conference on Solid-State and Integrated Circuit Technology (ICSICT 2014) 2014年11月30日

  66. 気相堆積重合ポリイミドを用いたTSVライナー形成 招待有り

    福島誉史

    応用物理学会シリコンテクノロジー分科会 第169回 配線技術研究集会 2014年2月28日

  67. 研究施設の被害と教訓、復興への展望 招待有り

    福島誉史

    第37回YJC実装技術セミナー 2013年6月13日

  68. Development of 3D Integration Technologies and Recent Challenges 招待有り

    Takafumi Fukushima

    ADMETA Plus 2012 Advanced Metallization Conference 2012:the 22nd Asian Session 2012年10月23日

  69. 3D Integration Technologies Based on Surface-Tension Driven Multi-Chip Self-Assembly Techniques 招待有り

    Takafumi Fukushima

    The 222nd ECS Meeting: PRiME (Pacific Rim Meeting) 2012年10月8日

  70. 先端三次元積層型LSIの技術動向と展望 招待有り

    福島誉史

    SEMI Forum Japan 2012: TSV/3次元積層化技術セミナー(1)-いよいよ量産へ、ここまで来たTSV技術 2012年6月13日

  71. Wafer-Level 3D Integration Technology Using Self-Assembly 招待有り

    Takafumi Fukushima

    MSPNEX (International Micro System Packaging Forum) 2012 2012年4月12日

  72. 3D Chip Stacking Technologies and Hetero System Integration (三次元チップ積層技術と異種デバイスの集積) 招待有り

    福島誉史

    SEMIテクノロジーシンポジウム(STS)2011 STS Session 4 パッケージング 2011年12月8日

  73. Development of Wafer-Level 3D System Integration Technologies 招待有り

    Takafumi Fukushima

    The International Union of Materials Research Societies-International Conference in Asia (IUMRS-ICA) 12th International Conference in Asia 2011年9月20日

  74. 3D and Hetero Integration Based on Chip-to-Wafer Bonding Using Self-Assembly Technologies 招待有り

    2011年5月9日

  75. シリコン貫通光インターコネクション(TSPV)を用いた光電子三次元集積化技術 招待有り

    福島誉史

    2011年春季 第58回 応用物理学関係連合講演会 文科内総合講演 高集積微細デバイスにおける今後の信号伝達 / 配線技術 2011年3月25日

  76. バッチ式Die-to-Wafer三次元集積化技術 招待有り

    福島誉史

    関西ワークショップ2010 2010年7月9日

  77. セルフアセンブリを基盤としたウェーハレベル三次元集積化技術 招待有り

    福島誉史

    応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会/電子情報通信学会 シリコン材料•デバイス研究会(SDM) 第118回研究集会 IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術) 2010年1月29日

  78. 3D積層技術 招待有り

    福島誉史

    IEEE Electron Devices Society (EDS) Japan Chapter総会・2009 International Electron Devices Meeting (IEDM) 報告会 2010年1月26日

  79. Self-Assembled 3D Chip Stacking Technology 招待有り

    2009年10月5日

  80. セルフアセンブリ法を用いた新しいヘテロインテグレーション技術 招待有り

    福島誉史, 田中徹, 小柳光正

    応用物理学会シリコンテクノロジー分科会 2009年8月3日

  81. 自己組織化によるヘテロインテグレーション技術 招待有り

    第12回低温接合による3D集積化研究会 2009年4月22日

  82. Super Hetero-Integration Technology for LSI /MEMS Integration 国際会議 招待有り

    M. Koyanagi, K.-W. Lee, T. Fukushima, T. Tanaka

    International Conference on Electronics Packaging (ICEP) 2009年4月14日

  83. Super Chip Integration Technology for Three-Dimensionally Stacked Retinal 国際会議 招待有り

    T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    Smart System Integration Conference 2009 2009年3月10日

  84. 自己組織化を用いた高密度実装技術とスーパーチップインテグレーション” 招待有り

    福島誉史

    第10回半導体パッケージング技術展 専門技術セミナー 2009年1月30日

  85. Three-Dimensional Integration Technology to Achieve Super Chip 国際会議 招待有り

    T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    Electropackage System and Interconnect Product Seminar, SEMICON Korea 2009 STS(SEMI Technology Symposium) 2009年1月20日

  86. New Heterogeneous Multi-Chip Module Integration Technology Using Self-Assembly Method 国際会議 招待有り

    T. Fukushima, T. Konno, K. Kiyoyama, M. Murugesan, K. Sato, W.-C.Jeong, Y. Ohara, A. Noriki, S. Kanno, Y. Kaiho, H. Kino, K. Makita, R.Kobayashi, C.-K. Yin, K. Inamura, K.-W. Lee, J.-C. Bea, T. Tanaka, M.Koyanagi

    IEEE The International Solid-State Circuits Conference (ISSCC) 2009年1月8日

  87. Three-Dimensional Integration Technology Based on Self-Assembled Chip-to-Wafer Stacking 国際会議 招待有り

    T. Fukushima, T. Tanaka, M.Koyanagi

    MRS (Material Research Society) fall meeting 2008年12月1日

  88. 実装プロセス・膜形成技術概論 招待有り

    福島誉史

    神奈川県産業競争力強化戦略推進事業 よこはま高度実装技術コンソーシアム(YJC)が実施する実力派実装技術者育成プログラム JISSO スクール2008 深掘コース(実装インターコネクションコース) 2008年10月14日

  89. セルフアセンブリーを用いた3次元集積化技術 招待有り

    福島 誉史, 田中 徹, 小柳 光正

    九州学術研究都市 第8回 産学連携フェア Advanced Business Model for Semiconductor(ABMS)セミナー北九州 2008年10月9日

  90. 3D system integration technology and 3D systems 国際会議 招待有り

    T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    Advanced Metallization Conference (AMC) 2008 2008年9月23日

  91. 自己組織化によるウェーハレベル三次元集積化技術 招待有り

    福島 誉史, 田中 徹, 小柳 光正

    2008 最先端実装シンポジウム 2008年6月12日

  92. A New Nano-System with Three-Dimensional Structure for Real Time Parallel Image Processing 国際会議 招待有り

    T. Fukushima, M. Koyanagi

    The 5th International Conference on Mechanical Science based on Nanotechnology 2008年3月6日

  93. 3D system integration technology and 3D systems 国際会議 招待有り

    Takafumi FUKUSHIMA Tetsu TANAKA, Mitsumasa KOYANAGI

    European Workshop Materials for Advanced Metallization (MAM) 2008 2008年3月2日

  94. 自己組織化ウェーハ張り合わせによる三次元集積化技術 招待有り

    福島誉史, 田中徹, 小柳光正

    電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会(SDM) 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会多層配線システム研究委員会 2008年2月8日

