TOHOKU UNIVERSITY Researchers

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Masaru Nakagawa

Section

Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials

Job title

Professor

Degree

博士（工学）（上智大学）
修士（工学）（上智大学）

researchmap

https://researchmap.jp/read0143910

J-GLOBAL ID

200901089441194667

e-Rad No.

10293052

ORCID

https://orcid.org/0000-0001-7735-0453

Research History 7

2021/04 - Present

Tohoku University　Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials
2008/10 - Present

Tohoku University　Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials　Professor
2020/04 - 2021/03

Tohoku University　Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials
2017/04 - 2020/03

Tohoku University　Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials
2007/04 - 2008/09

Tokyo Institute of Technology　Chemical Resources Laboratory　Associate Professor
2002/11 - 2007/03

Tokyo Institute of Technology　Chemical Resources Laboratory　Associate Professor
1997/04 - 2002/10

Tokyo Institute of Technology　Chemical Resources Laboratory　Assistant Professor

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Education 4

Sophia University　Graduate School of Science and Technology　Department of Applied Chemistry

1994/04 - 1997/03
Sophia University　Graduate School of Science and Technology　Department of Applied Chemistry

1992/04 - 1994/03
Sophia University　Faculty of Science and Engineering　Department of Chemistry

1988/04 - 1992/03
市川高等学校

- 1988/03

Committee Memberships 32

公益社団法人応用物理学会ナノインプリント技術研究会　運営副委員長

2023/01 - Present
国立大学法人東北大学多元物質科学研究所　マテリアル・計測ハイブリッド研究センター長

2022/04 - Present
公益社団法人高分子学会　印刷･情報･電子用材料研究会運営委員

2022/04 - Present
応用物理学会次世代リソグラフィ技術研究会分科会　運営幹事

2021/04 - Present
公益社団法人高分子学会東北支部　常任幹事

2017/04 - Present
第30回ホトマスクジャパン　組織副委員長

2024/05 - 2025/04
公益社団法人高分子学会　第73 回高分子学会年次大会運営委員

2023/08 - 2024/07
第29回ホトマスクジャパン　組織副委員長

2023/05 - 2024/04
Photomask Japan　Organizing Committee Vice Chair

2022/05 - 2023/04
21th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT 2022)　Organizing Committee Vice Chair

2020/02 - 2022/12
公益社団法人応用物理学会ナノインプリント技術研究会　運営委員

2008/02 - 2022/12
Photomask Japan 2022　Organizing Committee Vice Chair

2021/05 - 2022/04
公益社団法人応用物理学会極限ナノ造形・構造物性研究会　運営委員長

2015/01 - 2020/12
高分子学会　第 69 回高分子討論会運営委員

2019/10 - 2020/09
Photomask Japan 2020　Organizing Committee Vice Chair

2019/05 - 2020/04
Photomask Japan 2019　Organizing Committee Vice Chair

2018/05 - 2019/04
公益社団法人高分子学会第31期高分子基礎物性研究会運営委員第33期高分子基礎物性研究会運営委員　運営委員

2012/06 - 2018/05
理化学研究所若手研究人材育成制度推進委員会　審査部会委員

2014/05/01 - 2017/03/31
公益社団法人高分子学会東北支部　幹事

2014/04 - 2016/03
日本学術振興会科学研究費委員会　専門委員

2014/08 - 2015/07
公益財団法人応用物理学会シングルナノパターニング研究グループ　副委員長

2013/01 - 2014/12
13th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT 2014) 組織委員会　実行委員長

2013/11 - 2014/10
社団法人高分子学会第31期高分子基礎物性研究会　運営委員

2012/06 - 2014/05
12th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT 2013) 組織委員会　国際プログラム委員

2012/11 - 2013/10
第30期前期「高分子」編集委員会　委員

2010/06 - 2012/05
公益社団法人高分子学会第28期企画委員会委員　委員

2006/06 - 2008/06
公益社団法人高分子学会第28期「高分子」編集委員会　委員

2006/06 - 2008/05
社団法人日本化学会　代議員

2005/11 - 2007/10
独立行政法人産業技術総合研究所中部センター「分子集積化技術と新産業育成フォーラム」　委員

2005/10 - 2006/09
社団法人表面技術協会ナノテク部会　企画幹事

2005/04 - 2006/03
財団法人理工学振興会　技術顧問

2003/07 - 2004/03
公益社団法人高分子学会第30期「高分子」編集委員会　委員

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Research Interests 11

resist material for dry etching
ultrafine alignment accuracy
metasite
laser-drilled screen printing
demolding molecular layer
adhesion molecular layer
photopolymer
fluorescence alignment
polymer resist material
nanoimprint
functional monolayer

Research Areas 3

Nanotechnology/Materials / Thin-film surfaces and interfaces /
Nanotechnology/Materials / Polymer materials /
Nanotechnology/Materials / Nano/micro-systems /

Awards 9

Best Poster Award

2017/11　The 16th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT2017)　Increase in viscosity of a low-viscosity monomer
The third best short presentation for a poster/The First A3 Metamaterials Forum

2016/07/06　The First A3 Metamaterials Forum　Fabrication of split-ring resonator arrays with 20-nm-wide gaps fabricated by UV nanoinprint lithography
The Photopolymer Science and Technology Award NO.152200, the Best Paper Award 2015

2015/06/25　The 32nd International Conference of Photopolymer Science and Technolog（第32回国際フォトポリマーコンファレンス）　Breakthrough Achievement In Nanoimprint Lithography using PFP Condensable Gas
Poster Award

2014/07/25　The 18th International Symposium on Advanced Display Materials and Devices (ADMD 2014, Sendai, Japan)　Decrease of demolding energy in UV nanoimprinting using molecular and
論文賞

2011/05/30　社団法人粉体粉末冶金協会協会　FePt/SiO2複合型磁性ナノ粒子の作製
ＭＮＣ2009 Award for Most Impressive Poster

2010/11/10　23nd International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2010)　Fluorescent UV-Curable Resists for UV Nanoimprint Lithography
Best Poster Award 2nd Prize

2007/10/06　The 6th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT2007)　Gel permeation printing of oleophilic gold nanoparticles
高分子学会日立化成賞

2005/09/21　高分子学会　精密化学めっきのために設計された高分子組織体表面
東京工業大学挑戦的研究賞

2004/12/03　東京工業大学　新規な磁性ニッケルナノチューブを利用した電子素子材料の開発

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Papers 187

Soft and hard trimming of imprint resist masks to fabricate silicon nanodisk arrays with different edge roughness Peer-reviewed

Naoki Takano, Hiromasa Niinomi, Tomoya Oshikiri, Masaru Nakagawa

Journal of Vacuum Science & Technology B　42　(4)　2024/07/01
Publisher: American Vacuum Society
DOI： 10.1116/6.0003779 　

ISSN： 2166-2746

eISSN： 2166-2754

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To investigate the formation mechanism of wrinkle structures in imprinted resist masks generated by oxygen reactive ion etching (O2 RIE), we compared UV/ozone exposure (soft trimming) and O2 RIE (hard trimming) as oxidative trimming methods to tune the diameters of disk resist masks in ultraviolet nanoimprint lithography of Mie-resonant silicon nanodisks (Si NDs). Variations in the residual layer thicknesses of the imprinted resin patterns demonstrated that the wrinkle structures around the disk resist masks increased after the residual layer was removed completely. A comparison between soft and hard trimming indicated that the UV/ozone exposure maintained a relatively small edge roughness of the disk resist masks during a reduction in diameter from 370 to 160 nm, whereas O2 RIE caused a large edge roughness owing to wrinkle structures with diameters below 300 nm. The wrinkled structures are likely to have originated from the wrinkling instability caused by the formation of an ion-damaged layer near the resist surfaces via O2 RIE involving ion bombardment, which could be transferred to a monocrystalline Si layer on a synthetic quartz substrate. Microscopic optical measurements revealed that 230 nm-diameter Si-ND arrays with small and large edge roughnesses exhibited almost identical reflection spectra at visible wavelengths.
Strong Light Confinement by a Plasmon-Coupled Parabolic Nanoresonator Array Peer-reviewed

Tomoya Oshikiri, Toshiaki Hayakawa, Hiromasa Niinomi, Masaru Nakagawa

The Journal of Physical Chemistry C　2024/03/14
Publisher: American Chemical Society (ACS)
DOI： 10.1021/acs.jpcc.3c07224 　

ISSN： 1932-7447

eISSN： 1932-7455
Effect of thickness of surface silicon oxide on liquid advancement in nanogaps between synthetic quartz mold and silicon substrate surfaces in UV nanoimprinting Peer-reviewed

Masaru Nakagawa, Akiko Onuma, Hiromasa Niinomi, Toshiya Asano, Shintaro Itoh, Kenji Fukuzawa

Japanese Journal of Applied Physics　2024/02/14
Publisher: IOP Publishing
DOI： 10.35848/1347-4065/ad2978 　

ISSN： 0021-4922

eISSN： 1347-4065

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Abstract To understand the phenomenon in which shear stress increases in nanogaps between mold and substrate surfaces during alignment in ultraviolet (UV) nanoimprinting, we investigate the liquid advancement of UV-curable droplets on modified silicon surfaces. The droplets are pressed with a flat modified surface of a synthetic quartz mold, and the transformed droplets are cured individually. Subsequently, the mold is detached and the shapes of the transformed droplets are observed. Scanning electron microscopy is performed to determine whether the transformed shapes are affected by the pressing force and holding time under a fixed applied force. The areas on which the droplets spread on the modified silicon substrates are almost independent of the pressing force and holding time, whereas the thickness of the surface silicon oxide layer affects the liquid advancement of the UV-curable droplets sandwiched between the modified mold and substrate surfaces in the nanogaps.
Selecting adhesive molecular layers with matched surface free energy and chemisorption for shape-fixed UV-cured thin films fabricated by micro-printing and nano-imprinting Peer-reviewed

Masaru Nakagawa, Kanta Kawasaki, Akiko Onuma, Hiromasa Niinomi

Japanese Journal of Applied Physics　62　SG1010-1-SG1010-10　2023/02

DOI： 10.35848/1347-4065/acb55c 　
Photo-oxidative degradation of fluorinated chemisorbed monolayers studied by contact angle measurements and time-of-flight secondary ion mass spectrometry Peer-reviewed

Kanta Kawasaki, Rie Shishido, Hiromasa Niinomi, Akiko Onuma, Masaru Nakagawa

Japanese Journal of Applied Physics　62　SG1009-1-SG1009-7　2023/02

DOI： 10.35848/1347-4065/acb55b 　
Fluorescence alignment simulation for atomic-scale position adjustment in ultraviolet nanoimprint lithography Peer-reviewed

Hiromasa Niinomi, Subaru Harada, Toshiaki Hayakawa, Masaru Nakagawa

Journal of Vacuum Science & Technology B　40　(6)　062602-1-062602-9　2022/12
Publisher: American Vacuum Society
DOI： 10.1116/6.0002099 　

ISSN： 2166-2746

eISSN： 2166-2754

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The alignment process of ultraviolet (UV) nanoimprint lithography requires a further sophisticated method to detect infinitesimal misalignments between a synthetic quartz mold and a silicon substrate. Previously, we proposed a fluorescence-alignment method based on the analysis of the additive-type moiré fringes generated by the interferences of fluorescence emission from fluorescent UV-curable liquid filling the concave bar-mark arrays on a synthetic quartz mold and a silicon substrate. The proposed method significantly reduces the cost of mold fabrication and simplifies the in-liquid process compared to the conventional method based on multiplicative-type moiré fringes prevailing in the industry. This is because the fluorescence-alignment method is free from the problem of the refractive index matching between mold and UV-curable liquid materials. However, its position accuracy remains as large as sub-10 nm scales in principle. In this study, through simulation using image drawing and analysis software, we demonstrate that a sophisticated fluorescence alignment can realize atomic-scale precision for position accuracy by attempting the following concepts: (i) the application of the principle on position determination of a fluorescent single-molecule to that of an individual bar-mark fluorescence signal; (ii) effective use of high bit-depth of recent imaging devices; and (iii) accumulations of the information on the positions of multiple bar-marks with periodicities by fitting their fluorescence intensity profiles using a periodic function.
Micro-print and nano-imprint methods combining laser-drilled screen printing and ultraviolet nanoimprint lithography: a review Peer-reviewed

Masaru Nakagawa

Japanese Journal of Applied Physics　61　(SD)　SD0805-1-SD0805-9　2022/06/01
Publisher: IOP Publishing
DOI： 10.35848/1347-4065/ac575f 　

ISSN： 0021-4922

eISSN： 1347-4065

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Abstract Ultraviolet (UV) nanoimprint lithography consists of molding–demolding and lithographic etching processes, which enable the shape transfer of molded resist patterns to underlying substrate surfaces. UV nanoimprint lithography has been applied in various fields, including optics, electronics, biology, and energy engineering. An important key to shape transfer through resist masks is to level the thicknesses of thin residual layers. To solve this issue, the region-selective placement of UV-curable droplets on a substrate is effective for leveling the thickness of the residual layer regardless of the differences in mold pattern density. Herein, we developed laser-drilled screen printing that allows the quantitative placement of high-viscosity UV-curable liquids on substrate surfaces via screen printing using a polyimide through-hole stencil mask prepared via ultrashort-pulse laser drilling. This review explains the practical demonstrations of UV nanoimprint lithography involving laser-drilled screen printing: nano/micro fabrication of Au split ring resonators, Au four-terminal electrodes, and silicon line patterns.
Nondestructive X-ray reflectivity analysis of Al distributions of ultraviolet-cured spin-coated resist films hybridized with trimethylaluminum Peer-reviewed

Kohei Chiba, Masaru Nakagawa

Journal of Vacuum Science & Technology B　40　(3)　032601-1-032601-11　2022/05
Publisher: American Vacuum Society
DOI： 10.1116/6.0001747 　

ISSN： 2166-2746

eISSN： 2166-2754

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Ultraviolet (UV)-cured spin-coated resist films of 100 nm and thinner thicknesses made with bisphenol A-based dimethacrylate monomers on silicon substrates were hybridized by multiple-pulsed vapor infiltration of sequential trimethylaluminum (TMA) doses and a final H₂O dose. Nondestructive x-ray reflectivity measurements without film shrinkage enabled characterization of the internal layer structures of the UV-cured films unmodified before hybridization and hybridized by TMA infiltration and chemical fixing. It was possible to determine the thickness, density, and interface roughness of each layer in the unmodified and hybridized UV-cured films. The TMA infiltration and chemical fixing resulted in the formation of the highest-density Al-rich layer near the film surface. The presence of the highest-density layer arising from the most abundant component, Al, was confirmed through energy-dispersive x-ray spectroscopy and time-of-flight secondary ion mass spectrometry. The increase in the cycle number of TMA dose from 100 to 150 and 200 cycles had little effect on organic–inorganic hybridization of the 100 nm-thick UV-cured films. The thickness of the outermost Al-rich layer near the film surface was approximately 30 nm, which was unchanged when the film thicknesses of 100, 75, and 50 nm were changed. The outermost skin layer suppressed the infiltration of TMA into the UV-cured films. The infiltration of TMA into the UV-cured films progressed as the film thicknesses decreased.
Selective dry etching of UV-nanoimprinted resin passivation masks for area selective atomic layer deposition of aluminum oxide Peer-reviewed

Chiaki Miyajima, Shunya Ito, Masaru Nakagawa

Journal of Vacuum Science & Technology B　39　(5)　052804-1-052804-9　2021/09/15
Publisher: American Vacuum Society
DOI： 10.1116/6.0001250 　

ISSN： 2166-2746

eISSN： 2166-2754
Plastic deformation of synthetic quartz nanopillars by nanoindentation for multi-scale and multi-level security artefact metrics Peer-reviewed

Shunya Ito, Toshiyuki Omori, Masao Ando, Hiroyuki Yamazaki, Masaru Nakagawa

Scientific Reports　11　(1)　16550-(1-9)　2021/08/16
Publisher: Springer Science and Business Media LLC
DOI： 10.1038/s41598-021-95953-0 　

eISSN： 2045-2322

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<title>Abstract</title>Individual authentication using artefact metrics has received increasing attention, as greater importance has been placed on the security of individual information. These artefact metrics must satisfy the requirements of individuality, measurement stability, durability, and clone resistance, in addition to possessing unique physical features. In this study, we proposed that nanostructures of synthetic quartz (SQ) deposited on an SQ plate may provide sophisticated artefact metrics if morphological changes could be intentionally introduced into the SQ nanostructures at certain positions. We fabricated SQ nanopillars using a mass-production method (ultraviolet nanoimprint lithography) and investigated their mechanical deformation using nanoindentation with a spheroid diamond tip through a loading and unloading cycle. The SQ nanopillars with an aspect ratio of 1 (i.e., diameters <italic>D</italic> of 100 and 200 nm with corresponding heights <italic>H</italic> of 100 and 200 nm, respectively) could be plastically deformed without collapsing within a specified pillar-array format at programmed positions. The plastically deformed SQ nanopillar arrays demonstrated multi-scale (sub-millimetre, micrometre, and nanometre) and multi-level (shape, area, diameter, and height) individuality authentication and clone resistance. Because SQ is physically and chemically stable and durable, individuality authentication can be a highly reliable tool on Earth and in space.
Macromolecular chain structures of atactic poly(methyl methacrylate) visualized on hydrophilized graphene surfaces by atomic force microscopy Peer-reviewed

Shunya Ito, Yoko Seto, Jiro Kumaki, Masaru Nakagawa

Chemistry Letters　50　(7)　1403-1406　2021/07/05
Publisher: The Chemical Society of Japan
DOI： 10.1246/cl.210143 　

ISSN： 0366-7022

eISSN： 1348-0715
Single pulse development of chromium-deposited imprint micro/nano patterns of photo-cured crosslinked resin using a femtosecond pulsed laser Peer-reviewed

Yusuke Isawa, Takahiro Nakamura, Shunya Ito, Masaru Nakagawa

Japanese Journal of Applied Physics　60　(SC)　SCCJ02-(1-8)　2021/06/01
Publisher: IOP Publishing
DOI： 10.35848/1347-4065/abec61 　

ISSN： 0021-4922

eISSN： 1347-4065
Suppression of resist pattern collapse by crosslinker in ultraviolet nanoimprinting involving sequential infiltration synthesis with trimethylaluminum Peer-reviewed

Chiaki Miyajima, Shunya Ito, Masaru Nakagawa

Journal of Vacuum Science & Technology B　39　(3)　032603-(1-12)　2021/05/10
Publisher: American Vacuum Society
DOI： 10.1116/6.0001014 　

ISSN： 2166-2746

eISSN： 2166-2754
“Print-and-Imprint” Method : Novel Nanoimprint Technology Based on Laser-Drilled Screen Printing Peer-reviewed

Shunya ITO, Masaru NAKAGAWA

Vacuum and Surface Science　63　(11)　592-597　2020/11/10
Publisher: Surface Science Society Japan
DOI： 10.1380/vss.63.592 　

ISSN： 2433-5835

eISSN： 2433-5843
Ultimate Nano Molding and Transferring by Novel Nanoimprint Technique of Print-and-Imprint Method Peer-reviewed

Masaru Nakagawa

Journal of The Surface Finishing Society of Japan　71　(7)　468-471　2020/07/01
Publisher: The Surface Finishing Society of Japan
DOI： 10.4139/sfj.71.468 　

ISSN： 0915-1869

eISSN： 1884-3409
Depth profiles of aluminum component in sequential infiltration synthesis-treated electron beam resist films analyzed by time-of-flight secondary ion mass spectrometry Peer-reviewed

Shunya Ito, Yuki Ozaki, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

Japanese Journal of Applied Physics　59　SIIC03-1-SIIC03-6　2020/05/07

DOI： 10.35848/1347-4065/ab8a0a 　

ISSN： 0021-4922

eISSN： 1347-4065
Organic–Inorganic Hybrid Replica Molds with High Mechanical Strength for Step-and-Repeat Ultraviolet Nanoimprinting Peer-reviewed

Shunya Ito, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

Bulletin of the Chemical Society of Japan　93　(7)　862-869　2020/04/24

DOI： 10.1246/bcsj.20200093 　
Reproduction of additive-type fluorescence moiré fringes by image drawing software and study of accuracy of fluorescence imprint alignment Peer-reviewed

Masaru Nakagawa, Kazue Sutou, Toshiaki Hayakawa

Japanese Journal of Applied Physics　59　SIIJ11-1-SIIJ11-8　2020/03/16

DOI： 10.35848/1347-4065/ab7ae1 　

ISSN： 0021-4922

eISSN： 1347-4065
Fluorescence imprint alignment using additive-type inclination moiré fringes Peer-reviewed

Takuma Yoshida, Shunya Ito, Kento Ochiai, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

Japanese Journal of Applied Physics　59　SIIJ04-1-SIIJ04-7　2020/03/09

DOI： 10.35848/1347-4065/ab7415 　

ISSN： 0021-4922

eISSN： 1347-4065
Photoinduced reorientation in thin films of a nematic liquid crystalline polymer anchored to interfaces and enhancement using small liquid crystalline molecules Peer-reviewed

Shoichi Kubo, Mari Kumagai, Nobuhiro Kawatsuki, Masaru Nakagawa

Langmuir　35　(44)　14222-14229　2019/10

DOI： 10.1021/acs.langmuir.9b02673 　
Selection of a polymerizable functional group of an adhesive monolayer to suppress increases in monomer viscosity under confinement in silica nano-gaps Peer-reviewed

Shunya Ito, Motohiro Kasuya, Kazue Kurihara, Masaru Nakagawa

Chemistry Letters　48　(8)　943-946　2019/08
Publisher: The Chemical Society of Japan
DOI： 10.1246/cl.190273 　

ISSN： 0366-7022

eISSN： 1348-0715
Surface modification of polyimide laser-drilled screen-printing masks for low-viscosity liquids in print-and-imprint method Peer-reviewed