  95. 「次世代インテリジェント実装技術」 3次元実装技術 招待有り

    福島 誉史, 田中 徹, 小柳 光正

    エレクトロニクス実装学会/材料技術委員会公開研究会 2007年11月29日

  96. Thermal Issues of 3D ICs 国際会議 招待有り

    T. Fukushima, T. Tanaka, M. Koyanagi

    Workshop on Driving the future of interconnect in 3D: Thermal and Design Issues in 3D ICs 2007年10月11日

  97. 3D Integration Technology Based on Chip-to-Wafer Bonding with Through-Si Vias (TSV) 招待有り

    第2回 低温接合による3D集積化研究会 2007年9月18日

  98. チップーウエハ3D 実装を用いたスーパーチップ積層技術 招待有り

    福島誉史

    長野実装フォーラム2007 2007年6月29日

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産業財産権 48

  1. 基材、塗布方法及び塗布装置

    圓崎諭, 寺田豊治, 小柳光正, 李康旭, 田中徹, 福島誉史, 谷義則

    特許6842660

    産業財産権の種類: 特許権

  2. 半導体装置およびその製造方法

    特許10483240

    産業財産権の種類: 特許権

  3. 液体を用いて基板に対するチップ部品のアライメントを行う方法

    特許10553455

    産業財産権の種類: 特許権

  4. FLEXIBLE FAN-OUT WAFER LEVEL PROCESS AND STRUCTURE

    Subramanian, S. IYER, Takafumi FUKUSHIMA, Adeel A. BAJWA

    特許708313

    産業財産権の種類: 特許権

  5. 液体を用いて基板に対するチップ部品のアライメントを行う方法

    特許10553455

    産業財産権の種類: 特許権

  6. 液体を用いて基板に対するチップ部品のアライメントを行う方法

    菊田真也, 星野聡彦, 福島誉史, 小柳光正, 李康旭

    特許6600922

    産業財産権の種類: 特許権

  7. 半導体デバイスの製造方法

    小柳光正, 田中徹, 福島誉史, 李康旭, 阿部洋史, 堀田吉則

    特許6473897

    産業財産権の種類: 特許権

  8. 半導体装置およびその製造

    小柳光正, 李康旭, 浅海一志, 福島誉史, 鈴木拓

    特許6467981

    産業財産権の種類: 特許権

  9. 半導体装置およびその製造方法

    Mitsumasa Koyanagi, Tetsu Tanaka, Takafumi Fukushima, Kang-Wook Lee

    特許10177118

    産業財産権の種類: 特許権

  10. 半導体装置

    小柳光正, 福島誉史, 李康旭

    6225771

    産業財産権の種類: 特許権

  11. 三次元集積回路の製造方法及び装置

    Mitsumasa Koyanagi, Takafumi Fukushima, Sugiyama Masahiko

    特許1276625

    産業財産権の種類: 特許権

  12. 光導波路モジュール、光導波路モジュールの製造方法

    小柳光正, 田中徹, 福島誉史

    特許5389490

    産業財産権の種類: 特許権

  13. 反応現像画像形成法

    特許100440041

    産業財産権の種類: 特許権

  14. 反応現像画像形成法

    友井正男, 福島誉史, 板谷博

    特許3965434

    産業財産権の種類: 特許権

  15. 反応現像画像形成法

    特許1005980050000

    産業財産権の種類: 特許権

  16. チップ支持基板、それを用いた三次元集積回路及びそれらの製造方法並びにアセンブリ装置

    9,449,948

    産業財産権の種類: 特許権

  17. マイクロLEDアレイの製造方法、及びマイクロLEDディスプレイの製造方法、並びにマイクロLEDアレイ、及びマイクロLEDディスプレイ

    福島誉史, 小柳光正, 田中徹, 元吉真

    産業財産権の種類: 特許権

  18. 半導体装置およびその製造方法

    福島誉史, 小柳光正, 裵志哲, 佐久山真一

    産業財産権の種類: 特許権

  19. FLEXIBLE AND STRETCHABLE INTERCONNECTS FOR FLEXIBLE SYSTEMS

    IYER SUBRAMANIAN S, ALAM ARSALAN, HANNA AMIR, FUKUSHIMA TAKAFUMI

    産業財産権の種類: 特許権

  20. 微細配線構造の製造方法および微細配線構造の製造装置

    福島誉史, Mariappan Murugesan, 小柳光正

    産業財産権の種類: 特許権

  21. 延伸装置、及び延伸方法

    福島誉史, 元吉真

    産業財産権の種類: 特許権

  22. FLEXIBLE AND STRETCHABLE INTERCONNECTS FOR FLEXIBLE SYSTEMS

    IYER SUBRAMANIAN S, ALAM ARSALAN, HANNA AMIR, FUKUSHIMA TAKAFUMI

    産業財産権の種類: 特許権

  23. 液体を用いて基板に対するチップ部品のアライメントを行う方法

    産業財産権の種類: 特許権

  24. 液体を用いて基板に対するチップ部品のアライメントを行う方法

    産業財産権の種類: 特許権

  25. 半導体装置およびその製造方法

    小柳光正, 田中徹, 福島誉史

    産業財産権の種類: 特許権

  26. FLEXIBLE FAN-OUT WAFER LEVEL PROCESS AND STRUCTURE

    IYER SUBRAMANIAN S, FUKUSHIMA TAKAFUMI, BAJWA ADEEL A

    産業財産権の種類: 特許権

  27. 液体を用いて基板に対するチップ部品のアライメントを行う方法

    産業財産権の種類: 特許権

  28. 半導体装置およびその製造方法

    産業財産権の種類: 特許権

  29. SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE(半導体デバイスおよび半導体デバイスの製造方法)TOHOKU UNIVERSITY/FUJIFILM CORP

    KOYANAGI MITSUMASA, TANAKA TETSU, FUKUSHIMA TAKAFUMI, LEE KANGWOOK, ABE HIROFUMI, HOTTA YOSHINORI

    産業財産権の種類: 特許権

  30. 半導体デバイスおよび半導体デバイスの製造方法

    産業財産権の種類: 特許権

  31. 半導体装置およびその製造方法

    産業財産権の種類: 特許権

  32. チップ支持基板、それを用いた三次元集積回路及びそれらの製造方法並びにアセンブリ装置

    産業財産権の種類: 特許権

  33. チップ支持基板、それを用いた三次元集積回路及びそれらの製造方法並びにアセンブリ装置

    産業財産権の種類: 特許権

  34. チップ支持基板、それを用いた三次元集積回路及びそれらの製造方法並びにアセンブリ装置

    産業財産権の種類: 特許権

  35. 三次元集積回路の製造方法及び装置

    8,349,652