Takahiro Nakamura, Narumi Endo, Shunya Ito, Rikuto Kuroda, Masaru Nakagawa

Japanese Journal of Applied Physics　58　SDDJ06-1-SDDJ06-6　2019/05

DOI： 10.7567/1347-4065/ab138c 　
Sequential infiltration synthesis- and solvent annealing-induced morphological changes in positive-tone e-beam resist patterns evaluated by atomic force microscopy Peer-reviewed

Yuki Ozaki, Shunya Ito, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

Japanese Journal of Applied Physics　58　SDDJ04-1-SDDJ04-8　2019/05

DOI： 10.7567/1347-4065/ab0496 　
Visualization of organic/inorganic hybridization of UV-cured films with trimethylaluminum by scanning transmission electron microscopy and energy dispersive X-ray spectroscopy Peer-reviewed

Masaru Nakagawa, Takuya Uehara, Yuki Ozaki, Takahiro Nakamura, Shunya Ito

Journal of Vacuum Science and Technology B　36　(6)　06JF02-1-06JF02-7　2018/11

DOI： 10.1116/1.5047822 　
Selection of diacrylate monomers for sub-15 nm ultraviolet nanoimprinting by resonance shear measurement Peer-reviewed

Shunya Ito, Motohiro Kasuya, Kenji Kawasaki, Ryuta Washiya, Yuzuru Simazaki, Akihiro Miyauchi, Kazue Kurihara, Masaru Nakagawa

Langmuir　34　9366-9375　2018/07

DOI： 10.1021/acs.langmuir.8b01881 　
Development of UV-curable liquid for in-liquid fluorescence alignment in ultraviolet nanoimprint lithography Peer-reviewed

Kento Ochiai, Eri Kikuchi, Yota Ishito, Mari Kumagai, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

Japanese Journal of Applied Physics　57　(6)　06HG02-1-06HG02-5　2018/06/01
Publisher: Japan Society of Applied Physics
DOI： 10.7567/JJAP.57.06HG02 　

ISSN： 1347-4065 0021-4922
Elemental depth profiles and plasma etching rates of positive-tone electron beam resists after sequential infiltration synthesis of alumina Peer-reviewed

Yuki Ozaki, Shunya Ito, Nobuya Hiroshiba, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

Japanese Journal of Applied Physics　57　(6)　06HG01-1-06HG01-6　2018/06/01
Publisher: Japan Society of Applied Physics
DOI： 10.7567/JJAP.57.06HG01 　

ISSN： 1347-4065 0021-4922
Surface forces between hydrophilic silica surfaces in a moisture-sensitive oleophilic diacrylate monomer liquid Peer-reviewed

Shunya Ito, Motohiro Kasuya, Kazue Kurihara, Masaru Nakagawa

AIP Advances　8　(2)　25122-1-25122-8　2018/02/01
Publisher: American Institute of Physics Inc.
DOI： 10.1063/1.4991630 　

ISSN： 2158-3226
Development of UV-curable resins suitable for reverse-tone lithography for au metamaterials using a print-and-imprint method Peer-reviewed

Takuya Uehara, Shinya Sato, Shunya Ito, Haruna Yano, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

Bulletin of the Chemical Society of Japan　91　(2)　178-186　2018
Publisher: Chemical Society of Japan
DOI： 10.1246/bcsj.20170280 　

ISSN： 1348-0634 0009-2673
Principle and observation of fluorescence moire fringes for alignment in print and imprint methods Peer-reviewed

Eri Kikuchi, Yota Ishito, Shinya Matsubara, Takahiro Nakamura, Masayuki Abe, Masaru Nakagawa

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B　35　(6)　06G303　2017/11

DOI： 10.1116/1.4990844 　

ISSN： 1071-1023
Nanometer-Resolved Fluidity of an Oleophilic Monomer between Silica Surfaces Modified with Fluorinated Monolayers for Nanoimprinting Peer-reviewed

Shunya Ito, Motohiro Kasuya, Kazue Kurihara, Masaru Nakagawa

ACS APPLIED MATERIALS & INTERFACES　9　(7)　6591-6598　2017/02

DOI： 10.1021/acsami.6b15139 　

ISSN： 1944-8244
Condition Determination of Ultraviolet Light Exposure for High-throughput Nanoimprinting Peer-reviewed

Yota Ishito, Haruna Yano, Nobuya Hiroshiba, Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

CHEMISTRY LETTERS　45　(12)　1373-1375　2016/12

DOI： 10.1246/cl.160663 　

ISSN： 0366-7022

eISSN： 1348-0715
Size-Dependent Filling Behavior of UV-Curable Di(meth)acrylate Resins into Carbon-Coated Anodic Aluminum Oxide Pores of around 20 nm Peer-reviewed

Masaru Nakagawa, Akifumi Nakaya, Yasuto Hoshikawa, Shunya Ito, Nobuya Hiroshiba, Takashi Kyotani

ACS APPLIED MATERIALS & INTERFACES　8　(44)　30628-30634　2016/11

DOI： 10.1021/acsami.6b10561 　

ISSN： 1944-8244
Demolding in Ultraviolet Nanoimprinting Assisted by a Nanoscale Lubricating Fluid Layer of Condensed Alternative Chlorofluorocarbon Peer-reviewed

Masaru Nakagawa, Shu Kaneko, Shunya Ito

BULLETIN OF THE CHEMICAL SOCIETY OF JAPAN　89　(7)　786-793　2016/07

DOI： 10.1246/bcsj.20160107 　

ISSN： 0009-2673

eISSN： 1348-0634
Discharge of viscous UV-curable resin droplets by screen printing for UV nanoimprint lithography Peer-reviewed

Akira Tanabe, Takuya Uehara, Kazuro Nagase, Hiroaki Ikedo, Nobuya Hiroshiba, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　55　(6)　06GM01-1-06GM01-6　2016/06

DOI： 10.7567/JJAP.55.06GM01 　

ISSN： 0021-4922

eISSN： 1347-4065
Anisotropic Oxygen Reactive Ion Etching for Removing Residual Layers from 45 nm-width Imprint Patterns Peer-reviewed

Takuya Uehara, Shoichi Kubo, Nobuya Hiroshiba, Masaru Nakagawa

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY　29　(2)　201-208　2016

DOI： 10.2494/photopolymer.29.201 　

ISSN： 0914-9244
Selection of Di(meth)acrylate Monomers for Low Pollution of Fluorinated Mold Surfaces in Ultraviolet Nanoimprint Lithography Peer-reviewed

Masaru Nakagawa, Kei Kobayashi, Azusa N. Hattori, Shunya Ito, Nobuya Hiroshiba, Shoichi Kubo, Hidekazu Tanaka

LANGMUIR　31　(14)　4188-4195　2015/04

DOI： 10.1021/acs.langmuir.5b00325 　

ISSN： 0743-7463
Innovative UV nanoimprint lithography using a condensable alternative chlorofluorocarbon atmosphere Peer-reviewed

Shinji Matsui, Hiroshi Hiroshima, Yoshihiko Hirai, Masaru Nakagawa

MICROELECTRONIC ENGINEERING　133　134-155　2015/02

DOI： 10.1016/j.mee.2014.10.016 　

ISSN： 0167-9317

eISSN： 1873-5568
Investigation of Fluorinated (Meth)Acrylate Monomers and Macromonomers Suitable for a Hydroxy-Containing Acrylate Monomer in UV Nanoimprinting Peer-reviewed

Shunya Ito, Shu Kaneko, Cheol Min Yun, Kei Kobayashi, Masaru Nakagawa

LANGMUIR　30　(24)　7127-7133　2014/06

DOI： 10.1021/la501629n 　

ISSN： 0743-7463
Formation of 0.3-nm-high stepped polymer surface by thermal nanoimprinting Peer-reviewed

Geng Tan, Naoya Inoue, Tomoyuki Funabasama, Masahiro Mita, Norimichi Okuda, Junichi Mori, Koji Koyamas, Satoru Kaneko, Masaru Nakagawa, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

APPLIED PHYSICS EXPRESS　7　(5)　055202-1-055202-3　2014/05

DOI： 10.7567/APEX.7.055202 　

ISSN： 1882-0778

eISSN： 1882-0786
Split-ring resonators interacting with a magnetic field at visible frequencies Peer-reviewed

T. Tomioka, S. Kubo, M. Nakagawa, M. Hoga, T. Tanaka

APPLIED PHYSICS LETTERS　103　(7)　071104-1-071104-4　2013/08

DOI： 10.1063/1.4818666 　

ISSN： 0003-6951

eISSN： 1077-3118
Release layer-free acrylate resins with segregation auxiliary agents for ultraviolet nanoimprinting Peer-reviewed

Shunya Ito, Cheol Min Yun, Kei Kobayashi, Masaru Nakagawa

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B　30　(6)　06FB05-1-06FB05-7　2012/11

DOI： 10.1116/1.4758769 　

ISSN： 1071-1023
Photochemically Grafted Polystyrene Layer Assisting Selective Au Electrodeposition Peer-reviewed

Koichi Nagase, Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

LANGMUIR　28　(31)　11646-11653　2012/08

DOI： 10.1021/la301632y 　

ISSN： 0743-7463
A magnetically guided anti-cancer drug delivery system using porous FePt capsules Peer-reviewed

Teruaki Fuchigami, Ryo Kawamura, Yoshitaka Kitamoto, Masaru Nakagawa, Yoshihisa Namiki

BIOMATERIALS　33　(5)　1682-1687　2012/02

DOI： 10.1016/j.biomaterials.2011.11.016 　

ISSN： 0142-9612
Reactive-monolayer-assisted Thermal Nanoimprint Lithography Peer-reviewed

Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY　25　(2)　189-196　2012

DOI： 10.2494/photopolymer.25.189 　

ISSN： 0914-9244
Fluorescent UV-Curable Resists for UV Nanoimprint Lithography Peer-reviewed

Kei Kobayashi, Nobuji Sakai, Shinji Matsui, Masaru Nakagawa

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　49　(6)　06GL07-1-06GL07-6　2010

DOI： 10.1143/JJAP.49.06GL07 　

ISSN： 0021-4922
Photoreactive Chemisorbed Monolayer Suppressing Polymer Dewetting in Thermal Nanoimprint Lithography Peer-reviewed

Hirokazu Oda, Tomoyuki Ohtake, Toshiaki Takaoka, Masaru Nakagawa

LANGMUIR　25　(12)　6604-6606　2009/06

DOI： 10.1021/la900902f 　

ISSN： 0743-7463
Thermally reversible structural transformation involving a C-H center dot center dot center dot O hydrogen bond in a supramolecular crystal Peer-reviewed

Daisuke Ishii, Takeshi Yamada, Tomokazu Iyoda, Hirohisa Yoshida, Masaru Nakagawa

CHEMISTRY LETTERS　35　(12)　1394-1395　2006/12

DOI： 10.1246/cl.2006.1394 　

ISSN： 0366-7022

eISSN： 1348-0715
Photocontrol of zeta-potential of poly(styrene) microspheres prepared by soap-free emulsion copolymerization Peer-reviewed

Hiroaki Kishimoto, Masaru Watanabe, Tomokazu Iyoda, Katsutoshi Nagai, Masaru Nakagawa

CHEMISTRY LETTERS　35　(6)　598-599　2006/06

DOI： 10.1246/cl.2006.598 　

ISSN： 0366-7022

eISSN： 1348-0715
Pd-promoted Ni-P electroless deposition on a hydrogen-bonded molecular surface of a supramolecular fibrous template Peer-reviewed

D Ishii, T Nagashima, M Udatsu, RD Sun, Y Ishikawa, S Kawasaki, M Yamada, T Iyoda, M Nakagawa

CHEMISTRY OF MATERIALS　18　(8)　2152-2158　2006/04

DOI： 10.1021/cm052050e 　

ISSN： 0897-4756
Selective microsphere adsorption and metallization on photopatterned polycation single-layered adsorption films Invited Peer-reviewed

M Nakagawa

POLYMER JOURNAL　38　(6)　507-515　2006

DOI： 10.1295/polymj.PJ2005260 　

ISSN： 0032-3896
Tubular and twisted Ni-P fibers molded from morphology-tunable and recyclable organic templates of hydrogen-bonded supramolecular assemblages Peer-reviewed

M Nakagawa, D Ishii, K Aoki, T Seki, T Iyoda

ADVANCED MATERIALS　17　(2)　200-+　2005/01

DOI： 10.1002/adma.200400520 　

ISSN： 0935-9648

eISSN： 1521-4095
Selective Ni-P electroless plating on photopatterned cationic adsorption films influenced by alkyl chain lengths of polyelectrolyte adsorbates and additive surfactants Peer-reviewed

M Nakagawa, N Nawa, T Iyoda

LANGMUIR　20　(22)　9844-9851　2004/10

DOI： 10.1021/la048606e 　

ISSN： 0743-7463
Photo-orientation of mesoporous silica materials via transfer from an azobenzene-containing polymer monolayer Peer-reviewed

Y Kawashima, M Nakagawa, K Ichimura, T Seki

JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY　14　(3)　328-335　2004

DOI： 10.1039/b310296c 　

ISSN： 0959-9428

eISSN： 1364-5501
Photoinduced polar transition of substrate surfaces by photodegradable cationic adsorbate monolayers Peer-reviewed

M Nakagawa, N Nawa, T Seki, T Iyoda

LANGMUIR　19　(21)　8769-8776　2003/10

DOI： 10.1021/la0347758 　

ISSN： 0743-7463
Controlling packing structure of hydrophobic alkyl tails of monolayered films of ion-paired macrocyclic amphiphiles as studied by sum-frequency generation spectroscopy Peer-reviewed

Ken Onda, Masaru Nakagawa, Toshiaki Asakai, Reiko Watase, Akihide Wada, Kunihiro Ichimura, Chiaki Hirose

Journal of Physical Chemistry B　106　(15)　3855-3859　2002/04/18

DOI： 10.1021/jp013939v 　

ISSN： 1089-5647
Self-assembly of amphoteric azopyridine carboxylic acids: Organized structures and macroscopic organized morphology influenced by heat, pH change, and light Peer-reviewed

K Aoki, M Nakagawa, K Ichimura

JOURNAL OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY　122　(44)　10997-11004　2000/11

DOI： 10.1021/ja001790f 　

ISSN： 0002-7863
Light-driven motion of liquids on a photoresponsive surface Peer-reviewed

K Ichimura, SK Oh, M Nakagawa

SCIENCE　288　(5471)　1624-1626　2000/06

DOI： 10.1126/science.288.5471.1624 　

ISSN： 0036-8075
Photopatterning and visualization of adsorbed monolayers of bis(1-benzyl-4-pyridinio)ethylene moieties Peer-reviewed

M Nakagawa, SK Oh, K Ichimura

ADVANCED MATERIALS　12　(6)　403-+　2000/03

DOI： 10.1002/(SICI)1521-4095(200003)12:6<403::AID-ADMA403>3.0.CO;2-3 　

ISSN： 0935-9648
Preparation of monolayers of ion-paired macrocyclic amphiphiles to estimate a critical free space required for azobenzene photoisomerization Peer-reviewed

M Nakagawa, R Watase, K Ichimura

CHEMISTRY LETTERS　28　(11)　1209-1210　1999/11

DOI： 10.1246/cl.1999.1209 　

ISSN： 0366-7022

eISSN： 1348-0715
Self-assembled monolayers derived from calix[4]resorcinarenes exhibiting excellent desorption-resistance and their applicability to surface energy photocontrol Peer-reviewed

SK Oh, M Nakagawa, K Ichimura

CHEMISTRY LETTERS　28　(4)　349-350　1999/04

DOI： 10.1246/cl.1999.349 　

ISSN： 0366-7022

eISSN： 1348-0715
Self-assembling formation of a [2]catenane consisting of cyclobis (4,4″-azopyridinium-p-phenylene) and bis-p-phenylene-34-crown-10 Peer-reviewed

Masaru Nakagawa, Masahiro Rikukawa, Kohei Sanui, Naoya Ogata

Supramolecular Science　5　(1-2)　83-87　1998
Publisher: Elsevier Sci Ltd
DOI： 10.1016/S0968-5677(97)00072-2 　

ISSN： 0968-5677
Photochromic, electrochemical, and photoelectrochemical properties of novel azopyridinium derivatives Peer-reviewed

M Nakagawa, M Rikukawa, M Watanabe, K Sanui, N Ogata

BULLETIN OF THE CHEMICAL SOCIETY OF JAPAN　70　(4)　737-744　1997/04

DOI： 10.1246/bcsj.70.737 　

ISSN： 0009-2673

eISSN： 1348-0634
Self-organization and electrical properties of head-to-tail poly(3-hexylthiophene) in Langmuir-Blodgett films Peer-reviewed

M Rikukawa, M Nakagawa, Y Tabuchi, K Sanui, N Ogata

SYNTHETIC METALS　84　(1-3)　233-234　1997/01

DOI： 10.1016/S0379-6779(97)80728-X 　

ISSN： 0379-6779
Formation mechanism of periodic wrinkles around trimmed nanoimprint resist masks studied by surface analyses International-journal Peer-reviewed

Naoki Takano, Hiromasa Niinomi, Masaru Nakagawa

Japanese Journal of Applied Physics　64　(3)　03SP39-03SP39　2025/03/13
Publisher: IOP Publishing
DOI： 10.35848/1347-4065/adb854 　

ISSN： 0021-4922

eISSN： 1347-4065

More details Close

Abstract We performed surface analyses of UV-cured films of a bisphenol A-based dimethacrylate resin by X-ray photoelectron spectroscopy and time-of-flight secondary ion mass spectrometry to understand the formation mechanisms for different resist shapes of wrinkled and dome imprint masks via oxygen reactive ion etching (O₂ RIE) and UV/ozone exposure, respectively, in trimming to decrease the diameters of resist masks for ultraviolet nanoimprint lithography. O₂ RIE generated a carbon-rich and oxygen-poor layer near the film surface owing to preferential oxidation of aliphatic hydrocarbons by hydrogen abstraction. In contrast, UV/ozone exposure generated an oxygen-rich outermost layer on a carbon-rich and oxygen-poor layer. The formation of the outermost layer was attributed to the photooxidation and ozonization of the aromatic hydrocarbon rings, whereas the underlying layer arose from the hydrogen abstraction of aliphatic hydrocarbons by atomic oxygen. The formation of bilayers suggests that the O₂ RIE caused buckling instability and generated wrinkles around the resist masks.
Chiroptical response of an array of isotropic plasmonic particles having a chiral arrangement under coherent interaction Peer-reviewed

Tomoya Oshikiri, Yasutaka Matsuo, Hiromasa Niinomi, Masaru Nakagawa

Photochemical & Photobiological Sciences　24　(1)　13-21　2024/12/10
Publisher: Springer Science and Business Media LLC
DOI： 10.1007/s43630-024-00667-7 　

ISSN： 1474-905X

eISSN： 1474-9092

More details Close

Abstract The chirality and chiroptical response of materials have attracted significant attention for their potential to introduce the new science of light-matter interactions. We demonstrate that collective mode formation under modal coupling between localized surface plasmon resonances (LSPRs) with a chiral arrangement and Fabry–Pérot (FP) nanocavity modes can induce chiroptical responses. We fabricated a cluster of isotropic gold nanodisks with a chiral arrangement (gold nano-windmills, Au-NWs) on the FP nanocavities of TiO₂ and Au film. The differential absorption of the Au-NWs coupled with the FP nanocavities under left- and right-handed circularly polarized light irradiations in the far field was significantly enhanced compared with the differential absorption without the FP nanocavities. Far- and near-field analyses by numerical simulation revealed that the Au-NWs coupled with the FP nanocavities formed a collective mode in the near field, and the collective mode represented the chiroptical response in the far field. The light field with the large helicity, can be used in chiral light-matter interactions. The concept of collective mode formation using isotropic metal nanodisks coupled with FP nanocavities provides a platform for controlling complex light fields. Graphical abstract
Dependence of Homoimmiscible Water Dynamics on Overpressure at the Interface between Water and the Basal Plane of Single-Crystal Ice I_h International-journal Invited Peer-reviewed

Hiromasa Niinomi, Hiroki Nada, Tomoya Yamazaki, Tetsuya Hama, Akira Kouchi, Tomoya Oshikiri, Masaru Nakagawa, Yuki Kimura

The Journal of Physical Chemistry C　128　(37)　15649-15656　2024/09/09
Publisher: American Chemical Society (ACS)
DOI： 10.1021/acs.jpcc.4c04187 　

ISSN： 1932-7447

eISSN： 1932-7455
In-Situ Observation of DL-Alanine Crystallization from a Laser-Trapped Dense Liquid Droplet as a Heterogeneous Nucleation Site Peer-reviewed

Hiromasa Niinomi, Hiroshi Y Yoshikawa, Ryuzo Kawamura, Tomoya Yamazaki, Tomoya Oshikiri, Masaru Nakagawa

Chemistry Letters　53　(6)　2024/05/20
Publisher: Oxford University Press (OUP)
DOI： 10.1093/chemle/upae100 　

ISSN： 0366-7022

eISSN： 1348-0715

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Abstract Nucleation from an aqueous solution is an important step in crystallization which controls the physicochemical properties of crystalline materials. Although dense liquid droplets are considered as a precursor of a crystal in the two-step nucleation model, their actual role is unclear. Our in-situ microscopic observations of the crystallization of DL-alanine from a dense liquid droplet trapped by laser tweezers show that the liquid droplets play the role of a substrate facilitating heterogeneous nucleation rather than a precursor of a crystal.
Mie-Resonant Nanophotonic-Enhancement of Asymmetry in Sodium Chlorate Chiral Crystallization. International-journal Peer-reviewed

Hiromasa Niinomi, Kazuhiro Gotoh, Naoki Takano, Miho Tagawa, Iori Morita, Akiko Onuma, Hiroshi Y Yoshikawa, Ryuzo Kawamura, Tomoya Oshikiri, Masaru Nakagawa

The journal of physical chemistry letters　15　(6)　1564-1571　2024/02/05
Publisher: American Chemical Society (ACS)
DOI： 10.1021/acs.jpclett.3c03303 　

ISSN： 1948-7185

eISSN： 1948-7185

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Studies on chiral spectroscopy have recently demonstrated strong enhancement of chiral light-matter interaction in the chiral near-field of Mie resonance in high-refractive-index dielectric nanostructures by studies on chiral spectroscopy. This situation has motivated researchers to demonstrate effective chiral photosynthesis under a chiral near-field beyond circularly polarized light (CPL) as a chiral source. However, the effectivity of the chiral near-field of Mie resonance for chiral photosynthesis has not been clearly demonstrated. One major challenge is the experimental difficulty in evaluating enantiomeric excess of a trace amount of chiral products synthesized in the near-field. Here, by adopting sodium chlorate chiral crystallization as a phenomenon that includes both synthesis and the amplification of chiral products, we show that crystallization on a Mie-resonant silicon metasurface excited by CPL yields a statistically significant large crystal enantiomeric excess of ∼18%, which cannot be achieved merely by CPL. This result provides implications for efficient chiral photosynthesis in a chiral near-field.
Volume compensating materials after vapor phase infiltration: effect of different butyl isomers of polymer side-chains on high process temperature durability Peer-reviewed

Norikatsu Sasao, Shinobu Sugimura, Koji Asakawa, Tomoya Oshikiri, Masaru Nakagawa

Japanese Journal of Applied Physics　2024/02
Publisher: IOP Publishing
DOI： 10.35848/1347-4065/ad2977 　

ISSN： 0021-4922

eISSN： 1347-4065

More details Close

Abstract Vapor phase infiltration (VPI) is a facile process that adds metallic features to organic polymer patterns. Generally, volume expansion in typical polymers such as poly(methyl methacrylate) (PMMA) is observed after metal infiltration, which limits the application of this technique in nanofabrication processes. In this study, poly(sec-butyl methacrylate) P(sBuMA) and poly(iso-butyl methacrylate) P(iBuMA) with leaving groups were selected as alternatives for PMMA and poly(tert-butyl methacrylate) P(tBuMA), and their aluminum (Al) infiltration behaviors were investigated. Notably, Al species infiltrated into P(sBuMA) and P(iBuMA) at 200 °C, whereas no Al infiltration was observed at 100 °C. Volume shrinkage was observed for both polymers after infiltration. This shows that the volume change in the base material after metal infiltration can be minimized by combining a conventional volume-expanding polymer, such as PMMA, with volume-shrinking polymers with high process temperature durability.
Chiral Spinodal-like Ordering of Homoimmiscible Water at Interface between Water and Chiral Ice III Peer-reviewed

Hiromasa Niinomi, Tomoya Yamazaki, Hiroki Nada, Tetsuya Hama, Akira Kouchi, Tomoya Oshikiri, Masaru Nakagawa, Yuki Kimura

The Journal of Physical Chemistry Letters　15　(2)　659-664　2024/01/11
Publisher: American Chemical Society (ACS)
DOI： 10.1021/acs.jpclett.3c03006 　

ISSN： 1948-7185

eISSN： 1948-7185
Anisotropy in spinodal-like dynamics of unknown water at ice V–water interface Peer-reviewed

Hiromasa Niinomi, Tomoya Yamazaki, Hiroki Nada, Tetsuya Hama, Akira Kouchi, Tomoya Oshikiri, Masaru Nakagawa, Yuki Kimura

Scientific Reports　13　(1)　2023/10/11
Publisher: Springer Science and Business Media LLC
DOI： 10.1038/s41598-023-43295-4 　

eISSN： 2045-2322

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Abstract Experimentally demonstrating the existence of waters with local structures unlike that of common water is critical for understanding both the origin of the mysterious properties of water and liquid polymorphism in single component liquids. At the interfaces between water and ices I_h, III, and VI grown/melted under pressure, we previously discovered low- and high-density unknown waters, that are immiscible with the surrounding water. Here, we show, by in-situ optical microscopy, that an unknown water appears at the ice V–water interface via spinodal-like dynamics. The dewetting dynamics of the unknown water indicate that its characteristic velocity is ~ 90 m/s. The time evolution of the characteristic length of the spinodal-like undulation suggests that the dynamics may be described by a common model for spinodal decomposition of an immiscible liquid mixture. Spinodal-like dewetting dynamics of the unknown water transiently showed anisotropy, implying the property of a liquid crystal.
Porous nanosheet wrapping for live imaging of suspension cells International-journal Peer-reviewed

Hong Zhang, Takuto Aoki, Kanae Hatano, Kazuya Kabayama, Masaru Nakagawa, Koichi Fukase, Yosuke Okamura

Journal of Materials Chemistry B　6　(41)　6622-6628　2018/09

DOI： 10.1039/C8TB01943F 　

More details Close

In the field of cell imaging, it is still a practical challenge to obtain the high quality live imaging of suspension cells, mainly due to undesirable cell movement in the imaging field during observation. This study describes a porous nanosheet wrapping method to noninvasively immobilize suspension cells for their live imaging. Perforated nanopores are fabricated on a nanosheet to enable the addition of external chemicals to cells, ranging from small molecules to macromolecules. Through several case studies, such as the live imaging of membrane staining of liposomes, transferrin endocytosis of B cells, and activation of platelets, it is verified that the confined space made by the nanosheet could provide a hydrodynamically stable environment for suspension cells, even if an aqueous stimulus is added through the nanopores in a static or a flowing condition. With this method, the live imaging of the whole activation process on a specific suspension cell in the imaging field is achieved, which is not feasible with the existing cell immobilization methods. This study suggests that the method of porous nanosheet wrapping will facilitate the visualization of the dynamic functions of suspension cells.
Pulsed Laser Drilling of Engineering Plastic Films to Fabricate Through-Hole Membranes for Print-and-Imprint Method Peer-reviewed

Takahiro Nakamura, Kento Seki, Kazuro Nagase, Masaru Nakagawa

Transactions of the Materials Research Society of Japan　43　(5)　289-292　2018/08

DOI： 10.14723/tmrsj.43.289 　
High-Intensity Laser Irradiation Inducing Au Nanoparticles in Viscous Glycerin Peer-reviewed

Rikuto Kuroda, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

Transactions of the Materials Research Society of Japan(MRS-J)　43　(5)　283-287　2018/08

DOI： 10.14723/tmrsj.43.283 　
Gold microelectrodes fabricated by a print-and-imprint method using laser-drilled polyimide through-hole masks Peer-reviewed

Takahiro Nakamura, Kento Seki, Kazuro Nagase, Masaru Nakagawa

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B　35　(6)　06G301　2017/11

DOI： 10.1116/1.4991629 　

ISSN： 1071-1023
Silica imprint templates with concave patterns from single-digit nanometers fabricated by electron beam lithography involving argon ion beam milling Peer-reviewed

Shunya Ito, Eri Kikuchi, Masahiko Watanabe, Yoshinari Sugiyama, Yoshiaki Kanamori, Masaru Nakagawa

Japanese Journal of Applied Physics　56　(6)　06GL01　2017/06/01
Publisher: Japan Society of Applied Physics
DOI： 10.7567/JJAP.56.06GL01 　

ISSN： 1347-4065 0021-4922
Unimodal Nematic Liquid Crystalline Random Copolymers Designed for Accepting Chiral Dopants Peer-reviewed

Takumi Sodemura, Shoichi Kubo, Hiroki Higuchi, Hirotsugu Kikuchi, Masaru Nakagawa

BULLETIN OF THE CHEMICAL SOCIETY OF JAPAN　90　(2)　216-222　2017/02

DOI： 10.1246/bcsj.20160343 　

ISSN： 0009-2673

eISSN： 1348-0634
Viscosity range of UV-curable resins usable in print and imprint method for preparing sub-100-nm-wide resin patterns Peer-reviewed

Takuya Uehara, Akiko Onuma, Akira Tanabe, Kazuro Nagase, Hiroaki Ikedo, Nobuya Hiroshiba, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B　34　(6)　06K404-1-06K404-6　2016/11

DOI： 10.1116/1.4963374 　

ISSN： 1071-1023
Chlorine-based inductively coupled plasma etching of GaAs wafer using tripodal paraffinic triptycene as an etching resist mask Peer-reviewed

Akihiro Matsutani, Fumitaka Ishiwari, Yoshiaki Shoji, Takashi Kajitani, Takuya Uehara, Masaru Nakagawa, Takanori Fukushima

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　55　(6)　06GL01-1-06GL01-3　2016/06

DOI： 10.7567/JJAP.55.06GL01 　

ISSN： 0021-4922

eISSN： 1347-4065
Durability to oxygen reactive ion etching enhanced by addition of synthesized bis(trimethylsilyl)phenyl-containing (meth)acrylates in ultraviolet nanoimprint lithography Peer-reviewed

Shunya Ito, Hiroki Sato, Yuhei Tasaki, Kimihito Watanuki, Nobukatsu Nemoto, Masaru Nakagawa

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　55　(6)　06GM02-1-06GM02-7　2016/06

DOI： 10.7567/JJAP.55.06GM02 　

ISSN： 0021-4922

eISSN： 1347-4065
Monitoring Thermally Induced Cylindrical Microphase Separation of Polystyrene-block-poly(methyl methacrylate) by Atomic Force Microscopy Peer-reviewed

Nobuya Hiroshiba, Ryo Okubo, Azusa N. Hattori, Hidekazu Tanaka, Masaru Nakagawa

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY　29　(5)　659-665　2016

DOI： 10.2494/photopolymer.29.659 　

ISSN： 0914-9244
Reverse-tone ultraviolet nanoimprint lithography with fluorescent UV-curable resins Peer-reviewed

Takuya Uehara, Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　54　(6)　06FM02-1-06FM02-6　2015/06

DOI： 10.7567/JJAP.54.06FM02 　

ISSN： 0021-4922

eISSN： 1347-4065
Directed self-assembly of nematic liquid crystalline polymers on a rubbed polyimide alignment layer Peer-reviewed

Shoichi Kubo, Sho Kobayashi, Shingo Hadano, Motonori Komura, Tomokazu Iyoda, Masaru Nakagawa

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　53　(6)　06JC04-1-06JC04-5　2014/06

DOI： 10.7567/JJAP.53.06JC04 　

ISSN： 0021-4922

eISSN： 1347-4065
Surface-Assisted Unidirectional Orientation of ZnO Nanorods Hybridized with Nematic Liquid Crystals Peer-reviewed

Shoichi Kubo, Rei Taguchi, Shingo Hadano, Mamiko Narita, Osamu Watanabe, Tomokazu Iyoda, Masaru Nakagawa

ACS APPLIED MATERIALS & INTERFACES　6　(2)　811-818　2014/01

DOI： 10.1021/am404451z 　

ISSN： 1944-8244
Breakthrough Achievement In Nanoimprint Lithography Using PFP Condensable Gas Peer-reviewed

Shinji Matsui, Hiroshi Hiroshima, Yoshihiko Hirai, Masaru Nakagawa

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY　27　(1)　61-72　2014

DOI： 10.2494/photopolymer.27.61 　

ISSN： 0914-9244
Fabrication of Gold Split-ring Resonator Arrays by Surface-assisted Ultraviolet Nanoimprint Lithography Using Hydroxy-terminated Alkanethiol Monolayers Peer-reviewed

Takuya Uehara, Tatsuya Tomioka, Shoichi Kubo, Morihisa Hoga, Masaru Nakagawa

CHEMISTRY LETTERS　42　(12)　1475-1477　2013/12

DOI： 10.1246/cl.130720 　

ISSN： 0366-7022

eISSN： 1348-0715
Super-resolution fluorescence imaging of nanoimprinted polymer patterns by selective fluorophore adsorption combined with redox switching Peer-reviewed

Yu Yabiku, Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa, Martin Vacha, Satoshi Habuchi

AIP ADVANCES　3　(10)　102128-1-102128-7　2013/10

DOI： 10.1063/1.4827155 　

ISSN： 2158-3226
Liquid Crystallinity of Random Copolymers of Polymethacrylates Containing Biphenyl Moieties Synthesized by Atom Transfer Radical Polymerization Peer-reviewed

Rei Taguchi, Shoichi Kubo, Shingo Hadano, Tomokazu Iyoda, Masaru Nakagawa

MOLECULAR CRYSTALS AND LIQUID CRYSTALS　579　(1)　30-33　2013/09

DOI： 10.1080/15421406.2013.805049 　

ISSN： 1542-1406

eISSN： 1563-5287
Preparation of UV-cured organic-inorganic hybrid materials with low refractive index for multilayer film applications Peer-reviewed

Takuya Uehara, Masaru Nakagawa, Okihiro Sugihara

OPTICAL MATERIALS EXPRESS　3　(9)　1351-1357　2013/09

DOI： 10.1364/OME.3.001351 　

ISSN： 2159-3930
Gas permeability of patterned polydimethylsiloxane-grafted polyimide membranes fabricated by nanocasting method Peer-reviewed

Cheol Min Yun, Yu Nagase, Masaru Nakagawa

Molecular Crystals and Liquid Crystals　580　(1)　35-38　2013/09/01

DOI： 10.1080/15421406.2013.803910 　

ISSN： 1542-1406 1563-5287
Resolution Limits of Nanoimprinted Patterns by Fluorescence Microscopy Peer-reviewed

Shoichi Kubo, Tatsuya Tomioka, Masaru Nakagawa

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　52　(6)　06GJ01-1-06GJ01-6　2013/06

DOI： 10.7567/JJAP.52.06GJ01 　

ISSN： 0021-4922

eISSN： 1347-4065
Study of Demolding Characteristics in Step-and-Repeat Ultraviolet Nanoimprinting Peer-reviewed

Shuso Iyoshi, Makoto Okada, Tetsuya Katase, Katsuhiko Tone, Kei Kobayashi, Shu Kaneko, Yuichi Haruyama, Masaru Nakagawa, Hiroshi Hiroshima, Shinji Matsui

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　52　(6)　06GJ04-1-06GJ04-9　2013/06

DOI： 10.7567/JJAP.52.06GJ04 　

ISSN： 0021-4922

eISSN： 1347-4065
Innovative Nano imprint Lithography Using PFP Condensable Gas Invited Peer-reviewed

Hiroshi Hiroshima, Masaru Nakagawa, Yoshihiko Hirai, Shinji Matsui

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY　26　(1)　87-96　2013

DOI： 10.2494/photopolymer.26.87 　

ISSN： 0914-9244
Photochemical grafting reactions of a benzophenone-containing alkanethiol monolayer on au with deuterated polystyrene Peer-reviewed

Hirokazu Oda, Ken Onda, Masaru Nakagawa

Bulletin of the Chemical Society of Japan　86　(9)　1035-1040　2013

DOI： 10.1246/bcsj.20130137 　

ISSN： 0009-2673 1348-0634
Fabrication of Au nanorod and nanogap split-ring structures by reactive-monolayer-assisted thermal nanoimprint lithography involving electrodeposition Peer-reviewed

Tatsuya Tomioka, Shoichi Kubo, Koichi Nagase, Morihisa Hoga, Masaru Nakagawa

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B　30　(6)　06FB02-1-06FB02-7　2012/11

DOI： 10.1116/1.4755817 　

ISSN： 1071-1023
Investigation of nonreactive fluoroalkyl-containing surfactants for reducing release energy of ultraviolet-cured acrylate resins Peer-reviewed

Masaru Nakagawa, Ayako Endo, Yoshitaka Tsukidate

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B　30　(6)　06FB10-1-06FB10-5　2012/11

DOI： 10.1116/1.4766880 　

ISSN： 1071-1023
Gold Mesh Structures with Controlled Aperture Ratios Fabricated by Reactive-monolayer-assisted Thermal Nanoimprint Lithography Peer-reviewed

Shoichi Kubo, Koichi Nagase, Masaru Nakagawa

CHEMISTRY LETTERS　41　(10)　1291-1293　2012/10

DOI： 10.1246/cl.2012.1291 　

ISSN： 0366-7022

eISSN： 1348-0715
Surface Segregation of 1H,1H,9H-Hexadecafluorononyl Acrylate in Dimethacrylate Resin Films Cured by Exposure to Ultraviolet Light Peer-reviewed

Shunya Ito, Cheol Min Yun, Kei Kobayashi, Masaru Nakagawa

CHEMISTRY LETTERS　41　(10)　1294-1296　2012/10

DOI： 10.1246/cl.2012.1294 　

ISSN： 0366-7022

eISSN： 1348-0715
Gram-scale Synthesis of Zinc Oxide Nanorods in Basic Ethanol Solutions Peer-reviewed

Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

CHEMISTRY LETTERS　41　(10)　1137-1138　2012/10

DOI： 10.1246/cl.2012.1137 　

ISSN： 0366-7022

eISSN： 1348-0715
Silica/Ultraviolet-Cured Resin Nanocomposites for Replica Molds in Ultraviolet Nanoimprinting Peer-reviewed

Cheol Min Yun, Shimpei Kudo, Koichi Nagase, Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　51　(6)　06FJ04-1-06FJ04-7　2012/06

DOI： 10.1143/JJAP.51.06FJ04 　

ISSN： 0021-4922

eISSN： 1347-4065
Morphological Changes in Ultraviolet-Nanoimprinted Resin Patterns Caused by Ultraviolet-Curable Resins Absorbing Pentafluoropropane Peer-reviewed

Shu Kaneko, Kei Kobayashi, Yoshitaka Tsukidate, Hiroshi Hiroshima, Shinji Matsui, Masaru Nakagawa

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　51　(6)　06FJ05-1-06FJ05-6　2012/06

DOI： 10.1143/JJAP.51.06FJ05 　

ISSN： 0021-4922

eISSN： 1347-4065
Step and Repeat Ultraviolet Nanoimprinting under Pentafluoropropane Gas Ambient Peer-reviewed

Shuso Iyoshi, Makoto Okada, Tetsuya Katase, Katsuhiko Tone, Kei Kobayashi, Shu Kaneko, Yuichi Haruyama, Masaru Nakagawa, Hiroshi Hiroshima, Shinji Matsui

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　51　(6)　06FJ08-1-06FJ08-6　2012/06

DOI： 10.1143/JJAP.51.06FJ08 　

ISSN： 0021-4922

eISSN： 1347-4065
Monolayer Engineering in Nanoimprint Lithography

Nakagawa Masaru

Abstract of annual meeting of the Surface Science of Japan　32　273-273　2012
Publisher: The Surface Science Society of Japan
DOI： 10.14886/sssj2008.32.0_273 　
Fabrication of Left-Handed Metal Microcoil from Spiral Vessel of Vascular Plant Peer-reviewed

Kaori Kamata, Soichiro Suzuki, Masayuki Ohtsuka, Masaru Nakagawa, Tomokazu Iyoda, Atsushi Yamada

ADVANCED MATERIALS　23　(46)　5509-+　2011/12

DOI： 10.1002/adma.201103605 　

ISSN： 0935-9648
Nanomedicine for Cancer: Lipid-Based Nanostructures for Drug Delivery and Monitoring Peer-reviewed

Yoshihisa Namiki, Teruaki Fuchigami, Norio Tada, Ryo Kawamura, Satoshi Matsunuma, Yoshitaka Kitamoto, Masaru Nakagawa

ACCOUNTS OF CHEMICAL RESEARCH　44　(10)　1080-1093　2011/10

DOI： 10.1021/ar200011r 　

ISSN： 0001-4842

eISSN： 1520-4898
Fluorescent Microscopy Proving Resin Adhesion to a Fluorinated Mold Surface Suppressed by Pentafluoropropane in Step-and-Repeat Ultraviolet Nanoimprinting Peer-reviewed

Kei Kobayashi, Shoichi Kubo, Hiroshi Hiroshima, Shinji Matsui, Masaru Nakagawa

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　50　(6)　06GK02-1-06GK02-10　2011/06

DOI： 10.1143/JJAP.50.06GK02 　

ISSN： 0021-4922
Optically Transparent and Refractive Index-Tunable ZrO2/Photopolymer Composites Designed for Ultraviolet Nanoimprinting Peer-reviewed

Shimpei Kudo, Koichi Nagase, Shoichi Kubo, Okihiro Sugihara, Masaru Nakagawa

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　50　(6)　06GK12-1-06GK12-7　2011/06

DOI： 10.1143/JJAP.50.06GK12 　

ISSN： 0021-4922
Photoassisted Fusion Behavior of Decanethiol-Passivated Gold Nanoparticles by Vacuum Ultraviolet Light Exposure Peer-reviewed

Motohiro Tagaya, Masaru Nakagawa

INDUSTRIAL & ENGINEERING CHEMISTRY RESEARCH　50　(12)　7398-7402　2011/06

DOI： 10.1021/ie200089n 　

ISSN： 0888-5885
Resist Pattern Inspection Using Fluorescent Dye-Doped Polystyrene Thin Films in Reactive-Monolayer-Assisted Thermal Nanoimprint Lithography Peer-reviewed

Shoichi Kubo, Yuko Sato, Yoshihiko Hirai, Masaru Nakagawa

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　50　(6)　06GK10-1-06GK10-9　2011/06

DOI： 10.1143/JJAP.50.06GK10 　

ISSN： 0021-4922
Ferromagnetic FePt-Nanoparticles/Polycation Hybrid Capsules Designed for a Magnetically Guided Drug Delivery System Peer-reviewed

Teruaki Fuchigami, Ryo Kawamura, Yoshitaka Kitamoto, Masaru Nakagawa, Yoshihisa Namiki

LANGMUIR　27　(6)　2923-2928　2011/03

DOI： 10.1021/la1041019 　

ISSN： 0743-7463
Facile wide-scale defect detection of UV-nanoimprinted resist patterns by fluorescent microscopy Peer-reviewed

Kei Kobayashi, Shoichi Kubo, Shinji Matsui, Masaru Nakagawa

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B　28　(6)　C6M50-C6M56　2010/11

DOI： 10.1116/1.3507440 　

ISSN： 1071-1023
Enhanced Durability of Antisticking Layers by Recoating a Silica Surface with Fluorinated Alkylsilane Derivatives by Chemical Vapor Surface Modification Peer-reviewed