    産業財産権の種類: 特許権

  36. 一括保持トレイ及び三次元集積回路製造装置

    小柳光正, 福島誉史

    産業財産権の種類: 特許権

  37. 三次元集積回路の製造方法及び装置

    産業財産権の種類: 特許権

  38. 三次元集積回路の製造方法及び装置

    433294

    産業財産権の種類: 特許権

  39. Method for forming image through reaction development

    Masao Tomoi, Takafumi Fukushima, Hiroshi Itatani

    7638255 B2

    産業財産権の種類: 特許権

  40. 反応現像画像形成法

    産業財産権の種類: 特許権

  41. 半導体装置およびその製造方法

    6363868

    産業財産権の種類: 特許権

  42. 半導体装置およびその製造方法

    6362254

    産業財産権の種類: 特許権

    権利者: 小柳 光正, 李 康旭, 福島 誉史

  43. チップ支持基板、チップ支持方法、三次元集積回路、アセンブリ装置及び三次元集積回路の製造方法

    小柳 光正, 田中 徹, 福島 誉史

    5963374

    産業財産権の種類: 特許権

  44. チップ支持基板、それを用いた三次元集積回路及びそれらの製造方法並びにアセンブリ装置

    1681437

    産業財産権の種類: 特許権

  45. イメージセンサ

    6011409

    産業財産権の種類: 特許権

  46. 素子の実装方法および光モジュール

    小柳光正, 田中徹, 福島誉史, 伊藤有香

    6027828

    産業財産権の種類: 特許権

  47. 三次元集積回路の製造方法及び装置

    小柳 光正, 福島 誉史

    5389490

    産業財産権の種類: 特許権

  48. 回路基板、電子デバイス内蔵基板、集積回路デバイス、集積回路付き光導波路、電子デバイス内蔵基板の組立方法

    小柳光正, 田中徹, 福島誉史

    5142103

    産業財産権の種類: 特許権

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共同研究・競争的資金等の研究課題 49

  1. 人と同じ広視野・高機能視覚を有する三次元積層チップレット型完全埋植人工網膜の開発

    田中 徹, 富田 浩史, 福島 誉史, 清山 浩司, 木野 久志

    2024年4月1日 ~ 2027年3月31日

  2. ダイレット集積インモールドエレクトロニクスの基盤創成と浅皮下情報可視化シート開発

    福島 誉史

    提供機関:Japan Society for the Promotion of Science

    制度名:Grants-in-Aid for Scientific Research

    研究種目:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)

    研究機関:Tohoku University

    2021年4月5日 ~ 2025年3月31日

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    高い柔軟性を有するフレキシブルデバイスの課題である性能を解決するため、微小な無機単結晶半導体チップ(チップレット)の概念を拡張した「ダイレット」をSiウエハ上で柔軟な樹脂に埋め込み圧縮成型するインモールド・エレクトロニクスの技術基盤を創成する。この新しい電子システム集積学を構築するため、毛髪の直径(100μm)以下の一辺を有する微小チップ(ここではMicro-LED)を目的の場所に搭載する超並列アセンブリの技術開発を行う。また、研究代表者が長年かけて学理の体系化に尽力した脳型の三次元積層集積回路(3D-IC)と微小チップのインテグレーションを基軸とし、従来の半導体技術では実現が難しい浅皮下生体情報(主に血管)可視化シートを作製する。本研究の成果は、電子デバイスの可能性を広げて電気電子工学や医工学分野の発展に大きく貢献するだけでなく、曲がるデバイスの応用に限らず、立体的なエレクトロニクスのシステム集積にインパクトをもたらす。本研究では、チップレットの概念を発展させ、受動素子やLED等の小型化するベアダイまで含めた「ダイレット」をウエハレベルでフレキシブル基板に埋め込んで成型し、微細配線でチップ間を短距離接続した高集積なインモールド・エレクトロニクスと呼ぶシステム集積方法論の技術基盤を創成する。基板レスで微細化でき、高性能で柔軟且つ立体成型可能なこの集積手法の鍵となるのは、微小チップ「ダイレット」の超並列アセンブリ技術とインターコネクト技術となる。

  3. 人と同じ視野角と情報処理機能を有する極低侵襲ピクセル分散型完全埋植人工網膜の開発

    田中 徹, 福島 誉史, 木野 久志, 富田 浩史, 清山 浩司, 菅野 江里子

    2021年4月5日 ~ 2024年3月31日

  4. 不揮発性トンネルFETメモリによる超低消費電力ニューラルネットワークチップの開発

    木野 久志, 福島 誉史, 田中 徹

    2020年4月1日 ~ 2023年3月31日

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    本研究ではシナプスの特性を再現した不揮発性トンネルFETメモリによる大規模演算に向けたニューラルネットワークの実現を目指す。近年、脳の階層的情報処理を模したディープニューラルネットワークの活躍は目覚ましいものがある。一方で、神経細胞の発火スパイクの影響まで模したスパイキングニューラルネットワーク(Spiking Neural Network; SNN)には次世代の大規模ニューラルネットワークとして高い関心が寄せられており、様々なメモリデバイスによるシナプスの再現が提案されている。一般に、SNNはシナプスの結合の強さを示す”重み”を保存するメモリ素子とニューロンを模したスパイク生成回路で構成される。本研究ではこれまでのメモリにない特長を有する不揮発性トンネルFETメモリを活用した大規模な超低消費電力ニューラルネットワークを研究開発する。 昨年度までにシナプスの特性の一つであるスパイクタイミング依存可塑性(Spike Timing Dependent Plasticity: STDP)を有する不揮発性トンネルFETメモリの開発を終えた。 本年年度はシナプス回路とニューロン回路をマイクロバンプを介した電気的接続による積層技術に関する研究を行った。回路素子の特性を維持するためには積層プロセスを低温に抑制することが望まれる。本研究ではIn/Auバンプを用いたTLP(Transient-Liquid-Phase)接合を用いることで、接合時は約150度の低温でありながら、500度以上の融点を有する合金を形成するため、非常に高い熱安定性を有する接合を得ることが可能である。 本研究ではIn/Auバンプによる低温接合により、メモリ素子に影響を与えない接合技術を確立した。

  5. マルチスケール応力エンジニアリングが拓く高集積フレキシブルエレクトロニクス

    福島 誉史, マリアッパン ムルゲサン, 木野 久志, 清山 浩司

    提供機関:Japan Society for the Promotion of Science

    制度名:Grants-in-Aid for Scientific Research Fund for the Promotion of Joint International Research (Fostering Joint International Research (B))

    研究種目:Fund for the Promotion of Joint International Research (Fostering Joint International Research (B))