Akihiro Kohno, Nobuji Sakai, Shinji Matsui, Masaru Nakagawa

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　49　(6)　06GL12-1-06GL12-6　2010

DOI： 10.1143/JJAP.49.06GL12 　

ISSN： 0021-4922
Growth Behavior of an Adsorbed Monolayer from a Benzophenone-Containing Trimethoxysilane Derivative on a Fused Silica Surface for Nanoimprint Molds by Chemical Vapor Surface Modification Peer-reviewed

Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　49　(6)　06GL03-1-06GL03-5　2010

DOI： 10.1143/JJAP.49.06GL03 　

ISSN： 0021-4922
Resist Properties of Thin Poly(methyl methacrylate) and Polystyrene Films Patterned by Thermal Nanoimprint Lithography for Au Electrodeposition Peer-reviewed

Koichi Nagase, Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　49　(6)　06GL05-1-06GL05-5　2010

DOI： 10.1143/JJAP.49.06GL05 　

ISSN： 0021-4922
Semitransparent Conductive Thin Porous Au Films on a Thiol-containing Primer Layer formed from Au Nanoparticle Ink Peer-reviewed

Koichi Nagase, Masahiko Kawashima, Masaru Nakagawa

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY　23　(2)　265-268　2010

DOI： 10.2494/photopolymer.23.265 　

ISSN： 0914-9244
Formation of an Adsorbed Monolayer from Pentafluorophenyltriethoxysilane and its Antisticking Property to a UV-curable Resin studied by High-sensitive UV-visible Spectroscopy Peer-reviewed

Sosuke Korenaga, Kei Kobayashi, Akihiro Kohno, Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY　23　(1)　59-64　2010

DOI： 10.2494/photopolymer.23.59 　

ISSN： 0914-9244
Reactive-monolayer-assisted Thermal Nanoimprint Lithography with a Benzophenone-containing Trimethoxysilane Derivative for patterning Thin Chromium and Copper Films Peer-reviewed

Shoichi Kubo, Tomoyuki Ohtake, Eui-Chul Kang, Masaru Nakagawa

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY　23　(1)　83-86　2010

DOI： 10.2494/photopolymer.23.83 　

ISSN： 0914-9244
Thermal Nanoimprint of a Polystyrene and Poly(4-vinylpyridine) Double-Layer Thin Film and Visualization Determination of Its Internal Structure by Transmission Electron Microscopy Peer-reviewed

Masaru Nakagawa, Noriyoshi Kamata, Tomokazu Iyoda, Shinji Matsui

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS　48　(6)　06FH12　2009/06

DOI： 10.1143/JJAP.48.06FH12 　

ISSN： 0021-4922
ポリ（メタクリル酸メチル）へのベンゾフェノン誘導体の光グラフト反応 Peer-reviewed

大嶽知之, 高岡利明, 中川勝

高分子論文集　66　(3)　111-117　2009/03

DOI： 10.1295/koron.66.111 　
Dewetting Photocontrol of Poly(styrene) Thin Films by a Photocrosslinkable Monolayer in Thermal Nanoimprint Lithography Peer-reviewed

Hirokazu Oda, Tomoyuki Ohtake, Toshiaki Takaoka, Masaru Nakagawa

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY　22　(2)　195-199　2009

DOI： 10.2494/photopolymer.22.195 　

ISSN： 0914-9244
Optical Monitoring of a Poly(styrene) Residual Layer on a Photocrosslinkable Monolayer in Thermal Nanoimprint Lithography Peer-reviewed

Koichi Nagase, Tomoyuki Ohtake, Toshiaki Takaoka, Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY　22　(2)　201-204　2009

DOI： 10.2494/photopolymer.22.201 　

ISSN： 0914-9244
Photo-induced Graft Reactions of 4-Methoxybenzophenone with Thermoplastic Polymers Designed for Reactive-Monolayer-Assisted Thermal Nanoimprint Lithography Peer-reviewed

Tomoyuki Ohtake, Hirokazu Oda, Toshiaki Takaoka, Masaru Nakagawa

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY　22　(2)　205-211　2009

DOI： 10.2494/photopolymer.22.205 　

ISSN： 0914-9244
Magnetic property and crystallinity of a Ni-P hollow microfiber affected by immersion in a NaOH aqueous solution Peer-reviewed

Hirokazu Oda, Tomokazu Iyoda, Masaru Nakagawa

TRANSACTIONS OF THE MATERIALS RESEARCH SOCIETY OF JAPAN, VOL 33, NO 1　33　(1)　153-156　2008
Reversible photoswitching of ferromagnetic FePt nanoparticles at room temperature Peer-reviewed

Masayuki Suda, Masaru Nakagawa, Tomokazu Iyoda, Yasuaki Einaga

JOURNAL OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY　129　(17)　5538-5543　2007/05

DOI： 10.1021/ja0682374 　

ISSN： 0002-7863
Photochromism induced magnetization changes in Prussian Blue ultrathin films fabricated into the Langmuir-Blodgett films composed of an amphiphilic azobenzene and a deoxyribonucleic acid Peer-reviewed

Takashi Yamamoto, Yasushi Umemura, Masaru Nakagawa, Tomokazu Iyoda, Yasuaki Einaga

THIN SOLID FILMS　515　(13)　5476-5483　2007/05

DOI： 10.1016/j.tsf.2007.01.019 　

ISSN： 0040-6090
Thermal stability and magnetic property of Ni-Co-P hollow microfibers prepared by electroless plating Peer-reviewed

H. Oda, T. Shimazu, T. Iyoda, M. Nakagawa

Transactions of the Materials Research Society of Japan　32　429-502　2007
Thermally induced structural transformation in a hydrogen-bonded supramolecular single-crystal - DSC-FTIR studies Peer-reviewed

D. Ishii, T. Yamada, M. Nakagawa, T. Iyoda, H. Yoshida

JOURNAL OF THERMAL ANALYSIS AND CALORIMETRY　86　(3)　681-685　2006/12

DOI： 10.1007/s10973-006-7893-7 　

ISSN： 1388-6150
Photocontrolled magnetization of CdS-modified Prussian blue nanoparticles Peer-reviewed

Minori Taguchi, Ichizo Yagi, Masaru Nakagawa, Tomokazu Iyoda, Yasuaki Einaga

JOURNAL OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY　128　(33)　10978-10982　2006/08

DOI： 10.1021/ja063461e 　

ISSN： 0002-7863
Utilization of industrially available 2,3-dichloro-1,3-butadiene for direct synthesis of 2,3-diaryl-1,3-butadienes Peer-reviewed

T Yamamoto, T Yasuda, K Kobayashi, Yamaguchi, I, T Koizumi, D Ishii, M Nakagawa, Y Mashiko, N Shimizu

BULLETIN OF THE CHEMICAL SOCIETY OF JAPAN　79　(3)　498-500　2006/03

DOI： 10.1246/bcsj.79.498 　

ISSN： 0009-2673

eISSN： 1348-0634
Printing of Au nanoparticles by VUV-exposed patterned surfaces of a poly(dimethylsiloxane) film Peer-reviewed

Motohiro Tagaya, Motonori Komura, Tomokazu Iyoda, Masaru Nakagawa

Transactions of the Materials Research Society of Japan, Vol 31, No 2　31　(2)　273-276　2006
Formation process of silver-polypyrrole coaxial nanocables synthesized by redox reaction between AgNO3 and pyrrole in the presence of poly(vinylpyrrolidone) Peer-reviewed

AH Chen, K Kamata, M Nakagawa, T Iyoda, HQ Wang, XY Li

JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY B　109　(39)　18283-18288　2005/10

DOI： 10.1021/jp053247x 　

ISSN： 1520-6106
DSC studies on thermally induced structural transformation of hydrogen-bonded amphoteric molecular assemblage Peer-reviewed

D Ishii, T Yamada, M Nakagawa, T Iyoda, H Yoshida

JOURNAL OF THERMAL ANALYSIS AND CALORIMETRY　81　(3)　569-573　2005/08

DOI： 10.1007/s10973-005-0825-0 　

ISSN： 1388-6150
Aggregation control and photochemical behaviors in UV-sensitive organosilane monolayers bearing naphthlymethylsulfonyl groups Peer-reviewed

M. Tagaya, M. Nakagawa, T. Iyoda

Transactions of the Materials Research Society of Japan　30　(1)　163-166　2005
Thickness control of polycationic single-layer adsorption films by mix proportion of poor solvent to good solvent Peer-reviewed

Y. Suzuki, M. Komura, M. Nakagawa, T. Iyoda

Transactions of the Materials Research Society of Japan　30　(3)　695-698　2005
Morphology control of hollow Ni-P microfibers Peer-reviewed

Mitsuru Udatsu, Daisuke Ishii, Masaru Nakagawa, Tomokazu Iyoda, Taichi Nagashima, Mitsuaki Yamada

Transactions of the Materials Research Society of Japan, Vol 30, No 4　30　(4)　1219-1222　2005
Spectroscopic study of thermally induced changes of molecular alignment in hydrogen-bonded fibrous molecular assemblages Peer-reviewed

D. Ishii, T. Yamada, M. Nakagawa, H. Yoshida, T. Iyoda

Transactions of the Materials Research Society of Japan　30　(2)　357-360　2005
Photopattern shapes of a photodegradable polyelectrolyte monolayer affected by an ionic strength of aqueous developer solutions Peer-reviewed

N. Nawa, M. Nakagawa, T. Seki, T. Iyoda

Transactions of the Materials Research Society of Japan　29　(3)　881-884　2004
Morphology control of fibrous molecular self-assemblages formed from an azopyridine carboxylic acid Peer-reviewed

D. Ishii, M. Udatsu, M. Nakagawa, T. Iyoda

Transactions of the Materials Research Society of Japan　29　(3)　889-892　2004
Fabrication of Ni tubes using amphoteric azopyridine carboxylic acids Peer-reviewed

D Ishii, M Nakagawa, K Aoki, T Seki, T Iyoda

NONTRADITIONAL APPROACHES TO PATTERNING　EXS-2　97-99　2004
Relationship of Zeta potential to molecular structure of multivalent cationic adsorbates on silica and PET substrates Peer-reviewed

N. Nawa, M. Nakagawa, T. Seki, T. Iyoda

Transactions of the Materials Research Society of Japan　28　(3)　573-576　2003
Preparation of copper tubes with a submicron pore Peer-reviewed

D. Ishii, M. Nakagawa, T. Seki, T. Iyoda

Transactions of the Materials Research Society of Japan　28　(3)　577-580　2003
多価カチオン性分子から形成される静電吸着単分子膜のネガ型とポジ型光パターン形成法 Peer-reviewed

中川勝, 名輪希

高分子論文集　60　(10)　531-538　2003

DOI： 10.1295/koron.60.531 　

ISSN： 0386-2186 1881-5685
Self-assembly of amphoteric azopyridine carboxylic acids II: Aspect ratio control of anisotropic self-assembled fibers by tuning the pi-pi stacking interaction Peer-reviewed

K Aoki, M Nakagawa, T Seki, K Ichimura

BULLETIN OF THE CHEMICAL SOCIETY OF JAPAN　75　(11)　2533-2539　2002/11

DOI： 10.1246/bcsj.75.2533 　

ISSN： 0009-2673

eISSN： 1348-0634
Photocontrol of liquid motion on an azobenzene monolayer Peer-reviewed

SK Oh, M Nakagawa, K Ichimura

JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY　12　(8)　2262-2269　2002/08

DOI： 10.1039/b110825p 　

ISSN： 0959-9428
Photo-orientation of mesostructured silica via hierarchical multiple transfer Peer-reviewed

Y Kawashima, M Nakagawa, T Seki, K Ichimura

CHEMISTRY OF MATERIALS　14　(7)　2842-+　2002/07

DOI： 10.1021/cm025515z 　

ISSN： 0897-4756
Photopatterning of self-assembled monolayers to generate aniline moieties Peer-reviewed

M Nakagawa, K Ichimura

COLLOIDS AND SURFACES A-PHYSICOCHEMICAL AND ENGINEERING ASPECTS　204　(1-3)　1-7　2002/05

DOI： 10.1016/S0927-7757(01)01002-0 　

ISSN： 0927-7757

eISSN： 1873-4359
Solvent effect on morphology of self-assembled fibrous materials derived from an azopyridine carboxylic acid Peer-reviewed

K Aoki, M Nakagawa, T Seki, K Ichimura

CHEMISTRY LETTERS　31　(3)　378-379　2002/03

DOI： 10.1246/cl.2002.378 　

ISSN： 0366-7022

eISSN： 1348-0715
Holographic Bragg gratings in a photoresponsive cross-linked polymer-liquid-crystal composite Peer-reviewed

N Yoshimoto, S Morino, M Nakagawa, K Ichimura

OPTICS LETTERS　27　(3)　182-184　2002/02

DOI： 10.1364/OL.27.000182 　

ISSN： 0146-9592
Preparation of hollow nickel microtubes by electroless plating Peer-reviewed

D. Ishii, K. Aoki, M. Nakagawa, T. Seki

Transactions of the Materials Research Society of Japan　27　(3)　517-520　2002
Photo-orientation of a mesostructured surfactant/silica hybrid by an azobenzene monolayer Peer-reviewed

Y. Kawashima, M. Nakagawa, T. Seki, K. Ichimura

Transactions of the Materials Research Society of Japan　27　(3)　509-512　2002
Periodic change in the deposition behavior with increase in the spacer length of azobenzene-containing urea amphiphiles Peer-reviewed

T. Kobayashi, M. Nakagawa, T. Seki

Transactions of the Materials Research Society of Japan　27　(3)　513-516　2002
Polarized photoluminescence from photopatterned discotic liquid crystal films Peer-reviewed

S Furumi, D Janietz, M Kidowaki, M Nakagawa, S Morino, J Stumpe, K Ichimura

CHEMISTRY OF MATERIALS　13　(5)　1434-+　2001/05

DOI： 10.1021/cm000919h 　

ISSN： 0897-4756
Photochemical behavior and the ability to control liquid crystal alignment of polymethacrylates with styrylpyridine side chains Peer-reviewed

S Yamaki, M Nakagawa, S Morino, K Ichimura

MACROMOLECULAR CHEMISTRY AND PHYSICS　202　(2)　325-334　2001/02

DOI： 10.1002/1521-3935(20010101)202:2<325::AID-MACP325>3.0.CO;2-L 　

ISSN： 1022-1352

eISSN： 1521-3935
Effect of methylene spacers in poly(methacrylate)s bearing styrylpyridine side chains on the ability to control liquid crystal alignment Peer-reviewed

S Yamaki, M Nakagawa, S Morino, K Ichimura

MACROMOLECULAR CHEMISTRY AND PHYSICS　202　(2)　354-361　2001/02

DOI： 10.1002/1521-3935(20010101)202:2<354::AID-MACP354>3.0.CO;2-D 　

ISSN： 1022-1352

eISSN： 1521-3935
Chiroptical properties of cholesteric liquid crystals induced by chiral photochromic 3,3 '-dialkoxyazobenzenes Peer-reviewed

C Ruslim, M Nakagawa, S Morino, K Ichimura

MOLECULAR CRYSTALS AND LIQUID CRYSTALS　365　(1)　1011-+　2001

DOI： 10.1080/10587250108025281 　

ISSN： 1542-1406
Surface-assisted orientational control of discotic liquid crystals by light Peer-reviewed

S Furumi, D Janietz, M Kidowaki, M Nakagawa, SY Morino, J Stumpe, K Ichimura

MOLECULAR CRYSTALS AND LIQUID CRYSTALS　368　(1)　4285-4292　2001

DOI： 10.1080/10587250108029983 　

ISSN： 1058-725X
Relationship between the ability to control liquid crystal alignment and wetting properties of calix[4]resorcinarene monolayers Peer-reviewed

SK Oh, M Nakagawa, K Ichimura

JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY　11　(6)　1563-1569　2001

DOI： 10.1039/b007739i 　

ISSN： 0959-9428
Photochromism of 4-cyanophenylazobenzene in liquid crystalline-coil AB diblock copolymers: The influence of microstructure Peer-reviewed

Keiichi Moriya, Takahiro Seki, Masaru Nakagawa, Guoping Mao, Christopher K. Ober

Macromolecular Rapid Communications　21　(18)　1309-1312　2000/12/29
Publisher: Wiley-VCH Verlag
DOI： 10.1002/1521-3927(20001201)21:18<1309::AID-MARC1309>3.0.CO;2-1 　

ISSN： 1022-1336
Photoregulation of liquid crystal alignment by a composite polymer film containing retinoic acid Peer-reviewed

Seiichi Furumi, Masaru Nakagawa, Shinya Morino, Kunihiro Ichimura

Polymers for Advanced Technologies　11　(8-12)　427-433　2000/08
Publisher: John Wiley & Sons Ltd
DOI： 10.1002/1099-1581(200008/12)11:8/12<427::AID-PAT988>3.0.CO;2-6 　

ISSN： 1042-7147
Photocontrolled orientation of a discotic liquid crystal Peer-reviewed

Kunihiro Ichimura, Seiichi Furumi, Shin'ya Morino, Masatoshi Kidowaki, Masaru Nakagawa, Masataka Ogawa, Yosuke Nishiura

Advanced Materials　12　(13)　950-953　2000/06

DOI： 10.1002/1521-4095(200006)12:13<950::AID-ADMA950>3.0.CO;2-V 　

ISSN： 0935-9648
Surface relief gratings generated by a photocrosslinkable polymer with styrylpyridine side chains Peer-reviewed

S Yamaki, M Nakagawa, S Morino, K Ichimura

APPLIED PHYSICS LETTERS　76　(18)　2520-2522　2000/05

DOI： 10.1063/1.126395 　

ISSN： 0003-6951
Photoinduced alignment control of discotic liquid crystals

Furumi Seiichi, Janietz Dietmar, Stumpe Joachim, Kidowaki Masatoshi, Nakagawa Masaru, Morino Shin'ya, Ichimura Kunihiro

Proceedings of Japanese Liquid Crystal Society Annual meeting　2000　493-494　2000
Publisher: THE JAPANESE LIQUID CRYSTAL SOCIETY
DOI： 10.11538/ekitou.2000.0_493 　

ISSN： 1880-3490

More details Close

Discotic liquid crystals possess versatile applicabilities for electronics and photonics over calamitic ones so that increasing efforts have been made on developing disk-shaped molecules, aiming at the elucidation of the structure-function relationship. We report herein a novel approach to discotic liquid crystal alignment, which was accomplished by using a thin film of a polymer bearing azobenzene side chains. A polymer film irradiated obliquely with nonpolarized light gave rise to the orientational control of discotic liquid crystals as a result of three-dimensionally photoaligned azobenzene side chains.
Photocontrol of nematic liquid crystal alignment by adsorbed monolayers of an azobenzene-containing tetracationic macrocycle Peer-reviewed

Masaru Nakagawa, Kunihiro Ichimura

Molecular Crystals and Liquid Crystals Science and Technology. Section A　345　(1)　275-280　2000

DOI： 10.1080/10587250008023931 　
Light-guided movement of a liquid droplet Peer-reviewed

SK Oh, M Nakagawa, K Ichimura

MOLECULAR CRYSTALS AND LIQUID CRYSTALS　345　(1)　635-640　2000

DOI： 10.1080/10587250008023937 　

ISSN： 1058-725X
Photogeneration of pretilt angles of nematic liquid crystals by azobenzene-containing monolayers on poly(acrylic acid) films Peer-reviewed

S Furumi, M Nakagawa, S Morino, K Ichimura

JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY　10　(4)　833-837　2000

DOI： 10.1039/a908727c 　

ISSN： 0959-9428
Spatially controlled photoisomerizability of azobenzene moieties in Langmuir-Blodgett monolayers of ion-paired macrocyclic amphiphiles Peer-reviewed

M Nakagawa, R Watase, K Ichimura

MOLECULAR CRYSTALS AND LIQUID CRYSTALS　344　(1)　113-118　2000

DOI： 10.1080/10587250008023823 　

ISSN： 1058-725X
Characteristics of monolayers of calix[4]resorcinarenes derivatives having azobenzene chromophores Peer-reviewed

K Ichimura, M Fujimaki, Y Matsuzawa, Y Hayashi, M Nakagawa

MATERIALS SCIENCE & ENGINEERING C-BIOMIMETIC AND SUPRAMOLECULAR SYSTEMS　8-9　353-359　1999/12

DOI： 10.1016/S0928-4931(99)00010-7 　

ISSN： 0928-4931
Fibrous self-organization of an azopyridine carboxylic acid through head-to-tail hydrogen bonds Peer-reviewed

K Aoki, M Nakagawa, K Ichimura

CHEMISTRY LETTERS　28　(11)　1205-1206　1999/11

DOI： 10.1246/cl.1999.1205 　

ISSN： 0366-7022

eISSN： 1348-0715
Convenient preparation of self-assembled monolayers derived from calix[4]resorcinarene derivatives exhibiting resistance to desorption Peer-reviewed

K Ichimura, SK Oh, M Fujimaki, Y Matsuzawa, M Nakagawa

JOURNAL OF INCLUSION PHENOMENA AND MACROCYCLIC CHEMISTRY　35　(1-2)　173-183　1999/10

DOI： 10.1023/A:1008126427392 　

ISSN： 1388-3127

eISSN： 1573-1111
Photogeneration of high pretilt angles of nematic liquid crystals by azobenzene-containing polymer films Peer-reviewed

Seiichi Furumi, Masaru Nakagawa, Shin'ya Morino, Kunihiro Ichimura, Hidehiko Ogasawara

Applied Physics Letters　74　(17)　2438-2440　1999/04/26
Publisher: American Institute of Physics Inc.
DOI： 10.1063/1.123873 　

ISSN： 0003-6951
Photochemical generation of high pretilt angles of nematic liquid crystals by azobenzene-containing polymer thin films

Furumi Seiichi, Nakagawa Masaru, Morino Shin'ya, Ichimura Kunihiro

Proceedings of Japanese Liquid Crystal Society Annual meeting　1999　486-487　1999
Publisher: Japanese Liquid Crystal Society
DOI： 10.11538/ekitou.1999.0_486 　