    研究機関:Tohoku University

    2019年10月7日 ~ 2023年3月31日

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    米国UCLAの電気工学科Distinguished Professor Subramanian Iyerと共同で開発した新構造フレキシブル・ハイブリッド・エレクトロニクス(FHE)の応力解析や曲げ特性の物理を探索し、信頼性の高いシステム集積を創出するための基盤技術研究を行う。我々が「FlexTrate」と名付けた先端ウエハレベルパッケージング技術を応用したこの高集積なFHEでは、厚さ100μm程度で小さく分割した集積回路チップ(チップレットと呼ぶ)をエラストマーに埋め込み、フォトリソグラフィを利用して高密度配線を形成してチップレット間を接続するので、フレキシブルデバイスの性能とスケーラビリティを格段に高めることができる。本研究では、分子レベル、材料レベル、システムレベルの階層的なマルチスケール応力エンジニアリングを駆使し、機械的/電気的信頼性を取得してこの高集積FHEの有用性を工学的に体系化する。高伸縮性基板の変形によりかかる応力の作用機序を深く理解し、配線の信頼性の鍵を握る「応力緩衝層」の構造設計を追求し、デザインルールを策定する。東北大のシリコン貫通配線(TSV: Through-Silicon Via)を用いた三次元積層チップ(3D-IC)をチップレット化し、UCLAのシステム集積技術を融合させ、PDMS(Polydimethylsiloxane)に内蔵した医療用の高集積フレキシブルシステムを創製する。

  6. チップレット内蔵ウェアラブルマイクロLEDディスプレイの開発

    2021年1月 ~ 2023年3月

  7. 染色で誘導自己組織化ナノ配線を創る

    福島 誉史, マリアッパン ムルゲサン

    提供機関:Japan Society for the Promotion of Science

    制度名:Grants-in-Aid for Scientific Research

    研究種目:Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)

    研究機関:Tohoku University

    2020年7月30日 ~ 2022年3月31日

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    誘導自己組織化(DSA)によりナノ規則構造を構成する一方の高分子ブロック成分に、特定の金属酸化物や有機金属を選択的に物理吸着、化学吸着させる「染色」を応用した配線形成原理を実証した。ポリスチレンとポリメチルメタクリレート(分子量比2:1)から構成されるブロック高分子をφ3μm、深さ10μmのSi深穴に充填させ染色した。染色剤として酸化ルテニウムⅧ(0.5%水溶液)による液相拡散では制御性が低い結果となったが、四酸化ルテニウム(RuO4)による気相拡散では、シリンダ型のナノ周期構造が観察された(ピッチ約30nm)。また、ナノプローバを用いた電気的特性評価より、オーミックな特性を得ることができた。

  8. インモールド・エレクトロニクス用伸縮配線

    2021年4月 ~ 2022年3月

  9. 広視野の視覚を再建する眼球内完全埋植・低侵襲フレキシブル人工網膜の開発

    田中 徹, 福島 誉史, 木野 久志, 富田 浩史, 清山 浩司, 菅野 江里子

    提供機関:Japan Society for the Promotion of Science

    制度名:Grants-in-Aid for Scientific Research

    研究種目:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)

    研究機関:Tohoku University

    2018年4月1日 ~ 2021年3月31日

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    本研究は失明患者の視覚を工学的手法で再建する人工網膜を開発する。光電変換素子・視覚情報処理回路・刺激電流生成回路を積層した複数個の三次元積層人工網膜チップをフレキシブル基板上に高密度集積する。それを網膜の中心窩及びその周辺部に完全埋植することで現在の単チップ埋植の4倍以上の視野角を実現する。 (1)人工網膜回路設計・試作:広視野角を得るために2.5mm角・9チップ搭載を目指して人工網膜回路の設計試作を行った。これまでの3mm角・4チップ搭載より1000ピクセル以上増加する。チップ選択回路も実装し、広視野角と低消費電力動作を両立できた。また、エッジ強調後の非動作ピクセルの完全停止回路を改良し、動作判別のしきい値を調整可能にした。エッジの鮮明化と低消費電力化が可能になった。 (2)積層化・マルチチップフレキシブル人工網膜作製:複数個の人工網膜チップを生体適合性フレキシブル材料に集積・内蔵するFOWLPベース実装プロセス技術を開発している。フレキシブル基板上の金属配線は曲げ応力による断線が懸念されるが、金配線の一部を周期的に基板から剥離する皺状金配線による解決を提案し、繰り返し曲げ信頼性が向上することを実証した。また、複数チップ搭載では熱応力低減のため200℃以下の低温プロセスが望ましい。OER-TEOSを用いて150℃のTSV低温作製に成功し、良好な電気特性を得た。 (3)細胞・動物実験評価:人工網膜チップの光変換感度向上と刺激電流による細胞ダメージ低減を両立するために透明刺激電極を開発している。単層で電気特性を取得するため、フォトダイオードを有する視覚情報処理・刺激電流生成チップ上に透明刺激電極を作製した。AlやBをドープしたZnO電極を実チップに成膜することに成功しているが、チップ接触抵抗が大きいという問題が発生しており、コンタクトホールの形成プロセス最適化を行っている。

  10. ウエハ検査用微細TSV集積化プローブカードの実用化開発

    2020年10月 ~ 2021年3月

  11. 高密度ナノ配線形成に資する金属含有ブロック高分子のグラフォ・ケミカルエピタキシ

    2018年4月 ~ 2021年3月

  12. 三次元集積技術を基盤としたナノプローブカードの試作と事業性検証

    2019年10月 ~ 2020年9月

  13. 高集積ハイドロゲル創製への挑戦

    福島 誉史, ベ ジチョル

    提供機関:Japan Society for the Promotion of Science

    制度名:Grants-in-Aid for Scientific Research Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)

    研究種目:Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)

    研究機関:Tohoku University

    2018年6月29日 ~ 2020年3月31日

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    本研究では、フレキシブルデバイスで一般的に利用されるPETやポリイミド、あるいはPDMSなどのフレキシブル基板材料をハイドロゲルに置き換え、高集積なフレキシブルハイブリッドエレクトロニクス(FHE)を創出するための要素技術の創出、およびシステム集積まで検討した。先端のウエハレベル半導体パッケージング技術を応用し、微小なLEDチップとLSIチップをハイドロゲルに埋め込んで高密度配線で接続したウエアラブルパッチを作製するために必要な技術を立ち上げることに成功した。

  14. 自己組織化支援拡散法による極微細シリコン貫通配線形成技術

    2019年6月 ~ 2020年3月

  15. 硬い単結晶半導体で創る曲面集積フレキシブルデバイス創製

    2018年6月 ~ 2019年6月

  16. 次世代積層LSIを志向した誘導自己組織化配線の形成とメカニズム解析

    福島 誉史, 大山 俊幸, ベ ジチョル, 橋本 宏之

    提供機関:Japan Society for the Promotion of Science

    制度名:Grants-in-Aid for Scientific Research Grant-in-Aid for Scientific Research (B)

    研究種目:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)

    研究機関:Tohoku University

    2016年4月1日 ~ 2019年3月31日

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    本研究は人工知能の普及に伴い更なる需要が見込まれる次世代の大規模集積回路(LSI)と呼ばれる「三次元積層型集積回路(3D-LSI)」の性能を高めるための立体配線の微細化を追求する。従来、リソグラフィ、エッチング、電解めっきなどを組み合わせたトップダウン的な手法であったが、ここではボトムアップ的な手法と考案した。高分子材料と金属からなるナノコンポジットのナノ相分離を利用した極微細構造形成「誘導自己組織化」により従来比1/100以下の直径を有する三次元配線TSV (Through-Si Via: Si貫通配線)を形成できた。