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A vertically aligned (VA) type of nematic liquid crystal (LC) cells were explored using photoirradiated thin films of a polymethacrytate with 4-trifluoromethoxyazobenzene as side chains. Optical anisotropy was generated by slantwise irradiation of thin films of the polymer with non-polarized UV light, followed by annealing to enhance the photodichroism, which displayed thermal stability. The photoirradiated films brought about high pretilt angles of LC so that a VA type LC cells were successfully fabricated. The cell exhibited electro-optical properties with excellent optical quality on applying voltages even after heating at 100℃ for several hours.
Orientational photocontrol of dye molecules by thin films of a polymethacrylate with 2-styrylpyridine side chains

YAMAKI Shigeru, NAKAGAWA Masaru, MORINO Shin'ya, ICHIMURA Kunihiro

Proceedings of Japanese Liquid Crystal Society Annual meeting　1999　484-485　1999
Publisher: Japanese Liquid Crystal Society
DOI： 10.11538/ekitou.1999.0_484 　

More details Close

The orientational photocontrol of anisotropic (lye molecules by a dchroic thin film of a polymethacrylatc with styrylpyridine side chains is described. Photoreaction of styrylpyridine groups in thin films upon exposure to 313 nm light involved two reaclious of E-to-Z photoisomerization and (2+2) photodimerization. Thin films of the photoactive pollymethacrylates showed the photoinduced dichroism upon linearly polarized light at 313 nm. The orientation of dye molecules was perpendicular to the direction of the electric vector of polarizedlight. The dependence of methylene spacer length between the styrylpyridine group and the polymer backbone on the orientational order parameter of the oriented dye molecules was significantly observed.
Photochemistry of polyrnethacrylates with styrylpyridine side chains and their photocontrollability of liquid crystal alignment Peer-reviewed

Shigeru Yamaki, Masaru Nakagawa, Shin'ya Morino, Kunihiro Ichimura

Journal of Photopolymer Science and Technology　12　(2)　279-282　1999
Publisher: Tokai University
DOI： 10.2494/photopolymer.12.279 　

ISSN： 0914-9244
Effect of substituants of azobenzenes side chains tethered to polymethacrylates on three-dimensional photocontrol of nematic liquid crystals Peer-reviewed

Seiichi Furumi, Tursun Huxur, Masaru Nakagawa, Shin'ya Morino, Kunihiro Ichimura

Journal of Photopolymer Science and Technology　12　(2)　283-284　1999
Publisher: Tokai University
DOI： 10.2494/photopolymer.12.283 　

ISSN： 0914-9244
Thermal stability of photoalignment of nematic liquid crystals by azobenzene polymer thin films Peer-reviewed

Masatoshi Kidowaki, Takenori Fujiwara, Masaru Nakagawa, Shin'ya Morino, Kunihiro Ichimura

Journal of Photopolymer Science and Technology　12　(2)　285-288　1999
Publisher: Tokai University
DOI： 10.2494/photopolymer.12.285 　

ISSN： 0914-9244
Polymethacrylates with 3,3'- and 4,4'-Dihexyloxy Azobenzene Moieties in Side-Chains : Photoinduced Dichroism and Liquid Crystal Photoalignment

RUSLIM Christian, NAKAGAWA Masaru, MORINO Shin'ya, ICHIMURA Kunihiro

Proceedings of Japanese Liquid Crystal Society Annual meeting　1998　140-141　1998
Publisher: Japanese Liquid Crystal Society
DOI： 10.11538/ekitou.1998.0_140 　

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Poly(methyl methacrylate) copolymers with 3,3'- or 4,4'-dihexyloxy azobenzene moiety were prepared through radical polymerization. Photoisomefization behavior and photoinduced dichroism of these copolymer films upon linearly polarized light irradiation were studied to reveal the effect of different conformational changes upon E/Z isomerization. The large photoinduced dichroism was observed for the polymer with 4,4'-substituents. Generation of the dichroism affords a photoalignment regulation of nematic liquid crystals in spite of as low as 7.0 % of the chromophore content. The direction of the dichroism is related to the direction of photocontrolled alignment of nematic liquid crystals. The conformational change of the chromophore during isomerization is assumed to be a crucial factor affecting molecular alignment.
Photocontrol of liquid crystal alignment by poly(methacrylate)s with styrylpyridine side chains

YAMAKI Shigeru, NAKAGAWA Masaru, MORINO Shin'ya, ICHIMURA Kunihiro

Proceedings of Japanese Liquid Crystal Society Annual meeting　1998　142-143　1998
Publisher: Japanese Liquid Crystal Society
DOI： 10.11538/ekitou.1998.0_142 　

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Photoreactions and liquid crystal photocontrollability of thin films of styrylpyridine-substituted methacrylate polymers are described. Photoreactions of styrylpyridine groups in thin films upon irradiation with 313 nm light involved two processes of trans-cis photoisomerization and (2+2) photodimerization. Thin films of poly(methacrylate)s with styrylpyridine side chains showed photoinduced dichroism upon polarized light irradiation as a result of axial-selective photochemical reactions. Liquid crystal cells fabricated with plates covered with films of styrylpyridine polymers displayed homeotropic alignment with high optical quality. Slantwise irradiation with polarized UV light changed the initial homeotropic alignment to tilted alignment with the angle of approximately 85°.
Electrochemical and sensing properties of enzyme-polypyrrole multicomponent electrode Peer-reviewed

M. Rikukawa, M. Nakagawa, N. Nishizawa, K. Sanui, N. Ogata

Synthetic Metals　85　(1月3日)　1377-1378　1997/03

DOI： 10.1016/S0379-6779(97)80280-9 　

ISSN： 0379-6779
Charge transfer interactions of cyclobis(azopyridinium-phenylene) and hydroquinone derivatives Peer-reviewed

M Nakagawa, M Rikukawa, K Sanui, N Ogata

SYNTHETIC METALS　86　(1-3)　1873-1874　1997/02

DOI： 10.1016/S0379-6779(97)80946-0 　

ISSN： 0379-6779
Synthesis, electrochemical, and electrical properties of (phthalocyaninato)iron complexes with azopyridines Peer-reviewed

M Nakagawa, M Rikukawa, K Sanui, N Ogata

SYNTHETIC METALS　84　(1-3)　391-392　1997/01

DOI： 10.1016/S0379-6779(97)80797-7 　

ISSN： 0379-6779
Electrical properties of iodine-doped materials comprised of (phthalocyaninato)iron and azopyridines Peer-reviewed

M Nakagawa, M Rikukawa, K Sanui, N Ogata

SYNTHETIC METALS　84　(1-3)　421-422　1997/01

DOI： 10.1016/S0379-6779(97)80812-0 　

ISSN： 0379-6779
Electrical properties of conductive Langmuir-Blodgett films comprised of head-to-tail poly(3-hexylthiophene) Peer-reviewed

M Rikukawa, M Nakagawa, K Ishida, H Abe, K Sanui, N Ogata

THIN SOLID FILMS　284　(15)　636-639　1996/09

DOI： 10.1016/S0040-6090(95)08409-6 　

ISSN： 0040-6090
High conducting Langmuir-Blodgett films comprising head-to-tail poly(3-hexylthiophene) Peer-reviewed

M Rikukawa, M Nakagawa, H Abe, K Ishida, K Sanui, N Ogata

THIN SOLID FILMS　273　(1-2)　240-244　1996/02

DOI： 10.1016/0040-6090(95)06775-2 　

ISSN： 0040-6090
Synthesis and charge transfer interactions of cyclobis(4,4′-azopyridinium-p-phenylene) Peer-reviewed

Masaru Nakagawa, Masahiro Rikukawa, Kohei Sanui, Naoya Ogata

Supramolecular Science　3　(4)　215-220　1996
Publisher: Elsevier Science Ltd
DOI： 10.1016/S0968-5677(96)00047-8 　

ISSN： 0968-5677
BISAXIALLY COORDINATED (PHTHALOCYANINATO) METAL-COMPOUNDS WITH AZOBISPYRIDINE Peer-reviewed

M RIKUKAWA, D MATUZAKI, M NAKAGAWA, K SANUI, N OGATA

SYNTHETIC METALS　71　(1-3)　2279-2280　1995/04

DOI： 10.1016/0379-6779(94)03257-7 　

ISSN： 0379-6779
ELECTROCHEMICAL AND PHOTOCHROMIC PROPERTIES OF AZOPYRIDINIUM METHYLSULFATES Peer-reviewed

M NAKAGAWA, M RIKUKAWA, M WATANABE, K SANUI, N OGATA

CHEMISTRY LETTERS　23　(10)　1785-1788　1994/10

DOI： 10.1246/cl.1994.1785 　

ISSN： 0366-7022

eISSN： 1348-0715

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Misc. 62

ナノレオロジーと誘電分光スペクトルの温度依存性に基づくナノ閉じ込め液体の力学物性の解明

伊藤伸太郎, 中川勝, 福澤健二

2023年度物質・デバイス領域共同研究拠点ダイナミックアライアンス研究成果報告書　2024/03/08
金属・誘電体ハイブリッドナノ構造を用いた光学キラリティ増強空間デザイン

新家寛正, 篠海智, 稲川亮太, 高野修綺, 長谷川友子, 大沼晶子, 中川勝

2024年度物質・デバイス領域共同研究拠点ダイナミックアライアンス研究成果報告書　2024/03/08
メタオプティクスを志向した型成形・材料 Peer-reviewed

Masaru Nakagawa

72巻　(4月号)　138-140　2023/04
ナノレオロジー計測と誘電分光法によるナノ閉じ込め液体の力学物性の解明

伊藤伸太郎, 中川勝, 福澤健二

物質・デバイス領域共同研究拠点ダイナミックアライアンス研究成果報告書　2023/03/31
2020~2021年度東北大学多元物質科学研究所マテリアル・計測ハイブリッド研究センター光機能材料化学研究分野業績集

中川勝, 押切友也, 新家寛正

2022/03
ナノ触診原子間力顕微鏡によるナノインプリント用光硬化薄膜のナノ力学物性

梁暁斌, 中川勝

2022/02
レーザー加工印刷を新機軸としたナノインプリント技術 Micro-print and Nano-imprint法 Peer-reviewed

中川勝

クリーンテクノロジー　(10)　66-72　2022/01
ナノインプリントにおける離型処理技術 Peer-reviewed

中川勝

月刊トライボロジー　(1)　25-29　2022/01
Fabrication of Nanostructures by Nanoimprint Lithography Invited Peer-reviewed

Shunya ITO, Masaru NAKAGAWA

66　(10)　744-749　2021/10/15
リソグラフィ応用を目指した光ナノインプリント技術

中川勝

第69回高分子討論会　1W14IL　2020/09/16
蛍光インプリントアライメント法における基板とモールドの位置合わせ

中川勝

物質・デバイス領域共同研究拠点ダイナミックアライアンス研究成果報告書　F-18-TU-005　2020/06/30
「光機能材料化学研究分野」研究活動報告

中川勝, 中村貴宏, 伊東駿也

東北大学多元物質科学研究所高分子・ハイブリッド材料研究センター 2019年度報告書　39-45　2020/03/01
Trial produce of micro/nano-patterns to screening in initial evaluation of cell functions for biomedical applications

赤坂司, 伊東駿也, 中川勝, 宮内昭浩

生体医歯工学共同研究拠点成果報告会　2019　2020
シングルナノ造形に向けた研究動向（第16章3節） Invited

伊東駿也, 中川勝

ナノインプリント技術ハンドブック（編集応用物理学会・ナノインプリント技術研究会）　622-624　2019/11
可視光メタマテリアルに向けたナノインプリント技術（第12章7節） Invited

中川勝

ナノインプリント技術ハンドブック（編集応用物理学会・ナノインプリント技術研究会）　450-453　2019/11
離型力評価装置（第11章4節1項） Invited

伊東駿也, 中川勝

ナノインプリント技術ハンドブック（編集応用物理学会・ナノインプリント技術研究会）　410-412　2019/11
X線反射率測定（第11章3節8項） Invited

中村貴宏, 中川勝

ナノインプリント技術ハンドブック（編集応用物理学会・ナノインプリント技術研究会）　406-408　2019/11
反射分光膜厚計（第11章3節7項） Invited

中村貴宏, 中川勝

ナノインプリント技術ハンドブック（編集応用物理学会・ナノインプリント技術研究会）　406-406　2019/11
光硬化樹脂のはく離に生じる力の測定（第11章3節6項） Invited

伊東駿也, 中川勝

ナノインプリント技術ハンドブック（編集応用物理学会・ナノインプリント技術研究会）　404-406　2019/11
蛍光顕微鏡による光ナノインプリント連続成形の評価（第11章3節5項） Invited

中川勝

ナノインプリント技術ハンドブック（編集応用物理学会・ナノインプリント技術研究会）　402-404　2019/11
モールドへの離型剤塗布（第10章6節） Invited

伊東駿也, 中川勝

ナノインプリント技術ハンドブック（編集応用物理学会・ナノインプリント技術研究会）　371-373　2019/11
蛍光モアレアライメント（第8章1節2項） Invited

中村貴宏, 中川勝

ナノインプリント技術ハンドブック（編集応用物理学会・ナノインプリント技術研究会）　280-281　2019/11
UVナノインプリント用離型剤（第7章3節2項） Invited

伊東駿也, 中川勝

ナノインプリント技術ハンドブック（編集応用物理学会・ナノインプリント技術研究会）　257-261　2019/11
蛍光レジスト（第7章2節2項） Invited

中川勝

ナノインプリント技術ハンドブック（編集応用物理学会・ナノインプリント技術研究会）　228-229　2019/11
易凝縮性ガスPFPに適した光硬化性組成物（第7章2節1項） Invited

伊東駿也, 中川勝

ナノインプリント技術ハンドブック（編集応用物理学会・ナノインプリント技術研究会）　226-228　2019/11
レーザー加工孔版印刷によるナノインプリントリソグラフィ（第6章7節） Invited

中村貴宏, 中川勝

ナノインプリント技術ハンドブック（編集応用物理学会・ナノインプリント技術研究会）　169-170　2019/11
ナノインプリント技術から見えてきた高分子薄膜の表面・界面の近傍 Invited

中川勝

KOBUNSHI HIGH POLYMERS, JAPAN　68　(1)　24-28　2019/01
ナノインプリントリソグラフィの現状と今後の課題 Invited Peer-reviewed

中川勝

応用物理　85　(6)　480-484　2016/06
Publisher: 応用物理学会
ISSN： 0369-8009
誘導ナノ構造科学 Invited

竹中幹人, 中川勝

機能材料　34　(3)　3-3　2014/03

ISSN： 0286-4835
易凝縮性ガス利用光ナノインプリントに適した光硬化性組成物の開発 Invited

伊東駿也, 中川勝

OPTRONICS　33　(1)　90-95　2014/01
Publisher: オプトロニクス社
ISSN： 0286-9659
光硬化性蛍光組成物によるナノインプリントプロセスの可視化 Invited

久保祥一, 中川勝

OPTRONICS　33　(1)　85-89　2014/01
Publisher: オプトロニクス社
ISSN： 0286-9659
反応性密着単分子膜を特徴とするナノインプリントリソグラフィ

久保祥一, 中川勝

表面(表面談話会・コロイド懇話会)　51　(8)　386-395　2013/08/01

ISSN： 0367-648X
反応性密着単分子膜を特徴とするナノインプリントリソグラフィ Invited

久保祥一, 中川勝

表面　51　(8)　6-15　2013/08
Scientific News: 液晶配向膜で半導体無機ナノロッドの方向制御 Invited

久保祥一, 田口怜, 林田研一, 成田麻美子, 波多野慎悟, 渡辺修, 彌田智一, 中川勝

KOBUNSHI HIGH POLYMERS, JAPAN　62　(8)　460-460　2013/08
【研究室紹介】東北大学多元物質科学研究所高分子・ハイブリッド材料研究センター Invited

中川勝

フォトポリマー懇話会ニュースレター　61　2-5　2013/01/16
ナノロッド/ネマチック液晶ハイブリッド材料の創成とZnOナノロッドの一軸配向

久保祥一, 田口怜, 林田研一, 成田麻美子, 波多野慎悟, 渡辺修, 彌田智一, 中川勝

高分子学会予稿集(CD-ROM)　62　(1)　2013
ナノロッド/ネマチック液晶ハイブリッド材料による半導体ナノロッドの一軸配向

久保祥一, 田口怜, 林田研一, 成田麻美子, 波多野慎悟, 渡辺修, 彌田智一, 中川勝

高分子学会予稿集(CD-ROM)　62　(2)　2013
ネマチック液晶性ブロック共重合体のATRP法による合成とミクロ相分離構造の解析

小林翔, 田口怜, 久保祥一, 波多野慎悟, 小村元憲, 彌田智一, 中川勝

高分子学会予稿集(CD-ROM)　62　(1)　2013
Recent Development of Demolding Technology in Nanoimprint Lithography Invited Peer-reviewed

Masaru Nakagawa

KOBUNSHI HIGH POLYMERS, JAPAN　61　(9)　706-709　2012/09
Publisher: 高分子学会
ISSN： 0454-1138
Magnetically-Guided Drug Delivery System using Magnetic Capsules composed of Nanometer-thick Shell

KITAMOTO Yoshitaka, FUCHIGAMI Teruaki, NAKAGAWA Masaru, NAMIKI Yoshihisa

2012　(70)　27-31　2012/08/07
次世代エレクトロニクスデバイスの創出に資する革新材料・プロセス研究 Invited

中川勝

CREST領域ニュース　11　(1)　2012/08
特集の語り：エレクトロニクスの新時代を想像してみませんか？

中川勝

KOBUNSHI HIGH POLYMERS, JAPAN　61　(3)　131-131　2012/03
ビフェニル部位を有するポリ(メタクリレート)のATRP法による合成および液晶性評価

田口怜, 久保祥一, 波多野慎悟, 彌田智一, 中川勝

高分子学会予稿集(CD-ROM)　61　(1)　2012
ビフェニル部位を側鎖とする高分子を表面グラフトした酸化亜鉛ナノロッドの合成

久保祥一, 田口怜, 林田研一, 成田麻美子, 波多野慎悟, 渡辺修, 彌田智一, 中川勝

高分子学会予稿集(CD-ROM)　61　(1)　2012
光ナノインプリント用離型剤（第8章第2節） Invited

小林敬, 中川勝

ナノインプリントの開発とデバイス応用（監修松井真二）　123-129　2011/10
ナノインプリントパターン評価（第10章第1節） Invited

久保祥一, 中川勝

ナノインプリントの開発とデバイス応用（監修松井真二）　151-155　2011/10
ナノインプリントリソグラフィにおける光機能材料化学 Invited

中川勝, 久保祥一

MATERIALS INTEGRATION　24　(4月5日)　248-253　2011/06
光ナノインプリントリソグラフィ用蛍光レジスト Invited

小林敬, 中川勝

Monthly DISPLAY　17　(6)　17-18　2011/05
Fluorescent Resist Materials for Nanoimprint Lithography

NAKAGAWA Masaru

60　(3)　139-140　2011/03/01

ISSN： 0454-1138
ポリ(シアノビフェニルオキシアルキルメタクリレート)のATRP法による合成と相転移挙動

久保祥一, 波多野慎悟, 彌田智一, 中川勝

高分子学会予稿集(CD-ROM)　60　(1 Disk1)　2011
ATRPにより合成したポリ(シアノビフェニルオキシアルキルメタクリレート)の溶液内構造形成と液晶性の検討

久保祥一, 波多野慎悟, 彌田智一, 中川勝

高分子学会予稿集(CD-ROM)　60　(2 Disk1)　2011
Detachment properties of fluorinated hydrocarbon containing adsorbed monolayers on a radical-type UV-cured resin

KOHNO Akihiro, NAKAGAWA Masaru

IEICE technical report　110　(243)　21-25　2010/10/15
Publisher: The Institute of Electronics, Information and Communication Engineers
ISSN： 0913-5685

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Adsorbed monolayers from (3,3,3-trifluoropropyl)trimethoxysilane(FAS3), (tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl)trimethoxysilane(FAS13), and (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyl)trimethoxysilane(FAS17), were formed by chemical vapor surface modification on silica lens surfaces cleaned by exposure to vacuum ultraviolet (VUV) light at 172nm. Changes in monolayer-modified lens surfaces concomitant with repeating a cycle of curing to induce the radical polymerization of a UV-curable resin and detaching the UV-cured resin were monitored by contact angle measurement with water and atomic force microscopy to investigate the property of the adsorbed monolayers as antisticking layers in UV nanoimprint lithography. A decrease of the contact angle for water with increasing the number of repeated cycles was mainly responsible for the removal of surface impurities in the form of nanoparticles on detaching the cured resin repeatedly. It was found that recoating the silica lens surface with monolayers from FAS13 and FAS17 after cleaning by VUV-light exposure resulted in the suppression of the decrease in the contact angle. These results indicate that the durability of an antisticking layer in UV nanoimprint lithography is markedly improved by the recoating. We measured adhesion forces generating when UV-cured resin was detached from surface-modified silica superstrates. We report dependences of the kind of fluoroalkyl-containing antisticking molecular layers on the adhesion forces and changes of the adhesion forces by increasing the number of detachment. We propose the antisticking molecular layer suitable for UV nanoimprint lithography.
Reactive-monolayer-assisted thermal nanoimprint lithography

中川勝

機能材料　29　(10)　71-75　2009/09/05
植物組織から左巻き金属マイクロコイルを作製−維管束「らせん紋」テンプレート Invited

鎌田香織, 大塚雅之, 中川勝, 彌田智一

未来材料　8　(8)　2-4　2008/08/10
Publisher: エヌ・ティー・エス
ISSN： 1346-0986
CdSを修飾したプルシアンブルー微粒子の光物性制御

田口実, 八木一三, 中川勝, 彌田智一, 名嘉節, 阿尻雅文, 栄長泰明

光化学討論会講演要旨集　2007　2007
CdSを修飾したプルシアンブルー微粒子の光磁性制御

田口実, 八木一三, 中川勝, 彌田智一, 栄長泰明

光化学討論会講演要旨集　2006　2006
磁性ニッケルナノチューブの開発−リサイクル可能な分子集合体を鋳型に利用− Invited

中川勝, 石井大佑, 長嶋太一

化学と工業　58　(4)　494-496　2005
光反応性有機分子層を用いた微粒子の選択吸着 Invited

中川勝

高分子加工　52　(2)　50-56　2003
Publisher: 高分子刊行会
ISSN： 0023-2564
Photoreactive monomolecular layers to achieve site-selective adsorption

NAKAGAWA Masaru

51　(1)　65-67　2002/05/10
環状両親媒性分子からなる単分子膜とその特性 Invited

松澤洋子, Oh, Sang-Keun, 中川勝, 市村國宏

機能材料　20　(9)　28-37　2000
Publisher: シ-エムシ-
ISSN： 0286-4835
単分子膜のナノ・マイクロパターン作製技術とその応用 Invited

中川勝, 市村國宏

機能材料　19　(9)　15-24　1999
Publisher: シ-エムシ-
ISSN： 0286-4835
Photocontrol of LC alignment by disphenyl acetylene moieties at the LC-substrate interface

Obi Masaki, Nakagawa Masaru, Morino Shin'ya, Ichimura Kunihiro

Preprints of Symposium on Liquid Crystals　23　254-255　1997/09/24
Publisher: Japanese Liquid Crystal Society

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The photocontrol of LC alignment was achieved using the surface-modificated LC cell with photoreactive molecules, called as command surface. In the photocontrol mechanism, a reorientation process with continuous isomerization of the photoactive molecule was proposed to be essential. To investigate effects of geometrical photoisomerization for LC alignment, we used diphenylacetylene (DPA) as a photoactive molecule with no photoisomerization. Our previous study shows that the re-orientation of chromophores at the LC-substrate interface play a crucial role in the photocontrol of LC alignment. In this study, 11-(4-(2-phenylethynyl)phenoxy) undecanoic acid (11DPA) was used as DPA moities and formed selfassembled complexes with poly-allylamine (PAA) on a substrate. The uni-directional LC alignment was observed on the LC cell using a substrate with DPA desity of 1nm^2/molecule. However. no photoalignment was obsered in the case of a substrate with high DPA density (0.4nm^2/molecule). Polarized absorption spectra of dichroic dye in the LC cell revealed that the direction of LC alignment was perpendicular to the LPL electricvector. In DPA substituted polymethacrylate films exhibited the parallel LC alignment to it. The reason for these differences of LC alignment direction was considered as a difference in photochemical reactions of DPA moieties.