  17. 高信頼性フレキシブルFOWLP技術に関する研究

    2018年4月 ~ 2019年3月

  18. ウエハ圧縮成型による柔軟な樹脂の高集積化

    2018年4月 ~ 2019年3月

  19. 人の視覚と同じ高次情報処理を実現する眼球内完全埋め込み型人工網膜システムの開発

    田中 徹, 福島 誉史, 富田 浩史, 清山 浩司, 小柳 光正, 菅野 江里子, 木野 久志

    提供機関:Japan Society for the Promotion of Science

    制度名:Grants-in-Aid for Scientific Research Grant-in-Aid for Scientific Research (A)

    研究種目:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)

    研究機関:Tohoku University

    2015年4月1日 ~ 2018年3月31日

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    高次情報処理を実現する超低消費電力三次元積層人工網膜LSI回路において、視覚再建に寄与しない40Hz以下の刺激及び両極性電流パルス間において回路動作を止める機構を考案し、62%の消費電力削減に成功した。また、暗電流補償や温度検出の回路設計と試作を行って動作を検証した。人工網膜の光電変換感度向上のためにAl-doped ZnO (AZO)を用いて透明刺激電極を開発した。その結果、網膜刺激電極として適切な電荷注入能力と電極インピーダンスの値を有し、積層化プロセスに対応可能な透明AZO電極の開発に成功した。これにより画素当たりの刺激電極面積(光電変換感度)を3倍以上に増やすことが可能になった。

  20. 高集積ストレッチャブルデバイス作製に資する基盤技術研究

    2017年8月 ~ 2018年3月

  21. 高集積フレキシブル無機単結晶デバイス作製に資する機械加工と信頼性評価

    2017年8月 ~ 2018年3月

  22. ナノコンポジットの拡張誘導自己組織化による超微細配線の一括形成

    2017年4月 ~ 2018年3月

  23. 誘導自己組織化による超立体高密度配線で構築する脳型コンピューティング システム研究

    2016年3月 ~ 2017年7月

  24. ブロック高分子と金属ナノ粒子が創出する拡張誘導自己組織化配線に関する技術開発

    2017年4月 ~

  25. ガラス/高分子界面のデンドリティックアンカー効果発現機構の解明

    福島 誉史, 裵 志哲, 大西 正樹, 長井 千里

    提供機関:Japan Society for the Promotion of Science

    制度名:Grants-in-Aid for Scientific Research Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research

    研究種目:Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research

    研究機関:Tohoku University

    2015年4月1日 ~ 2017年3月31日

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    200℃の低温のプラズマCVDで成膜したSiO2と、200℃の気相堆積で成膜したポリイミドの接着に関する研究を行った。特に次世代の三次元積層型集積回路の基幹配線となるTSV(シリコン貫通配線)の信頼性向上を目的として、デンドリティックなアンカー効果を発現させて接着強度を高めることを試みた。その接着強度向上のメカニズムは、物理的な浅いアンカー効果に加えて、自己組織化単分子膜をベースとした密着助剤による界面分子間力の増大によるものと判明した。

  26. 高集積フレキシブルSiデバイス作製技術の開発

    2014年4月 ~ 2015年5月

  27. 原子層堆積重合による縮合系耐熱高分子の積層膜形成と応用

    福島 誉史, マリアッパン ムルゲサン, 裵 志哲

    提供機関:Japan Society for the Promotion of Science

    制度名:Grants-in-Aid for Scientific Research Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research

    研究種目:Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research

    研究機関:Tohoku University

    2013年4月1日 ~ 2015年3月31日

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    気相堆積法によりポリイミド薄膜を次世代集積回路の基幹配線として期待されるSi貫通配線(TSV: Through-Silicon Via)のライナー絶縁膜として応用できる可能性を示すことができた。原子層気相堆積(ALD)のような緻密で高制御な超薄膜形成には至らなかったが、100nm以下の膜厚を10nm単位で制御でき、ALDに比べて高い成膜速度(およそ100-200nm/min)で高純度なKapton-H型のポリイミド薄膜を形成できた。アスペクト10、直径5μm以下のSi深穴に80%を超える高い被覆率で堆積でき、既存のプラズマCVDによるSiO2薄膜よりも低い応力でTSVを形成することができた。

  28. 高次視覚情報処理機能を有する完全埋込型低電力三次元積層人工網膜システムの研究

    田中 徹, 清山 浩司, 冨田 浩, 福島 誉史, 小柳 光正

    提供機関:Japan Society for the Promotion of Science

    制度名:Grants-in-Aid for Scientific Research Grant-in-Aid for Scientific Research (A)

    研究種目:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)

    研究機関:Tohoku University

    2012年4月1日 ~ 2015年3月31日

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    光電変換素子/高次視覚情報処理回路/刺激電流生成回路を1チップに三次元積層して眼球内に埋め込むことで、患者に高いQOLを提供できる「高次視覚情報処理機能を有する完全埋込型低電力三次元積層人工網膜システム」の研究を行った。各回路チップをTSVで三次元積層化して人工網膜チップを作製する技術と、三次元積層人工網膜チップとフレキシブルケーブルをダメージ無くモジュール集積化する技術を開発した。約1300画素の感度切替型受光回路チップ及びエッジ強調機能付き刺激電流生成回路チップを開発した。人工網膜チップのウサギ眼球内埋め込み実験を行い、網膜が変性したウサギへの光刺激によるEEP信号の取得に成功した。

  29. 超微細電極接合のための金属・有機無機ハイブリッド異種材料の精密切削

    2014年8月 ~ 2015年3月

  30. 気相堆積重縮合によるシリコン貫通高分子光導波路の形成と評価

    2014年4月 ~ 2015年3月

  31. 複合Siウェハを用いた高性能・低電力ヘテロCMOSトランジスタの開発

    李 康旭, 福島 誉史, 田中 徹, 裵 志哲, ムルゲサン マリアッパン, 小柳 光正, 裴 艶麗

    提供機関:Japan Society for the Promotion of Science

    制度名:Grants-in-Aid for Scientific Research Grant-in-Aid for Scientific Research (B)

    研究種目:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)

    研究機関:Tohoku University

    2011年4月1日 ~ 2014年3月31日

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    本研究では、InGaAsを用いてNMOSトランジスタを、Geを用いてPMOSトランジスタを大口径Siウェハ上に混在させて、低コストで高性能・低電力ヘテロCMOSトランジスタを作製できる新しい技術を創出した。Siウェハ上にInGaAsとGe化合物半導体チップを高い位置合わせ精度(<1um)と接合強度で(20MPa)張り合わせる出来るセルフアセンブリー技術を開発した。ヘテロCMOSトランジスタ実現の鍵を握る浅いp-n接合を形成するためのイオン打ち込みとアニール技術を確立した。Siウェハ上に張り合わしたGeおよびInGaAsチップからなるフォトダイオードを試作し、基本動作を確認した。