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Books and Other Publications 21

アンモニアの低温・低圧合成と新しい利用技術 : 燃焼・混焼技術、水素キャリア

押切友也, 中川勝, 三澤弘明

技術情報協会　2023/05/31

ISBN: 9784861049538
高分子材料の事典

高分子学会, 中條, 善樹, 大山, 俊幸, 古賀, 毅, 佐藤, 尚弘, 原口, 和敏, 和田, 健彦, 青島, 貞人

朝倉書店　2022/11

ISBN: 9784254252729
メタマテリアルの設計、作製と新材料、デバイス開発への応用

技術情報協会

技術情報協会　2022/03

ISBN: 9784861048760
ナノインプリント技術ハンドブック（編集応用物理学会・ナノインプリント技術研究会）

伊東駿也, 中村貴宏, 中川勝

オーム社　2019/11
光機能性有機・高分子材料における新たな息吹

中川勝

シーエムシー出版　2019/04

ISBN: 9784781314143
プリンテッド・エレクトロニクスに向けた材料、プロセス技術の開発と最新事例

中村貴宏, 中川勝

情報技術協会　2017/10

ISBN: 9784861046810
半導体微細パターニング〜限界を超えるポスト光リソグラフィ技術〜（監修岡崎信次）

中川勝

エヌ・ティー・エス　2017/04

ISBN: 9784860434670
ナノインプリント技術（松井真二, 平井義彦編著）

中川勝

電子情報通信学会　2014/03

ISBN: 9784885522857
高分子ナノテクノロジーハンドブック（編集代表西敏夫）

久保祥一, 中川勝

エヌ・ティー・エス　2014/03

ISBN: 9784860434106
ナノインプリントの開発とデバイス応用（監修松井真二）

小林敬, 久保祥一, 中川勝

シーエムシー出版　2011/10

ISBN: 9784781304564
Inorganic and metallic nanotubular materials: Recent technologies and applications (Ed. Tsuyoshi Kijima)

Masaru Nakagawa, Hirokazu Oda, Kei Kobayashi

Springer　2010/03

ISBN: 9783642036200
超分子サイエンス＆テクノロジー（監修国武豊喜）

中川勝

エヌ・ティ・エス　2009/05/15

ISBN: 9784860433093
有機・無機・金属ナノチューブ（編集清水敏美, 木島剛）

中川勝

フロンティア出版　2008/03

ISBN: 9784902410143
光機能性高分子材料の新たな潮流

中川勝, 松井真二

シーエムシー　2008/03

ISBN: 9784781300122
エコマテリアルハンドブック（監修山本良一）

中川勝

丸善　2006/12/06

ISBN: 4621077449
機能物質の集積膜と応用展開（監修関隆広）

中川勝

シーエムシー　2006/06

ISBN: 9784882315704
シランカップリング剤の選び方と使い方（監修中村吉伸, 永田員也）

多賀谷基博, 中川勝

Science&Technology　2006

ISBN: 9784864280037
環状・筒状超分子新素材の応用技術（監修高田十志和）

中川勝

シーエムシー　2006/01

ISBN: 9784882315476
第5版実験化学講座第28巻ナノテクノロジーの化学（編集日本化学会）

中川勝

丸善　2005/07

ISBN: 9784621073278
光機能性有機・高分子材料の新局面（監修市村國宏）

中川勝

シーエムシー　2002/10/01

ISBN: 9784882313632
新しい半導体プロセスと材料（監修大見忠弘）

中川勝

シーエムシー　2000/05

ISBN: 9784882318668

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Presentations 664

キラルMie空孔共鳴体のキラル光学応答

新家寛正, 後藤和泰, 高野修綺, 田川美穂, 長谷川友子, 押切友也, 中川勝

2025年第72回応用物理学会春季学術講演会　2025/03/14
レーザー描画・現像を利用した椀状ナノ構造配列体の作製

山川好汰, 押切友也, 森田伊織, 東島大介, 長谷川友子, 湖海結菜, 新家寛正, 中川勝

2025年第72回応用物理学会春季学術講演会　2025/03/15
電場と磁場が共創する超螺旋近接場でのキラル結晶化

新家寛正, 押切友也, 中川勝

学術変革領域研究(A)キラル光物質科学領域会議　2025/03/03
High-time-resolution Measurement of Viscoelastic Changes During Curing of Nano-thickness Photo-curable Liquid Thin Films

2025/03/04
ナノフォトニクスに向けたマスクレス紫外線レーザー描画による画像形成

東島大介, 森田伊織, 長谷川友子, 中川勝

第24回東北大学多元物質科学研究所研究発表会　2024/12/12
光ナノインプリント技術の基本プロセスとメタオプティクス・メタサイトへの応用 Invited

中川勝

第52回ポリマー光部品(POC)研究会　2024/12/09
光ナノインプリントリソグラフィを基軸としたメタサイト物理化学 Invited

新家寛正, 押切友也, 中川勝

Optics & Photonics Japan 2024　2024/11/30
キラル結晶化に偏りを誘起するMie共鳴キラル近接場におけるキラル光学力解析

新家寛正, 後藤和泰, 高野修綺, 田川美穂, 森田伊織, 大沼晶子, 吉川洋史, 川村隆三, 押切友也, 中川勝

第53回結晶成長国内会議（JCCG-53）　2024/11/20
キラルな氷III/水界面における同素不混和水のスピノーダル様キラル秩序

新家寛正, 山崎智也, 灘浩樹, 羽馬哲也, 香内晃, 押切友也, 中川勝, 木村勇気

第53回結晶成長国内会議（JCCG-53）　2024/11/19
Investigation of Deesterfication Reaction Paths of Alkyl Methacrylates with Lewis Acids International-presentation

Norikatsu Sasao, Koji Asakawa, Tomoya Oshikiri, Masaru Nakagawa

37th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2024)　2024/11/13
Dependence of imprint atmosphere on advancement of UV-curable liquid confined at nanogaps between mold and substrate surfaces International-presentation

Masaru Nakagawa, Akiko Onuma, Ryo Nawata, Shintaro Itoh, Kenji Fukuzawa

37th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2024)　2024/11/15
プッシュコート法による酸化物ナノ結晶薄膜の作製

川瀬智暉, 押切友也, 笘居高明, 新家寛正, 中川勝

2024年度高分子学会東北支部研究発表会　2024/11/08
一桁ナノ造形に向けた孤立印刷配置されたサブピコリットル光硬化性液滴の押印延展の検討(4)光ナノインプリント成形体の蛍光強度に影響を及ぼす因子

稲川亮太, 大沼晶子, 新家寛正, 押切友也, 中川勝

2024年度高分子学会東北支部研究発表会　2024/11/08
キラル結晶化に偏りを誘起する Mie 共鳴メタ表面においてキラル結晶クラスターに働く鏡像体選択的光学力

新家寛正, 押切友也, 中川勝

学術変革領域研究(A)キラル光物質科学領域会議　2024/10/03
Chiral liquid crystalline water implied by dynamics of homoimmiscible water at the interface between water and chiral ice III

Hiromasa Niinomi, Tomoya Yamazaki, Hiroki Nada, Tetsuya Hama, Akira Kouchi, Tomoya Oshikiri, Masaru Nakagawa, Yuki Kimura

73rd Symposium on Macromolecules　2024/09/27
微細加工向け逐次金属浸透合成(SIS)における体積膨張抑制のための側鎖切断型ポリマーと量子化学計算による反応機構解明

笹尾典克, 浅川鋼児, 押切友也, 中川勝

第73回高分子討論会　2024/09/26
X-ray photoelectron spectroscopic analysis of a surface damage layer on imprint resists induced by oxygen plasma to understand the formation mechanism of the fluted filter-like structure

Naoki Takano, Hiromasa Niinomi, Masaru Nakagawa

2024/09/26
Chiral optical force and chirality enhancement under Kerker condition in the Mie-resonant metasurface which induces chiral asymmetry in crystallization

Hiromasa Niinomi, Kazuhiro Gotoh, Naoki Takano, Miho Tagawa, Iori Morita, Akiko Onuma, Hiroshi Y. Yoshikawa, Ryuzo Kawamura, Tomoya Oshikiri, Masaru Nakagawa

2024/09/17
ナノ隙間における光硬化性液体の濡れ速度に対する固体表面材料の影響

山本寛太, 伊藤伸太郎, 福澤健二, 中川勝, 縄田亮, 東直輝, 張賀東

日本機械学会 2024年度年次大会　2024/09/10
キラル配列を有するプラズモニックアレイの薄膜共振器との相互作用

押切友也, 新家寛正, 中川勝

2024年光化学討論会　2024/09/03
Crystal enantiomeric excess in chiral crystallization on a Mie-resonant dielectric metasurface International-presentation

Hiromasa Niinomi, Kazuhiro Gotoh, Naoki Takano, Miho Tagawa, Iori Morita, Akiko Onuma, Hiroshi Y. Yoshikawa, Ryuzo Kawamura, Tomoya Oshikiri, Masaru Nakagawa

34th international symposium on chirality (Chirality 2024), Kyoto　2024/08/28
"Chiral spinodal-like ordering of homoimmiscible water at the chiral ice III/water interface " International-presentation

Hiromasa Niinomi, Tomoya Yamazaki, Hiroki Nada, Tetsuya Hama, Akira Kouchi, Tomoya Oshikiri, Masaru Nakagawa, Yuki Kimura

34th international symposium on chirality　2024/08/28
ナノすきまにおけるメタクリレートモノマーからなる光硬化性液体のアクリレート系密着単分子層による延展促進 Invited

稲川亮太, 大沼晶子, 新家寛正, 押切友也, 中川勝

次世代リソグラフィ（NGL）ワークショップ　2024/07/04
UV-NILによりエッジ粗さを調節したシリコンナノディスク配列体の光機能 Invited

高野修綺, 新家寛正, 中川勝

次世代リソグラフィ（NGL）ワークショップ　2024/07/04
Suppressive factors of liquid advancement at mold-substrate nano-gaps in UV nanoimprinting International-presentation

Masaru Nakagawa, Ryota Inagawa, Takeru Yoshida, Akiko Onuma, Hiromasa Niinomi, Tomoya Oshikiri, Ryo Nawata, Shintaro Itoh, Kenji Fukuzawa

NNT 2024 & NIL Industrial Day　2024/06/25
"Wetting properties of photocurable liquid films in high-aspect nanogaps measured using a nanochannel device" International-presentation

Shintaro Itoh, Masato Suzuki, Kanta Yamamoto, Kenji Fukuzawa, Masaru Nakagawa, Ryo Nawata, Naoki Azuma, Hedong Zhang

NNT 2024 & NIL Industrial Day　2024/06/25
Viscosity measurement of UV curable resist confined in nanometer gaps using vertical-objective-type ellipsometric microscopy International-presentation

Kenji Fukzuawa, Tatsuki Makihira, Yuxi Song, Shintaro Itoh, Naoki Azuma, Heodng Zhang, Masaru Nakagawa, Ryo Nawata

NNT 2024 & NIL Industrial Day　2024/06/27
ポリジメチルシロキサン平板モールドを用いた酸化ニッケルナノ結晶薄膜の作製と光電気化学特性

葛原隆, 押切友也, 久保田紀子, 新家寛正, 中川勝

第73回高分子学会年次大会　2024/06/06
金属表面上に作製した酸化ニッケル薄膜からなる光共振器・光電極の膜厚依存性

川瀬智暉, 押切友也, 笘居高明, 新家寛正, 中川勝

第73回高分子学会年次大会　2024/06/06
Nanofabrication of chiral nanostructures and it optical properties under modal coupling conditions

Tomoya Oshikiri, Yasutaka Matsuo, Hiromasa Niinomi, Masaru Nakagawa

73rd SPSJ Annual Meeting　2024/06/05
Controlling morphological property of silicon nanodisks via trimming imprint resists

2024/06/06
Chiral liquid crystalline water implied by dynamics of homoimmiscible water at the interface between water and ice III

Hiromasa Niinomi, Tomoya Yamazaki, Hiroki Nada, Tetsuya Hama, Akira Kouch, Tomoya Oshikiri, Masaru Nakagawa, Yuki Kimura

73rd SPSJ Annual Meeting　2024/06/05
Similarity effect of polymerizable functional groups of monomers and adhesive agents on liquid advancement in UV nanoimprinting International-presentation

Ryota Inagawa, Akiko Onuma, Hiromasa Niinomi, TomoyaOshikiri, Masaru Nakagawa

"The 67th International Conference on Electron, Ion and Photon Beam Technology and Nanofabrication"　2024/05/29
Soft and hard trimming techniques of imprint resists to fabricate silicon nanodisk arrays with different circularity International-presentation

Naoki Takano, Hiromasa Niinomi, Tomoya Oshikiri, Masaru Nakagawa

"The 67th International Conference on Electron, Ion and Photon Beam Technology and Nanofabrication"　2024/05/29
"hiral Spinodal-like Ordering of Homoimmiscible Water at Interface between Water and Chiral Ice III "

Hiromasa Niinomi, Tomoya Yamazaki, Hiroki Nada, Tetsuya Hama, Akira Kouch, Tomoya Oshikiri, Masaru Nakagawa, Yuki Kimura

Japan Geoscience Union Meeting 2024　2024/05/31
モード結合に基づく高効率光捕集能を有するメタサイトの設計と作製

押切友也, 早川俊昭, 新家寛正, 中川勝

日本光学会メタオプティクス研究グループ主催メタオプティクス研究グループ第一回研究会　2024/05/24
Mie共鳴励振誘電体メタ表面におけるキラル近接場のキラル結晶化に与える影響

新家寛正, 後藤和泰, 高野修綺, 田川美穂, 森田伊織, 大沼晶子, 吉川洋史, 川村隆三, 押切友也, 中川勝

日本光学会メタオプティクス研究グループ主催メタオプティクス研究グループ第一回研究会　2024/05/24
ナノインプリントレジストのトリミングで発生する皺状構造の架橋剤添加及びプロセスによる精密制御

高野修綺, 新家寛正, 中川勝

2024年第2回ナノインプリント技術研究会　2024/05/17
ナノ隙間における光硬化性液体薄膜の動的濡れ特性計測

山本寛太, 伊藤伸太郎, 福澤健二, 中川勝, 縄田亮, 東直輝, 張賀東

2024年第2回ナノインプリント技術研究会　2024/05/17
Near-field properties generated by circularly polarized light irradiation on metal nanostructures

Tomoya Oshikiri, Yasutaka Matsuo, Hiromasa Niinomi, Keiji Sasaki, Hiroaki Misawa, Masaru Nakagawa

Optical Manipulation and Structured Materials Conference (OMC2024)　2024/04/23
Optical Manipulation of Creeping Crystallization using Mie-resonant Dielectric Metasurface

Hiromasa Niinomi, Naoki Takano, Tomoya Oshikiri, Masaru Nakagawa

Optical Manipulation and Structured Materials Conference (OMC2024)　2024/04/24
Periodicity control of trimming-induced wrinkled structures by adding cross-linker to UV-nanoimprint resist

2024/03/22
シングルナノ精度を有する光硬化成形体の蛍光強度膜厚計測法(2): 光ナノインプリント成形におけるモノマーと密着剤の重合性官能基の相同相似効果

稲川亮太, 大沼晶子, 新家寛正, 押切友也, 中川勝

第71回応用物理学会春季学術講演会　2024/03/22
円偏光励振Mie共鳴体メタ表面上でのキラル結晶化

新家寛正, 後藤和泰, 高野修綺, 田川美穂, 森田伊織, 大沼晶子, 吉川洋史, 川村隆三, 押切友也, 中川勝

第71回応用物理学会春季学術講演会　2024/03/22
Synthesis of nickel oxide nanocrystals by supercritical hydrothermal method and their thin film formation

Tomoki Kawase, Tomoya Oshikiri, Takaaki Tomai, Hiromasa Niinomi, Masaru Nakagawa

2024/03/18
"キラル氷III/水界面で水から分離する同素不混和水のスピノーダル様キラル秩序 "

新家寛正, 山崎智也, 灘浩樹, 羽馬哲也, 香内晃, 押切友也, 中川勝, 木村勇気

日本表面真空学会東北・北海道支部令和5年度学術講演会　2024/03/06
Dynamic Wetting Property Measurements of Photocurable Liquid Films in Nanochannels

Shintaro ITOH, Masato SUZUKI, Kanta YAMAMOTO, Kenji FUKUZAWA, Masaru NAKAGAWA, Ryo NAWATA, Naoki AZUMA, Hedong ZHANG

2024/03/04
超臨界水熱法による酸化ニッケルナノ結晶合成に向けた有機修飾剤の探索

川瀬智暉, 押切友也, 笘居高明, 中川勝

第23回東北大学多元物質科学研究所研究発表会　2023/12/07
円偏光によりMie共鳴の励振されたSiナノディスクからの塩素酸ナトリウムキラル結晶化における結晶鏡像異性体過剰

新家寛正, 後藤和泰, 高野修綺, 田川美穂, 吉川洋史, 川村隆三, 押切友也, 中川勝

第52回結晶成長国内会議　2023/12/06
氷V/水界面の未知の水のスピノーダル様脱濡れにおける異方性

新家寛正, 山崎智也, 灘浩樹, 羽馬哲也, 香内晃, 麻川明俊, 押切友也, 中川勝, 木村勇気

第52回結晶成長国内会議　2023/12/05
Photoelectrochemical properties of plasmonic photocathode using nickel oxide

Tomoya Oshikiri, Takashi Katsurahara, Noriko Kubota, Hiromasa Niinomi, Yasutaka Matsuo, Hiroaki Misawa, Masaru Nakagawa

The 12th Asian Photochemistry Conference (APC2023), Melbourne, Australia　2023/11/30
Volume Compensating Materials after Vapor Phase Infiltration: Effect of Different Butyl Isomers of Polymer Side-Chains on High Process Temperature Durability

Norikatsu Sasao, Shinobu Sugimura, Koji Asakawa, Tomoya Oshikiri, Masaru Nakagawa

36th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2023)　2023/11
Observation of wetting by capillary condensation of photo-curable liquid in nanogaps and its effect on cavity filling in nanoimprinting

Masato Suzuki Shintaro Itoh, Yusuke Nakanishi, Kenji Fukuzawa, Masaru Nakagawa Toshiya, Asano, Naoki Azuma, Hedong Zhang

36th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2023)　2023/11
Thickness of surface silicon oxide layer affecting liquid spreading at a nanogap for UV nanoimprint lithography

Masaru Nakagawa, Akiko Onuma, Hiromasa Niinomi, Shintaro Itoh, Kenji Fukuzawa, Toshiya Asano

36th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2023)　2023/11/16
Fabrication of nickel oxide thin films for photocathodes through wet and gas phase processes

Tomoya Oshikiri, Takashi Katsurahara, Noriko Kubota, Hiromasa Niinomi, Yasutaka Matsuo, Hiroaki Misawa, Masaru Nakagawa

36th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2023), Sapporo, Japan,　2023/11/16
有機修飾剤を用いた超臨界水熱法による酸化ニッケルナノ結晶の合成と物性

川瀬智暉, 押切友也, 笘居高明, 中川勝

2023年度高分子学会東北支部研究発表会　2023/11/10
異方脱濡れが示唆する水/氷 V 界面における未知の水の液晶性 Invited

新家寛正, 山崎智也, 灘浩樹, 羽馬哲也, 香内晃, 麻川明俊, 押切友也, 中川勝, 木村勇気

2023年度高分子学会東北支部研究発表会　2023/11/10
How far does a droplet of UV-curable liquid spread between the mold and silicon surfaces in nanoimprinting?

Masaru Nakagawa, Akiko Onuma, Hiromasa Niinomi, Shintaro Itoh, Kenji Fukuzawa, Toshiya Asano

The 22nd International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technologies (NNT2023)　2023/10
水素製造光カソード構築に向けた酸化ニッケル膜の作製と界面でのホール輸送能

押切友也, 葛原隆, 久保田紀子, 新家寛正, 松尾保孝, 三澤弘明, 中川勝

第72回高分子討論会　2023/09/28
異方スピノーダル様脱濡れが示唆する水/氷V界面における未知の水の液晶性

新家寛正, 山崎智也, 灘浩樹, 羽馬哲也, 香内晃, 押切友也, 中川勝, 木村勇気

第72回高分子討論会　2023/09/26
一桁ナノ造形に向けた孤立印刷配置されたサブピコリットル光硬化性液滴の押力延展の検討（３）水素結合性高分子の効果

中川勝, 吉田健, 大沼晶子

第72回高分子討論会　2023/09/26
湿式プロセスを用いた金ナノ粒子/酸化ニッケル/白金電極の光電気化学反応特性

押切友也, 葛原隆, 久保田紀子, 新家寛正, 松尾保孝, 三澤弘明, 中川勝

2023年光化学討論会　2023/09/07
In-Situ Observations of Low- and High-Density Unknown Waters at Interfaces between Water and Ices Grown/Melted by Pressure

Hiromasa Niinomi, Tomoya Yamazaki, Hiroki Nada, Tetsuya Hama, Akira Kouchi, Tomoya Oshikiri, Masaru Nakagawa, Jun Nozawa, Junpei T. Okada, Satoshi Uda, Yuki Kimura

15th International Conference on the Physics and Chemistry of Ice (PCI-2023)　2023/09/04
Low- and High-Density Unknown Waters at Interfaces between Water and Ices Grown/Melted by Pressure

Hiromasa Niinomi, Tomoya Yamazaki, Hiroki Nada, Tetsuya Hama, Akira Kouchi, Tomoya Oshikiri, Masaru Nakagawa, Jun Nozawa, Junpei T. Okada, Satoshi Uda, Yuki Kimura

The 20th International Conference on Crystal Growth and Epitaxy (ICCGE-20), Naples, Italy　2023/08/02
Chiral Crystallization Directed by Superchiral Plasmonic Near-field Force

Hiromasa Niinomi, An-Chieh Cheng, Teruki Sugiyama, Miho Tagawa, Toru Ujihara, Hiroshi Yoshikawa, Ryuzo Kawamura, Jun Nozawa, Junpei T. Okada, Satoshi Uda, Tomoya Oshikiri, Masaru Nakagawa

The 20th International Conference on Crystal Growth and Epitaxy (ICCGE-20), Naples, Italy　2023/08/01
Super Chiral Field on an Achiral Gold Nanostructure

Tomoya Oshikiri, Hiromasa Niinomi, Masaru Nakagawa, Hiroaki Misawa

The 31st International Conference on Photochemistry (ICP-2023), Spporo, Japan, 2023/7/23-28　2023/07/24
Liquid Crystal-Like Unknown Water Inferred by Anisotropic Spinodal-like Dynamics at a Water-Ice V Interface

Hiromasa Niinomi, Tomoya Yamazaki, Hiroki Nada, Tetsuya Hama, Akira Kouchi, Tomoya Oshikiri, Masaru Nakagawa, Yuki Kimura

2023/07/14
Slimming Imprint Resist Masks by Oxygen Reactive Ion Etching for Silicon Metaoptics Invited

2023/07/06
Simulation and Demonstration of Atomic-scale Precise Alignment in UV Nanoimprint Lithography Invited

2023/07/07
ビスフェノールAを骨格とする光ナノインプリントレジストの転写機能

高野修綺, 新家寛正, 中川勝

第72回高分子学会年次大会　2023/05/24
一桁ナノ造形に向けた孤立印刷配置されたサブピコリットル光硬化性液滴の押力延展の検討（２）反応性密着剤の重合性官能基の効果

中川勝, 吉田健, 大沼晶子

第72回高分子学会年次大会　2023/05/24
Spinodal Decomposition-like Dynamics of Unknown Water at Ice V-Water Interface

Japan Geoscience Union Meeting 2023, JpGU 2023)　2023/05/21
合成石英モールドを用いたUV-NILによるシリコンナノディスク配列体の作製と光機能

高野修綺, 新家寛正, 森田伊織, 後藤和泰, 押切友也, 中川勝

2023年第2回ナノインプリント技術研究会　2023/05/19
Simulation of Fluorescence Alignment with Atomic-Scale Precision for Ultraviolet Nanoimprint Lithography

Hiromasa Niinomi, Subaru Harada, Toshiaki Hayakawa, Masaru Nakagawa

Photomask Japan 2023　2023/04/25
Fabrication of silicon nanodisk array by UV nanoimprint lithography

2023/03/15
Impact of nickel oxide on properties of photocathode-type nanocavity

2023/03/18
Quantifying Shear Properties of Nano-Confined Liquids Using Vertical Objective Ellipsometric Microscopy

"2023 JSME Information, Intelligence and Precision Equipment Division "　2023/03/06
キラル結晶化に巨大な鏡像異性体過剰を誘起するプラズモン構造体におけるキラル近接場の数値解析

新家寛正, An-Chieh Cheng, 杉山輝樹, 田川美穂, 吉川洋史, 宇田聡, 押切友也, 中川勝

第22回東北大学多元物質科学研究所研究発表会　2022/12/08
Photo-oxidative decomposition of a fluorinated antisticking molecular layer monitored by contact angle measurements and time of flight secondary ion mass spectrometry

Kanta Kawasaki, Rie Shishido, Akiko Onuma, Hiromasa Niinomi, Masaru Nakagawa

MNC 2022, 35th International Microprocesses and Nanotechnology Conference　2022/11/10
Micro-print and nano-imprint method using adhesive molecular layers with low surface-free-energy and chemisorption for a shape-fixed residual layer in UV nanoimprint lithography

Kanta Kawasaki, Akiko Onuma, Hiromasa Niinomi, Masaru Nakagawa

MNC 2022, 35th International Microprocesses and Nanotechnology Conference　2022/11/10
"高圧下で成長する氷V/水界面に生成する未知の水のダイナミクス"

2022/10/31
Selection of adhesive molecular layers with monomer-repellence and chemisorption for a shape-fixed residual layer in UV nanoimprint lithography

Kanta Kawasaki, Akiko Onuma, Hiromasa Niinomi, Masaru Nakagawa

Nanoimprint and Nanoprint Technology Conference 2022 （NNT 2022）　2022/10/06
Nanofabrication of metal/semiconductor/metal structure for efficient photocathode under strong coupling condition

Tomoya Oshikiri, Xu Shi, Hiroaki Misawa, Masaru Nakagaw

Nanoimprint and Nanoprint Technology Conference 2022 （NNT 2022）　2022/10/07
Atom-scale-precision fluorescence alignment demonstrated by computational simulation

Hiromasa Niinomi, Subaru Harada, Toshiaki Hayakawa, Masaru Nakagawa

Nanoimprint and Nanoprint Technology Conference 2022 （NNT 2022）　2022/10/06
Chiral Crystallization Directed by Chiral Near-Field Force with Nanostructured Plasmonic Metasurfaces

Hiromasa Niinomi, An-Chieh Cheng, Teruki Sugiyama, Miho Tagawa, Hiroshi Yoshikawa, Satoshi Uda, Tomoya Oshikiri, Masaru Nakagawa

Nanoimprint and Nanoprint Technology Conference 2022 （NNT 2022）　2022/10/05
フッ素含有自己組織化単分子膜の光酸素酸化におけるUVオゾン照射と真空UV照射の違い

2022/09/07
一桁ナノ造形に向けた孤立印刷配置されたサブピコリットル光硬化性液滴の押力延展の検討

2022/09/06
光硬化性微小液滴の平板押印成形体の蛍光顕微鏡観察

2022/09/07
Efficient hot-hole transfer on metal/semiconductor interface under modal strong coupling condition Invited

Tomoya Oshikiri, Xu Shi, Masaru Nakagawa, Hiroaki Misawa

2022/07/30
ナノリソグラフィで鍵を握る界面機能分子制御 Invited

Masaru Nakagawa

2022/07/22
レーザー加工孔版印刷・蛍光アライメント・ハイブリッド化レジストを用いたナノインプリント技術 Invited

中川勝

応用物理学会次世代リソグラフィ技術研究会 NGL ワークショップ2022　2022/07/07
Fluorescence Alignment for Atomic-Scale Position Adjusetment in Ultraviolet Nanoimprint Lithography

Hiromasa Niinomi, Subaru Harada, Toshiaki Hayakawa, Masaru Nakagawa

The 65th International Conference on Electron, Ion and Photon Beam Technology and Nanofabrication (EIPBN 2022)　2022/06/01
Vapor-phase organic-inorganic hybridization applied to UV nanoimprint lithography

Chiaki Miyajima, Masaru Nakagawa

2021/12/09
含フッ素自己組織化単分子膜のUV/O3による分解挙動

川崎貫太, 中川勝

第21回東北大学多元物質科学研究所研究発表会　2021/12/09
UV Nanoimprint Lithography Involving Laser-Drilled Screen Printing

Masaru Nakagawa

The 20th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technologies (NNT2021)　2021/11/17
Area Selective Deposition of Aluminum Oxide via Metallized UV-nanoimprinted Resin Patterns

Chiaki Miyajima, Masaru Nakagawa

The 20th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technologies (NNT2021)　2021/11/16
表面修飾された固体－液体－固体の2界面における液体およびモノマーの濡れに関する研究

川崎貫太, 中川勝

2021高分子学会東北支部研究発表会　2021/11/01
UV nanoimprint lithography with laser-drilled screen printing, fluorescence alignment, and hybridized resist materials Invited

Masaru Nakagawa

34th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2021)　2021/10/28
レーザー加工孔版印刷を組込んだ光ナノインプリントリソグラフィ Invited

中川勝

第172回ラドテック研究会講演会　2021/08/31
フェムト秒レーザーの単パルスによるクロム堆積インプリント樹脂パターンのドライ現像 Invited

中川勝

応用物理学会次世代リソグラフィ分科会 NGL ワークショップ2021　2021/07/09
X 線反射率測定によるアルミナドープ光硬化樹脂薄膜の内部構造解析 Invited

千葉康平, 中村貴宏, 伊東駿也, 中川勝

応用物理学会次世代リソグラフィ分科会 NGL ワークショップ2021　2021/07/08
インプリント樹脂マスクを用いたアルミナの領域選択的な原子層堆積 Invited

宮島千晶, 伊東駿也, 中川勝

応用物理学会次世代リソグラフィ分科会 NGL ワークショップ2021　2021/07/08
Internal Layered Structures of UV-Cured Thin Films after Sequential Vapor Infiltration Analyzed by X-ray Reflectivity Measurements

Kohei Chiba, Takahiro Nakamura, Shunya Ito, Masaru Nakagawa

The 64th International Conference on Electron, Ion and Photon Beam Technology and Nanofabrication　2021/06/02
Nanoimprinted Deposition Masks for Area Selective Atomic Layer Deposition of Aluminum Oxide

Chiaki miyajima, Shunya Ito, Masaru Nakagawa

The 64th International Conference on Electron, Ion and Photon Beam Technology and Nanofabrication　2021/06/02
二界面ナノすきまにおけるフェムトリットル孤立液滴の押印伸展に関する研究

吉田健, 大沼晶子, 伊東駿也, 中川勝

第70回高分子学会年次大会　2021/05/26
X-ray-reflectivity analysis of organic-inorganic UV-cured resin films hybridized by sequential vapor infiltration

Kohei Chiba, Takahiro Nakamura, Shunya Ito, Masaru Nakagawa

The 27th Symposium on Photomask and NGL Mask Technology　2021/04/20
Vapor Phase Infiltration of Thin Films and Nanopatterns of Electron Beam and Nanoimprint Resists

Shunya Ito, Masaru Nakagawa

The 27th Symposium on Photomask and NGL Mask Technology　2021/04/20
トリメチルアルミニウムで染色した光硬化ナノ薄膜の内部構造解析

千葉康平, 中村貴宏, 伊東駿也, 中川勝

2021年第68回応用物理学会春季学術講演会　2021/03/18
領域選択的な原子層堆積に向けた光硬化蒸着マスクのドライエッチング

宮島千晶, 伊東駿也, 中川勝

2021年第68回応用物理学会春季学術講演会　2021/03/18
Vapor Phase Infiltration to Hybridize Thin Films of Electron Beam and Nanoimprint Resists International-presentation Invited

Shunya Ito, Masaru Nakagawa

2nd Workshop on Sequential Infiltration Synthesis　2020/12/15
酸素反応性イオンエッチングによるグラフェン表面の改質と原子間力顕微鏡観察応用

伊東駿也, 瀬戸陽子, 熊木治郎, 中川勝

第20回東北大学多元物質科学研究所研究発表会　2020/12/03
Organic-inorganic hybrid nanoimprint replica molds for industrial application

Shunya Ito, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

The 4th Symposium for The Core Research Cluster for Materials Science and the 3rd Symposium on International Joint Graduate Program in Materials Science　2020/11/17
グラフェン基板上での PMMA 孤立鎖の原子間力顕微鏡観察

伊東駿也, 瀬戸陽子, 熊木治郎, 中川勝

2020高分子学会東北支部研究発表会　2020/11/13
レーザー加工孔版印刷により孤立配置した液滴と成形体の形状評価

吉田健, 大沼晶子, 伊東駿也, 中川勝

2020高分子学会東北支部研究発表会　2020/11/13
有機－無機ハイブリッド化光硬化膜の X 線反射率測定

千葉康平, 中村貴宏, 伊東駿也, 中川勝

2020高分子学会東北支部研究発表会　2020/11/13
Femtosecond-laser single-pulse development of Cr-deposited imprint resin patterns

Yusuke Isawa, Takahiro Nakamura, Shunya Ito, Masaru Nakagawa

33rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2020)　2020/11/09
X線反射率測定による光硬化樹脂の解析

千葉康平, 中村貴宏, 大沼晶子, 中川勝

高分子・ハイブリッド材料研究センター 2020 PHyM シンポジウム　2020/10/19
Print-and-imprint法により作製した光硬化薄膜

吉田健, 大沼晶子, 伊東駿也, 中川勝

高分子・ハイブリッド材料研究センター 2020 PHyM シンポジウム　2020/10/19
Development and application of cationic photopolymers with high resistance to oxygen reactive etching and concentrated hydrochloric acid

2020/09/16
逐次浸透合成で起こる有型成形ナノパターンのライン倒れ欠陥の架橋剤による抑制

宮島千晶, 伊東駿也, 中川勝

第69回高分子討論会　2020/09/17
金属堆積ナノインプリント成形体のフェムト秒シングルパルスドライ現像

井澤優佑, 中村貴宏, 伊東駿也, 中川勝

第69回高分子討論会　2020/09/16
蛍光インプリントアライメントに資する紫外線硬化性可視蛍光液体の開発―重合開始剤の効果―

吉田拓真, 伊東駿也, 中川勝

第69回高分子討論会　2020/09/16
逐次浸透合成による電子線およびナノインプリントレジストの有機－無機ハイブリッド化

伊東駿也, 中川勝

第69回高分子討論会　2020/09/17
ナノ触診原子間力顕微鏡により可視化された光硬化超薄膜で起こる弾性率面内分布の不均一性

第69回高分子討論会　2020/09/16
Ultraviolet Nanoimprinting Technology for Lithography Usage Invited

2020/09/16
逐次浸透合成による光ナノインプリント成形パターンの倒れ欠陥と架橋剤添加による欠陥抑制

宮島千晶, 伊東駿也, 中村貴宏, 中川勝

第67回応用物理学会春季学術講演会　2020/03/15
光示差走査熱量測定による蛍光ナノインプリントアライメントに向けた色素含有紫外線硬化性液体の探索

吉田拓真, 伊東駿也, 中川勝

第67回応用物理学会春季学術講演会　2020/03/15
金属堆積光インプリント樹脂パターンのシングルパルスレーザー現像

井澤優佑, 中村貴宏, 伊東駿也, 中川勝

第67回応用物理学会春季学術講演会　2020/03/15
新しいナノインプリント技術 pirint and imprint による極限ナノ造形 Invited

中川勝

一般社団法人表面技術協会第141回講演大会　2020/03/03
逐次浸透合成により高分子薄膜内に形成されたAlOx の深さ分布分析

伊東駿也, 尾崎優貴, 中村貴宏, 中川勝

第19回東北大学多元物質科学研究所研究発表会　2019/12/12
室温動作単電子トランジスタに向けた表面修飾白金−金合金ナノ粒子の作製

中村貴宏, 黒田陸斗, 中川勝

第19回東北大学多元物質科学研究所研究発表会　2019/12/12
1-ヘキサンチオールを用いた相間移動法による金−白金合金ナノ粒子の表面修飾

中村貴宏, 黒田陸斗, 中川勝

高分子・ハイブリッド材料研究センター 2019 PHyM シンポジウム　2019/11/12
光ナノインプリントにおける蛍光アライメントに向けた和の角度モアレ縞の観察

吉田拓真, 伊東駿也, 中村貴宏, 中川勝

高分子・ハイブリッド材料研究センター 2019 PHyM シンポジウム　2019/11/12
Fluidic behavior of photopolymerizable monomers between silica surfaces related to single-digit-nanometer UV nanoimprinting International-presentation

Shunya Ito, Motohiro Kasuya, Kazue Kurihara, Masaru Nakagawa

Tohoku-Melbourne Joint Workshop　2019/11/09
Nanometer-resolved fluidity of diacrylate monomers between unmodified and modified silica surfaces for single-digit-nanometer UV nanoimprinting International-presentation

Shunya Ito, Motohiro Kasuya, Kazue Kurihara, Masaru Nakagawa

OKINAWA COLLOIDS 2019　2019/11/03
Resonance Shear Measurement of Diacrylate Monomers Confined between Silica Surfaces for UV Nanoimprinting International-presentation

Shunya Ito, Motohiro Kasuya, Kazue Kurihara, Masaru Nakagawa

OKINAWA Colloids 2019 Pre-Workshop -5th International Mini-Symposium on Surface Forces-　2019/11/01
Investigation of Additive-Type Fluorescence Moire Fringes for Imprint Alignment by Image Drawing Software International-presentation

Masaru Nakagawa, Kazue Suto

32nd International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2019)　2019/10/28
Chemical Registration to Prepare Defined-Shape UV-Cured Films in Print-and-Imprint Method International-presentation

Masaru Nakagawa, Kento Ochiai, Akiko Onuma, Kazue Suto, Takahiro Nakamura, Shunya Ito

32nd International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2019)　2019/10/28
Elemental depth profiles of sequential infiltration synthesis-treated resist thin films analyzed by time-of-flight secondary ion mass spectrometry International-presentation

Shunya Ito, Yuki Ozaki, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

32nd International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2019)　2019/10/28
Angles of Additive-type Inclination Moire Fringes for Fluorescence Imprint Alignment International-presentation

Takuma Yoshida, Shunya Ito, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

32nd International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2019)　2019/10/28
Phase transfer protocol for Au-Pt alloy nanoparticles fabricated by laser induced nucleation International-presentation

Rikuto Kuroda, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

The 13th Pacific Rim Conference of Ceramic Societies (PACRIM13)　2019/10/28
Phase Transfer Protocol Behaviors of Water-Dispersed Au-Pt Alloy Nanoparticles into Toluene with 1-Hexanethiol International-presentation

Rikuto Kuroda, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

The 13th Pacific Rim Conference of Ceramic Societies (PACRIM13)　2019/10/27
Control of Sub-50 nm Thickness of UV-Cured Thin Films by Print-and-Imprint Method International-presentation

Masaru Nakagawa, Kento Ochiai, Akiko Onuma, Kazue Suto, Takahiro Nakamura, Shunya Ito

the 18th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technologies (NNT2019)　2019/10/14
Silica Nanoparticles-Containing Replica Resin Molds for Step-and-Repeat UV Nanoimprinting International-presentation

Shunya Ito, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

the 18th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technologies (NNT2019)　2019/10/14
Observation of Fluorescence Inclination Moire Fringes for Imprint Alignment International-presentation

Takuma Yoshida, Shunya Ito, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

the 18th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technologies (NNT2019)　2019/10/14
Investigation of Multiplicative-type Moire Fringes for Imprint Alignment by Image Drawing Software International-presentation

Takuma Yoshida, Shunya Ito, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

Tohoku University's Chemistry Summer School 2019　2019/08/27
Laser-Induced Forward Transfer of 1-dimentional Cr Structures by Shaped Femtosecond Laser Pulses International-presentation

Yusuke Isawa, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

Tohoku University's Chemistry Summer School 2019　2019/08/27
レーザー誘起前方転写法による二次元Crマイクロ構造の形成

井澤優佑, 中村貴宏, 中川勝

第47回東北地区高分子若手研究会夏季ゼミナール　2019/07/12
蛍光液体パターンから生じる和のモアレ縞の角度依存性

吉田拓真, 伊東駿也, 中村貴宏, 中川勝

第47回東北地区高分子若手研究会夏季ゼミナール　2019/07/12
Influence of Rotation Center on Inclination Moire Fringes International-presentation

Takuma Yoshida, Shunya Ito, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

2019/07/04
Laser-Induced Forward Transfer from Cr Thin Films Depending on Applied Laser Pulses International-presentation

Yusuke Isawa, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

2019/07/04
Surface Modification of Au and Au-Pt Alloy Nanoparticles with different Compositions International-presentation

Rikuto Kuroda, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

2019/07/04
Fluidity of Photopolymerizable Monomers in Unmodified and Modified Silica Nano-Gaps for Single-Digit-Nanometer UV Nanoimprinting International-presentation Invited