  32. グラフォアセンブリーによる三次元積層型光電子集積システム・オン・チップ

    小柳 光正, 福島 誉史, 田中 徹, 羽根 一博, 三浦 英生, 裴 艶麗, 清山 浩司

    提供機関:Japan Society for the Promotion of Science

    制度名:Grants-in-Aid for Scientific Research Grant-in-Aid for Scientific Research (S)

    研究種目:Grant-in-Aid for Scientific Research (S)

    研究機関:Tohoku University

    2009年5月11日 ~ 2014年3月31日

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    三次元積層型光電子集積システム・オン・チップの実現を目指して、その鍵となるグラフォアセンブリー技術、シリコンフォト二クス技術の検討を行った。チップ表面の表面状態を制御することによって液体を制御してチップの位置合わせ精度を向上させるグラフォアセンブリー技術を開発し、寸法の異なる500個以上のチップを8インチ・シリコンウェハ上に一括位置合わせ、接合することに成功した。また、シリコンフォト二クス技術については、垂直方向光インターコネクション(TSPV)技術を確立するとともに、高い結合効率を有する微細グレーティングカップラを開発し、三次元積層型光集積システム・オン・チップの実現可能性を明らかにした。

  33. 三次元LSI積層用ウェーハ転写技術の開発

    2011年7月 ~ 2012年3月

  34. 機能性液体による集積回路の自己組織化三次元積層に関する研究

    2011年4月 ~ 2012年3月

  35. 三次元チップ積層のためのウェーハレベル圧縮成形技術の開発

    2011年4月 ~ 2012年3月

  36. リコンフィギャラブル接合を基盤とした三次元集積化研究

    福島 誉史

    提供機関:Japan Society for the Promotion of Science

    制度名:Grants-in-Aid for Scientific Research Grant-in-Aid for Scientific Research (B)

    研究種目:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)

    研究機関:Tohoku University

    2010年 ~ 2012年

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    三次元集積回路(3DIC)をウェーハレベル、且つ高歩留りで作製するための鍵となるリコンフィギュラブル接合技術を開発し、良品チップにSi貫通配線(TSV:Through-SiVia)を形成して多段積層する新たな三次元集積化技術を創出した。リコンフィギュラブル接合とは、液体の表面張力を駆動源として多数のチップを一括で支持ウェーハ上に位置合わせすると同時に接合させ、高温・高真空下のTSV形成工程を経た後に、チップを剥離して別のウェーハに転写できるインテリジェントな接合が可能であった。これにより従来の(二次元)ICチップにTSVを容易に形成することが可能となるため、3DICの多品種少量生産を目的としたアジャイル集積の実現可能性が検証できた。

  37. 眼球内埋め込み用低電力三次元積層型人工網膜システムの研究

    田中 徹, 富田 浩史, 福島 誉史, 清山 浩司, 小柳 光正

    2010年 ~ 2011年

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    (1)LSIチップ積層化技術及び眼球内に埋め込む各部品の一体化集積技術 導電性高分子であるPEDOT電極の作製技術、及び人工網膜チップのフレキシブルケーブル実装技術を確立した。チップの実装にはフレキシブルケーブル上のAu配線の拡散断線防止を工夫したCuSnマイクロバンプを用いて、300℃以下の低温接合を実現した。また、フォトダイオード受光用貫通孔を有する網膜下刺激フレキシブルケーブルの開発に成功し、網膜内に埋め込まれた人工網膜チップにおいて外界からの光を適切に受光することが可能となった。これらを組み合わせて、人工網膜チップ動作に悪影響を与えない一体化集積技術を確立し、網膜下刺激人工網膜モジュールの電気特性の取得にも成功した。 (2)眼球内で長期間安全に動作する超低消費電力人工網膜LSI回路技術 1300画素の感度切替型光電変換回路チップと近傍4画素ラプラシアン法を用いた視覚情報処理回路チップの設計、及びファウンドリによるチップ試作を行った。人の眼球における明暗感度を忠実に再現する回路を検討するとともに、使用環境に応じた感度手動切替型の高感度受光回路の設計を行った。試作チップを評価した結果、仕様を満たす感度曲線が得られることを確認した。また、4近傍ラプラシアンフィルタを用いた完全埋め込み型人工網膜のためのエッジ強調回路を設計した。画素回路面積は75μm角、画素数は約1300である。試作チップを評価した結果、視覚情報のエッジを強調する十分な性能を確認した。この回路を実装した人工網膜により失明患者に高いQOLを提供することが可能である。 (3)眼球内埋め込みモジュールの生物・臨床評価 今年度開発した網膜下刺激人工網膜モジュールを眼球内に埋め込む術式を確立した。透明ガイドを用いることで眼球に大きなダメージを与えることなく網膜下へのモジュール挿入を可能とした。網膜下へ埋め込むことで、従来使用していた金属タックを使用せずに人工網膜モジュールの固定が可能となった。また、網膜下に埋め込んだPEDOT刺激電極から網膜刺激を行い、EEPの取得にも成功した。

  38. 脳機能の統合的研究の支援と推進 競争的資金

    制度名:Grant-in-Aid for Scientific Research

    2005年4月 ~ 2010年3月

  39. 自己組織化による異種デバイス混載積層型チップの創製

    福島 誉史, 小柳 光正, 田中 徹

    提供機関:Japan Society for the Promotion of Science

    制度名:Grants-in-Aid for Scientific Research Grant-in-Aid for Young Scientists (A)

    研究種目:Grant-in-Aid for Young Scientists (A)

    研究機関:Tohoku University

    2007年 ~ 2009年

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    液体の表面張力を駆動力とした自己組織化チップ位置合わせ、および接合技術を基盤とした三次元集積化技術の基礎を開拓し、異種デバイスを混載したテストモジュールを試作した。平均位置合わせ精度は1μm以内であり、500個以上の5mm角チップを一括して0.1秒以内の瞬時に位置合わせさせることに成功した。また、常温で荷重をかけずにチップを基板上に直接接合することも可能にした。

  40. 金属ナノドット不揮発性メモリのナノインテグレーション

    田中 徹, 福島 誉史, 裴 艶麗

    提供機関:Japan Society for the Promotion of Science

    制度名:Grants-in-Aid for Scientific Research Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas

    研究種目:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas

    研究機関:Tohoku University

    2006年 ~ 2009年

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    Self-Assembled Nanodot Deposition法を用いて、超微細(~1.5nm)・高密度(1.3x10^<13>/cm^2)の世界トップレベルの金属ナノドットの形成に成功した。制御ゲート用High-k絶縁膜と金属ナノドットフローティングゲートを有する不揮発性メモリの作製にも成功し、大きな仕事関数を有するコバルトナノドットによって、長い電荷保持時間・優れた耐久性・大きなメモリウィンドウを得た。また、ポテンシャル変調ゲートスタックを有する多層金属ナノドットメモリの基本動作検証に成功した。

  41. 超高集積、低電力メモリデバイスに関する研究:金属ナノドットメモリの開発 競争的資金

    制度名:JST Basic Research Programs (Core Research for Evolutional Science and Technology :CREST)

    2003年3月 ~ 2008年4月

  42. ナノテクノロジー基盤機械科学フロンティア:ナノテクノロジーとIT、バイオテクノロジーを駆使して、新しいナノデバイス、ナノマシン、バイオナノマシンの実現 競争的資金

    制度名:SCF System for Establishment and Support of Center's of Excellence

    2003年4月 ~ 2008年3月

  43. トンネル注入制御Geナノデバイスを用いた超高周波キャリア伝導機構の解明

    田中 徹, 福島 誉史, 福島 誉史, MOSSAD Ali Atif

    提供機関:Japan Society for the Promotion of Science

    制度名:Grants-in-Aid for Scientific Research Grant-in-Aid for Scientific Research (B)

    研究種目:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)

    研究機関:Tohoku University

    2007年 ~ 2008年

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    従来のCMOS技術の延長では実現不可能であるナノメートル領域で動作する新しいトンネル注入制御ゲルマニウムナノデバイスを提案し、キーテクノロジである高純度ゲルマニウム層の作製技術を確立した。また、高透磁率金属ナノドットを有する高周波動作用インダクタの作製に成功した。キャリア伝導メカニズムの実験的解析法として、超高周波領域で測定した散乱パラメータ(Sパラメータ)を用いたキャリアの反射/透過現象のモデル化手法を確立した。

  44. 自己組織化による三次元集積回路の開発 競争的資金

    制度名:Grant-in-Aid for Scientific Research

    2003年4月 ~ 2007年3月

  45. 文部科学省ITプログラム:MRAMの回路技術、シミュレーションとメモリセルの試作 競争的資金

    制度名:The Other Research Programs

    2002年4月 ~ 2007年3月

  46. 積層型人工網膜システムの開発 競争的資金

    制度名:SCF System for Establishment and Support of Center's of Excellence

    2002年4月 ~ 2007年3月

  47. 三次元積層型プロセッサチップを用いた超高性能並列処理システム

    小柳 光正, 羽根 一博, 寒川 誠二, 田中 徹, 福島 誉史, 栗野 浩之, 沈 正七, 宮川 宣明

    提供機関:Japan Society for the Promotion of Science

    制度名:Grants-in-Aid for Scientific Research Grant-in-Aid for Scientific Research (S)

    研究種目:Grant-in-Aid for Scientific Research (S)

    研究機関:Tohoku University

    2003年 ~ 2007年

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    新しい共有メモリ結合型並列処理システムを提案し、実際に設計して性能評価を行った。設計したシステムでは、共有データは光インターコネクションより成る高速のマルチポート・リングバスを介して各プロセッサ(PE)に送られるようになっている。積層構造のノード共有キャッシュメモリを用いことによってミス率を減少させて、システム性能を向上させることができた。接続するプロセッサの台数にほぼ比例する性能が得られており、本研究で提案したシステムの有効性を確認できた。以上のような並列処理システム実現のかぎを握る光インターコネクション技術と三次元集積化技術について検討した。光導波路に関しては、0.029dB/cmという極めて損失の少ない光導波路の作製に成功した。この低損失光導波路を用いて、10Gbps(導波路長:5cm)の高速データ転送を確認した。また、ビームリードボンディング法という新しい手法を開発して、発光・受光素子をLSIテストチップ上への直接搭載することに成功した。これらの技術を用いて、キャッシュメモリとなるSRAMテストチップを光導波路で接続したテストモジュールを試作し、メモリチップ間で光によるデータ転送に成功した。三次元集積化技術に関しては、ウェーハ張り合わせによる三次元集積化技術を開発し、この技術を用いて世界初の三次元積層型プロセッサ・テストチップの試作に成功した。更に、10層積層の三次元積層型メモリ・テストチップの試作にも成功した。また、より大規模で高性能のプロセッサチップとメモリチップを積層するために、異なったサイズのチップを張り合わせることのできる新しい三次元集積化技術(スーパーチップインテグレーション技術)を開発した。

  48. ナノフィラーを含む熱硬化性樹脂の分子設計と次世代集積回路への応用 競争的資金

    福島 誉史

    制度名:Grant-in-Aid for Scientific Research

    2005年 ~ 2006年

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    Si基板上に塗布・硬化後に発生する反りの測定から、粒径50nmのナノフィラーを含むエポキシ樹脂の熱膨張係数(CTE)は、粒径の大きな(200-2000nm)フィラーを含むエポキシ樹脂のそれと比較して大きな差はないことが判明した。CTE値はフィラー含有率に依存するが、フィラー含有率の増大により樹脂の粘度が著しく上昇する。また、ナノサイズのフィラーは樹脂の硬化を阻害するため、樹脂のガラス転移温度を低下させる。次世代集積回路として注目されている三次元積層型チップのアンダーフィル剤として使用するには、約4μmの間隙に粘性の樹脂を流し込む必要がある。そのためには、樹脂に混合するフィラーの粒径はナノサイズにすることが必要であるが、樹脂粘性の増大を抑制することが必要不可欠である。 本研究では、積層型チップ間の狭ギャップに低粘性の樹脂を短時間で注入し且つ、反りの発生を最小限に抑えることができるように樹脂の分子設計を行った。ここで用いた樹脂の特徴を以下に示す。 1.樹脂A:エポキシ樹脂、粘度:400cPs、表面張力:45mN/m 2.樹脂B:シリコーン樹脂、粘度:1000cPs、表面張力:20mN/m シリコーン樹脂の塗布膜厚が30μmの時の反り量は低く約5μmであったが、アンダーフィル後の研磨、CMP工程ではその低弾性率(約50MPa)が信頼性に欠ける。一方、発生する反り量は、樹脂膜厚に強く依存し、エポキシ樹脂の膜厚が10μmの場合、反り量は+15μmであった。このエポキシ樹脂を用いて注入を行った結果、Peripheral bumpを形成した5mm角チップの充填に要する時間は約110秒であり、計算式から求めた理論注入時間150秒より短い。この理由は、注入前、チップ端に滴下する樹脂の容量に強く依存するためである。適量な樹脂を滴下することにより十分に実用的な時間内で注入できることが分かった。

  49. 先導的研究等の推進:Nano-CMOS超低消費電力デバイス技術 競争的資金

    制度名:Special Coordination Funds for Promoting Science and Technology

    2002年3月 ~ 2005年4月

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担当経験のある科目(授業) 12

  1. 電気電子回路II 東北大学

  2. 数学物理学演習I 東北大学

  3. 機械設計学II(英語コース) 東北大学

  4. バイオナノテクノロジー特論 東北大学

  5. 脳神経システム学(ニューロモーフィックデバイス工学) 東北大学

  6. 計画及び製図I(英語コース) 東北大学

  7. 機械知能・航空実験II「集積回路設計の基礎」 東北大学

  8. 医工学概論、医工学基礎 東北大学

  9. 機械知能・航空工学科 特別講義Ⅱ(人と機械のハーモニー) 東北大学

  10. バイオロボットシステム入門(国際機械工学コース入門) 東北大学

  11. Organic/Polymer Materials for Microelectronics in Special Topics of Physical and Wave Electronics Electric Engineering Department, UCLA

  12. コンピュータ実習 東北大学

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社会貢献活動 1

  1. 学外授業

    2009年6月26日 ~

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    宮城県立泉高校にて大学紹介、および出張講義を行った

メディア報道 19

  1. 半導体、「チップレット」で進化 微細化代替へ産学連携

    日本経済新聞 https://www.nikkei.com/article/DGXZQOUC230G90T21C22A0000000/

    2022年11月3日

    メディア報道種別: インターネットメディア

  2. 最小要素のチップレット集積技術を開発 広帯域接続と集積規模のスケーラビリティを実現

    大阪大学 ResOU https://resou.osaka-u.ac.jp/ja/research/2022/20221005_2

    2022年10月5日

  3. 最小要素のチップレット集積技術を開発 広帯域接続と集積規模のスケーラビリティを実現

    東京工業大学 https://www.titech.ac.jp/news/2022/064932

    2022年10月5日

    メディア報道種別: その他

  4. 2016年度 田中貴金属記念財団研究助成 プラチナ賞 受賞

    日刊金属

    2017年4月3日

    メディア報道種別: 新聞・雑誌

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    田中貴金属 記念財団 「貴金属に関わる研究助成」の受賞者を発表 「ブロック高分子と金属ナノ粒子が創出する拡張誘導自己組織化配線に関する技術開発 」で 東北大学 福島誉史准教授がプラチナ賞 を受賞 ~貴金属ナノ粒子の特性を活用した、次世代半導体の性能向上や製造コストの削減が可能となる技術開発で受賞~

  5. 田中貴金属記念財団、研究助成の受賞者決定

    鉄鋼新聞

    2017年3月31日

    メディア報道種別: 新聞・雑誌

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    2016年度 田中貴金属記念財団 研究助成 プラチナ賞受賞

  6. 東北大 新システム集積化技術を開発 自己組織化で一括作製

    半導体産業新聞

    2009年3月4日

    メディア報道種別: 新聞・雑誌

  7. 3次元積層へのセルフ・アセンブリ技術の適用 東北大が成果示す

    日経マイクロデバイス

    2009年3月1日

    メディア報道種別: 新聞・雑誌

  8. セルフ・アセンブル技術の適用 東北大が成果示す

    日系エレクトロニクス

    2009年2月10日

    メディア報道種別: 新聞・雑誌

  9. 異種デバイスを一括搭載 独自のシステム集積化技術開発

    科学新聞

    2009年1月23日

    メディア報道種別: 新聞・雑誌

  10. 異種チップ基板に集積 東北大 水の表面張力利用

    日経産業新聞

    2009年1月15日

    メディア報道種別: 新聞・雑誌

  11. 半導体ウエハ 異種デバイス一括搭載 製造時間短縮 東北大が技術

    日刊工業新聞

    2009年1月14日

    メディア報道種別: 新聞・雑誌

  12. 異種部品一括し基板に 製造コスト大幅減

    河北新報

    2009年1月14日

    メディア報道種別: 新聞・雑誌

  13. 患者の目に光を!世界初の人工網膜(資料提供 テレビ 仙台放送)(2007)

    2007年8月21日

    メディア報道種別: テレビ・ラジオ番組

  14. 3-D chip vendor corrects course

    2005年12月28日

    メディア報道種別: その他

  15. チップ10層立体LSI(厚さ0.3ミリ 微細化の壁 突破に期待)

    2005年12月28日

    メディア報道種別: 新聞・雑誌

  16. 三次元集積回路を開発

    2005年12月23日

    メディア報道種別: 新聞・雑誌

  17. チップ積み上げLSI(東北大が新手法 10層が可能 消費電力も期待)

    2005年12月23日

    メディア報道種別: 新聞・雑誌

  18. 三次元LSIを試作(積層構造を高速処理)

    2005年12月23日

    メディア報道種別: 新聞・雑誌

  19. 自己組織化法によるスーパーチップ技術の開発

    2005年12月22日

    メディア報道種別: テレビ・ラジオ番組

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その他 13

  1. ナノコンポジットの拡張誘導自己組織化による超微細配線の一括形成

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    ナノコンポジットの拡張誘導自己組織化による超微細配線の一括形成

  2. 高集積フレキシブル無機単結晶デバイス作製に資する機械加工と信頼性評価

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    高集積フレキシブル無機単結晶デバイス作製に資する機械加工と信頼性評価

  3. ブロック高分子と金属ナノ粒子が創出する拡張誘導自己組織化配線に関する技術開発

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    ブロック高分子と金属ナノ粒子が創出する拡張誘導自己組織化配線に関する技術開発

  4. 高集積ストレッチャブルデバイス作製に資する基盤技術研究

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    高集積ストレッチャブルデバイス作製に資する基盤技術研究

  5. 気相堆積重縮合によるシリコン貫通高分子光導波路の形成と評価

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    気相堆積重縮合によるシリコン貫通高分子光導波路の形成と評価

  6. 高集積フレキシブルSiデバイス作製技術の開発

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    高集積フレキシブルSiデバイス作製技術の開発

  7. 超微細電極接合のための金属・有機無機ハイブリッド異種材料の精密切削

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    超微細電極接合のための金属・有機無機ハイブリッド異種材料の精密切削

  8. 三次元LSI積層用ウェーハ転写技術の開発

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    三次元LSI積層用ウェーハ転写技術の開発

  9. 三次元チップ積層のためのウェーハレベル圧縮成形技術の開発

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    三次元チップ積層のためのウェーハレベル圧縮成形技術の開発

  10. 機能性液体による集積回路の自己組織化三次元積層に関する研究

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    機能性液体による集積回路の自己組織化三次元積層に関する研究

  11. 三次元積層型プロセッサチップを用いた超高性能並列処理システム

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    三次元積層型プロセッサチップを用いた超高性能並列処理システム 構築するための要素技術の開発、および試作チップの作製

  12. 科学技術振興調整費 先導的研究等の推進

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    ”Nano-CMOS超低消費電力デバイス技術”の開発

  13. 戦略的創造研究推進事業

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    共鳴磁気トンネル・ナノドット不揮発性メモリの創製

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