Shunya Ito, Masaru Nakagawa

the 10th International Symposium on Integrated Molecules and Materials Engineering (IMSE)　2019/07/04
Organic/Inorganic Hybridization of Photopolymerized Resin Films through Different Sequential Chemical Vapor Modifications International-presentation Invited

Shunya Ito, Yuki, Ozaki, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

the 10th International Symposium on Integrated Molecules and Materials Engineering (IMSE)　2019/07/04
AFM Topographic Analyses of Positive-Tone EB Resist Lines Treated with Sequential Infiltration Synthesis and Solvent Annealing International-presentation

Shunya Ito, Yuki Ozaki, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

the 26th Symposium on Photomask and Next Generation Lithography Mask Technology (Photomask Japan 2019) (PMJ2019)　2019/04/17
相関移動法を用いた金属・合金ナノ粒子の表面修飾における組成と修飾剤との関係

黒田陸斗, 中村貴宏, 中川勝

日本金属学会2019年春期(第164回)講演大会　2019/03/21
Characteristics of metal and alloy nanoparticles fabricated by laser-induced nucleation Invited

黒田陸斗, 中村貴宏, 中川勝

日本化学会第99回春季年会　2019/03/16
光学メタマテリアルの量産複製を目指したナノインプリント技術 Invited

中川勝

18-6 ポリマーフロンティア21　2019/03/11
力学高強度な複製モールドを目指した有機−無機ハイブリッド材料の開発

伊東駿也, 中村貴宏, 中川勝

第66回応用物理学会春季学術講演会　2019/03/09
Observation of Fluorescence Inclination Moire Fringes Generated from Fluorescent Liquid between Mold and Substrate

吉田拓真, 落合研斗, 大沼晶子, 須藤和恵, 伊東駿也, 中村貴宏, 中川勝

第66回応用物理学会春季学術講演会　2019/03/09
レーザー誘起核生成法による合金ナノ粒子作製と表面修飾

黒田陸斗, 中村貴宏, 中川勝

マテリアル・ファブリケーション・デザインセミナー同時開催：日本セラミックス協会第7回MFD研究会　2019/03/05
ナノインプリント技術の現状と展望 Invited

中川勝

マテリアル・ファブリケーション・デザインセミナー同時開催：日本セラミックス協会第7回MFD研究会　2019/03/04
ナノインプリント技術における新しい材料とプロセスの創製 Invited

中川勝

信州大学化学・材料学科セミナー　2019/02/22
ナノインプリント技術で見えてきた有機分子・高分子薄膜の表面・界面現象 Invited

中川勝

高分子学会東北支部講演会　2018/12/18
レーザ誘起核生成法により作製した金属及び合ナノ粒子の表面修飾

黒田陸斗, 中村貴宏, 中川勝

第18回東北大学多元物質科学研究所研究発表会　2018/12/13
蛍光アライメントに向けた液体の位置選択的成形のための表面修飾

落合研斗, 伊東駿也, 中村貴宏, 中川勝

第18回東北大学多元物質科学研究所研究発表会　2018/12/13
ナノインプリントによる一桁ナノ造形 Invited

中川勝

2018年度日本表面真空学会学術講演会　2018/11/21
蛍光顕微鏡観察による位置選択的吸着分子膜表面修飾の評価

落合研斗, 伊東駿也, 中村貴宏, 中川勝

2018 年度高分子・ハイブリッド材料研究センター（PHyM）若手フォーラム　2018/11/19
ポジ型電子線レジストの各プロセスにおける分子レベルでの考察

尾崎優貴, 伊東駿也, 中村貴宏, 中川勝

2018 年度高分子・ハイブリッド材料研究センター（PHyM）若手フォーラム　2018/11/19
Surface modification of polyimide laser-drilled screen-printing masks forlow-viscosity liquids in print-and-imprint method International-presentation

Takahiro Nakamura, Narumi Endo, Masaru Nakagawa

31th International Microprocesses and Nanotechnology Conference(MNC 2018)　2018/11/16
Morphological changes in positive-tone EB resist patterns induced by sequential infiltration synthesis and solvent annealing International-presentation

Yuki Ozaki, Shunya Ito, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

31th International Microprocesses and Nanotechnology Conference(MNC 2018)　2018/11/16
Depth profiles of fluorescent dyes in UV-cured resin films evaluated by evanescent wave-induced fluorescence microscopy International-presentation

Shunya Ito, Kento Ochiai, Masaru Nakagawa, Trevor A. Smith

Melbourne-Tohoku Workshop 2018　2018/11/09
Filling behavior of diacrylate monomers into silica holes of around 10 nm in UV nanoimprinting International-presentation

Shunya Ito, Motohiro Kasuya, Kazue Kurihara, Masaru Nakagawa

MNE2018　2018/09/25
Print-and-imprint法におけるレーザー加工孔版印刷での低粘度化

中村貴宏, 遠藤功望, 中川勝

第67回高分子討論会　2018/09/12
トリメチルアルミニウムを用いた3種類の化学気相反応法による光硬化レジストの有機−無機ハイブリッド化の膜厚方向の化学組成解析

伊東駿也, 上原卓也, 尾崎優貴, 中村貴宏, 中川勝

第67回高分子討論会　2018/09/12
Preparation of Au and its Alloy Nanoparticles soluble in Toluene with a Mercapt-Containing Surfactant International-presentation

Rikuto Kuroda, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

Tohoku University's Chemistry Summer School 2018　2018/08/27
Preparation of surface-modified metal and alloy nanoparticles by phase transfer protocol International-presentation

Rikuto Kuroda, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

第5回ケースウエスタンリザーブ大学・東北大学共同シンポジウム　2018/08/03
ナノインプリントで一桁ナノ造形に挑む Invited

中川勝

2018年度第1回極限ナノ造形・構造物性研究会講演会　2018/07/30
Preparation of Au and its Alloy Nanoparticles soluble in Toluene with a Mercapt-Containing Surfactant

Rikuto Kuroda, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

第46回東北地区高分子若手研究会夏季ゼミナール　2018/07/06
ナノインプリントによる高分子材料の一桁ナノ造形への挑戦

Shunya Ito, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

第46回東北地区高分子若手研究会夏季ゼミナール　2018/07/06
Organic/inorganic hybridization of NIL resit materials Invited

中川勝

次世代リソグラフィ(NGL)ワークショップ2018　2018/07/05
重合性液体のシリカナノ空間中での流動性と一桁ナノ造形

伊東駿也, 粕谷素洋, 栗原和枝, 中川勝

第4回東北大学若手研究者アンサンブルワークショップ　2018/07/04
反応性無機前駆体ガスの浸透を利用した光ナノインプリントレジスト材料の改質

上原卓也, 尾崎優貴, 伊東駿也, 廣芝伸哉, 中村貴宏, 中川勝

第8回物質・デバイス領域共同研究拠点活動報告会及び平成29年度ダイナミック・アライアンス成果報告会　2018/06/29
光ナノインプリントによる一桁nm造形に向けた重合性モノマーの粘度増加の理解

伊東駿也, 粕谷素洋, 栗原和枝, 中川勝

高分子・ハイブリッド材料研究センター 2018 PHyMシンポジウム　2018/06/19
レーザー誘起核生成法による全率固溶合金ナノ粒子合成とその表面修飾

中村貴宏, 黒田陸斗, 中川勝

高分子・ハイブリッド材料研究センター 2018 PHyMシンポジウム　2018/06/19
ナノインプリントで一桁ナノ造形に挑む

中川勝

高分子・ハイブリッド材料研究センター 2018 PHyMシンポジウム　2018/06/19
Surface Modification of Metal and Alloy Nanoparticles Fabricated by Laser-Induced Nucleation in Liquid International-presentation

Rikuto Kuroda, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

5th international conference on advanced nanoparticle generation & excitation by lasers in liquids(ANGEL 2018)　2018/06/04
Fluidity of an oleophilic monomer in nano-gap between reactive adhesive monolayers for UV nanoimprinting International-presentation Invited

Shunya Ito, Motohiro Kasuya, Kazue Kurihara, Masaru Nakagawa

The 62st International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication(EIPBN2018)　2018/05/30
Improved etching resistance of UV-cured films with/without hydroxy groups by organic/inorganic hybridization through sequential infiltration synthesis and sequential vapor infiltration International-presentation Invited

Takuya Uehara, Yuki Ozaki, Shunya Ito, Nobuya Hiroshiba, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

The 62st International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication(EIPBN2018)　2018/05/30
Photo-induced voltage in Al-based plasmonic crystal slabs with asymmetric unit cell

K. Iwata, H. Yano, M. Matsubara, M. Nakagawa, T. Ishihara

日本物理学会第73回年次大会(2018年)　2018/03/22
Nanometer-Resolved Fluidity of an Oleophilic Monomer between Silica Surfaces Modified with a Reactive Adhesive Layer

伊東駿也, 粕谷素洋, 栗原和枝, 中川勝

第65回応用物理学会春季学術講演会　2018/03/20
UV nanoimprint lithography involving a lift-off process for fabrication of Au split-ring nano-resonator arrays

上原卓也, Calafiore Giuseppe, Dhuey Scott, Cabrini Stefano, 中川勝

第65回応用物理学会春季学術講演会　2018/03/20
UV nanoimprint lithography based on area-selective atomic layer deposition

上原卓也, 尾崎優貴, 廣芝伸哉, 中村貴宏, 中川勝

第65回応用物理学会春季学術講演会　2018/03/20
Comparison of organic/inorganic hybridization of UV-cured resin films between exposure methods of an inorganic precursor

上原卓也, 尾崎優貴, 廣芝伸哉, 中村貴宏, 中川勝

第65回応用物理学会春季学術講演会　2018/03/20
Investigation of a lift-off process in UV nanoimprint technology for copying of a thin-film-type aluminum power source showing photo-induced voltage

矢野春菜, 中川勝

第65回応用物理学会春季学術講演会　2018/03/20
Photo-induced voltage and configuration of periodical triangle hole arrays in an aluminum thin film

矢野春菜, 岩田健吾, 石原照也, 中川勝

第65回応用物理学会春季学術講演会　2018/03/20
Surface Segregation of Fluorescent Dyes in Thin Films of Nanoimprintable UV-Cured Resins Studied by Evanescent Wave-Induced Fluorescence Microscopy and Spectroscopy International-presentation

Shunya Ito, Hamid Soleimaninejad, Motohiro Kasuya, Masaru Nakagawa, Trevor A. Smith

International workshop on Mineral processing and Metallurgy 2018　2018/03/02
Next-generation nanoimprint lithography for fabrication of micro/nano structure devices International-presentation

Takahiro Nakamura, Nobuya Hiroshiba, Masaru Nakagawa

指定国立大学キックオフ国際ワークショップ　2018/02/19
ナノインプリント技術における表面・材料・プロセスの科学 Invited

中川勝

ASTEC2018第13回表面技術展・会議〜見る・積む・削るナノレベルからの表面処理〜　2018/02/14
レーザー加工孔版印刷におけるポリイミドの表面修飾の効果

遠藤功望, 中村貴宏, 中川勝

2017 年度高分子・ハイブリッド材料研究センター（PHyM）若手フォーラム　2017/12/11
温度の異なるグリセリン溶液中への高強度レーザー照射による金ナノ粒子合成

黒田陸斗, 中村貴宏, 中川勝

2017 年度高分子・ハイブリッド材料研究センター（PHyM）若手フォーラム　2017/12/11
スクリーン印刷用孔版の作製のためのエンジニアリングプラスチックフィルムへのパルスレーザー穴あけ加工

中村貴宏, 関健斗, 永瀬和郎, 中川勝

第27回日本MRS年次大会　2017/12/05
グリセリン中への高強度レーザー照射による金ナノ粒子の作製

黒田陸斗, 中村貴宏, 中川勝

第27回日本MRS年次大会　2017/12/05
アルミニウム薄膜への三角形、正方形、円形の貫通孔配列体の作製とそれらの可視光誘起起電力

矢野春菜, 岩田健吾, 石原照也, 中川勝

第17回東北大学多元物質科学研究所研究発表会　2017/12/04
ナノインプリントリソグラフィによる極限ナノ造形界面科学から界面分子科学へ Invited

中川勝

日本化学会コロイドおよび界面化学部会コロイド先端技術講座II 第6回E-Colloid:先端エレクトロニクスのためのコロイド・界面化学「次世代エレクトロニクスを拓くコロイド界面」　2017/12/01
ケイ素含有アクリレートモノマーの合成と光ナノインプリントリソグラフィでのレジスト特性

坂井彩華, 町田和彦, 伊東駿也, 熊谷真莉, 中川勝, 根本修克

2017高分子学会東北支部研究発表会　2017/11/09
Print and imprint methods using laser-drilled polyimide through-hole masks for fabrication of gold microelectrodes International-presentation Invited

Takahiro Nakamura, Kento Seki, Shinya Sato, Mari Kumagai, Masaru Nakagawa

The 16th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT 2017)　2017/11/08
Increase in viscosity of a low-viscosity monomer in nano-gap between silica surfaces related to UV nanoimprinting International-presentation

Shunya Ito, Motohiro Kasuya, Kazue Kurihara, Masaru Nakagawa

The 16th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT 2017)　2017/11/08
Infiltration behaviors of AlOx into positive-tone electron beam resists by sequential infiltration synthesis International-presentation

Yuki Ozaki, Shunya Ito, Nobuya Hiroshiba, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

The 30th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2017)　2017/11/06
Development of UV-curable liquid for in-liquid fluorescence alignment in ultraviolet nanoimprint lithography International-presentation

Kento Ochiai, Mari Kumagai, Eri Kikuchi, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

The 30th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2017)　2017/11/06
Fabrication of Au split-ring resonator arrays by reverse-tone lithography using a print-and-imprint method International-presentation

Takuya Uehara, Shinya Sato, Shunya Ito, Haruna Yano, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

The 30th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2017)　2017/11/06
ナノパターニング〜分子の理解が必須な界面分子科学の世界に突入〜 Invited

中川勝

日本化学会秋季事業第7回CSJ化学フェスタ2017　2017/10/18
O2 RIE耐性に優れたケイ素含有光硬化性有機材料の合成およびリバーストーンプロセスへの応用

坂井彩華, 町田和彦, 伊東駿也, 熊谷真莉, 中川勝, 根本修克

第66回高分子討論会　2017/09/20
光ナノインプリントでの液中蛍光アライメントに向けた蛍光色素の選定

落合研斗, 熊谷真莉, 菊地英里, 中村貴宏, 中川勝

第66回高分子討論会　2017/09/20
逐次浸透合成によるポジ型電子線レジストの有機−無機ハイブリッド化

尾崎優貴, 伊東駿也, 廣芝伸哉, 中村貴宏, 中川勝

第66回高分子討論会　2017/09/20
表面力・共振ずり測定による低粘度ジアクリレートモノマーのシリカ表面間のナノギャップでの流動性

伊東駿也, 粕谷素洋, 栗原和枝, 中川勝

第66回高分子討論会　2017/09/20
マクロ技術とナノ技術を融合したprint and imprint法 Invited

中村貴宏, 中川勝

公益社団法人日本セラミックス協会第30回秋季シンポジウム　2017/09/19
Photocuring behavior of fluorescent UV-curable liquid

Kento Ochiai, Eri Kikuchi, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

Tohoku University's Chemistry Summer School 2017　2017/08/21
Enhanced etching durability of positive-tone electron beam resists by sequential infiltration synthesis

Yuki Ozaki, Shunya Ito, Nobuya Hiroshiba, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

Tohoku University's Chemistry Summer School 2017　2017/08/21
Print and Imprint Method for Fabricating Gold Microelectrodes International-presentation

Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

21st International Symposium on Advanced Display Materials & Devices (ADMD 2017)　2017/07/24
光ナノインプリントにおける in-liquid 状態での蛍光アライメント Invited

菊地英里, 石戸洋太, 松原信也, 中村貴宏, 阿部誠之, 中川勝

次世代リソグラフィ(NGL)ワークショップ2017　2017/07/18

More details Close

ポスター（招待）
サブ 15nm 光ナノインプリント成形における界面分子科学 Invited

伊東駿也, 粕谷素洋, 川崎健司, 鷲谷隆太, 島崎譲, 宮内昭浩, 栗原和枝, 中川勝

次世代リソグラフィ(NGL)ワークショップ2017　2017/07/18

More details Close

ポスター（招待）
ナノインプリントアライメントにおける蛍光モアレの理論と実測

菊地英里, 石戸洋太, 松原信也, 中村貴宏, 阿部誠之, 中川勝

高分子・ハイブリッド材料研究センター 2017 PHyMシンポジウム　2017/06/16
低粘度モノマーを介したシリカ表面間に生じる表面力の再現性

伊東駿也, 粕谷素洋, 栗原和枝, 中川勝

高分子・ハイブリッド材料研究センター 2017 PHyMシンポジウム　2017/06/16
Reproducible surface forces between VUV-exposed silica surfaces in a moisture-sensitive oleophilic diacrylate monomer liquid International-presentation

Shunya Ito, Motohiro Kasuya, Kazue Kurihara, Masaru Nakagawa

The 61st International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication(EIPBN2017)　2017/05/30
Fabrication of Polyimide Screen Masks with Through Holes by Laser Drilling for Print and Imprint Method International-presentation

Takahiro Nakamura, Kento Seki, Shinya Sato, Mari Kumagai, Masaru Nakagawa, Kazuro Nagase

The 61st International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication(EIPBN2017)　2017/05/30
In-liquid alignment detection by fluorescence moire fringes for print and imprint method International-presentation

Eri Kikuchi, Yota Ishito, Shinya Matsubara, Takahiro Nakamura, Masayuki Abe, Masaru Nakagawa

The 61st International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication(EIPBN2017)　2017/05/30
Print and Imprint method for Nanoimprint lithography with high-viscosity photo-curable resins International-presentation Invited

Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

2017 International Conference on Electronics Packaging (ICEP2017)　2017/04/21
サブ波長三角孔を配列したAl薄膜の光誘起横起電力

岩田健吾, 矢野春菜, 松原正和, 中川勝, 石原照也

日本物理学会第72回年次大会（2017年）　2017/03/17
Print and Imprint法によるマイクロ電極作製に向けた残膜厚均一化の検討

関健斗, 中村貴宏, 佐藤慎弥, 熊谷真莉, 永瀬和郎, 中川勝

第64回応用物理学会春季学術講演会　2017/03/14
シングルナノパターニングに向けた界面分子科学からのアプローチ

伊東駿也, 中川勝

第64回応用物理学会春季学術講演会　2017/03/14
ナノトレンチへの埋め込みによる可溶性導電性高分子ナノワイヤの作製と評価

畔柳志帆, 宮崎孝道, Heo Shinae, 杉安和憲, 中川勝, 若山裕

第64回応用物理学会春季学術講演会　2017/03/14
インプリントアライメントに向けた蛍光モアレの観察

菊地英里, 石戸洋太, 松原信也, 中村貴宏, 阿部誠之, 中川勝

第64回応用物理学会春季学術講演会　2017/03/14
Print and Imprint法に向けたピコ秒パルスレーザーによる異なるエンジニアリングプラスチックフィルムへの貫通孔の形成加工

関健斗, 中村貴宏, 永瀬和郎, 中川勝

第64回応用物理学会春季学術講演会　2017/03/14
逐次浸透合成によるポジ型電子線レジストのドライエッチング速度の低下挙動

尾?優貴, 伊東駿也, 廣芝伸哉, 中村貴宏, 中川勝

2016年度高分子・ハイブリッド材料研究センター（PHyM）若手フォーラム　2017/02/27
シングルナノ造形にむけた研究

落合研斗, 菊地英里, 中村貴宏, 中川勝

2016年度高分子・ハイブリッド材料研究センター（PHyM）若手フォーラム　2017/02/27
シングルナノ造形にむけた研究 Invited

中川勝, 伊藤駿也

2017年第1回ナノインプリント技術研究会　2017/02/17
レーザ加工を活用したPrint and Imprint法 Invited

中村貴宏, 関健斗, 中川勝

第86回レーザ加工学会講演会　2016/12/12
Specific dry etching behavior of 10 nm-diameter holes of resist patterns in electron beam lithography

Eri Kikuchi, Shunya Ito, Masaru Nakagawa

第16回東北大学多元物質科学研究所研究発表会　2016/12/07
Print and imprint for nanofabrication International-presentation

Takahiro Nakamura, Kento Seki, Masaru Nakagawa

2nd International Conference on Photoalignment & Photopatterning in Soft Materials (PhoSM)2016　2016/11/24
Photo-induced reorientation of mesogens of nematic liquid International-presentation

Mari Kumagai, Shoishi Kubo, Nobuhiro Kawatsuki, Masaru Nakagawa

2nd International Conference on Photoalignment & Photopatterning in Soft Materials (PhoSM)2016　2016/11/24
Unidirectional orientation of nanostructures comprising nematic liquid crystalline polymers International-presentation

Shoishi Kubo, Masaru Nakagawa

2nd International Conference on Photoalignment & Photopatterning in Soft Materials (PhoSM)2016　2016/11/24
Dependence of film thickness on surface elasticity and acrylate consumption in UV-cured thin films on Au surfaces International-presentation

Haruna Yano, Xiaobin Liang, Shoichi Kubo, Nobuko Fukuda, Hirobumi Ushijima, Ken Nakajima, Masaru Nakagawa

29th International Microprocesses and Nanotechnology Conference(MNC 2016)　2016/11/08
PMMA-selective organic-inorganic hybridization using cylindrically micro-phase separated PS-block-PMMA International-presentation

Nobuya Hiroshiba, Masaru Nakagawa

29th International Microprocesses and Nanotechnology Conference(MNC 2016)　2016/11/08
Nanoimprinting silica templates with Micro-, Sub-20-nm, and 7-nm patterns fabricated by electron beam lithography International-presentation

Shunya Ito, Eri Kikuchi, Masahiko Watanabe, Yoshinari Sugiyama, Masaru Nakagawa

29th International Microprocesses and Nanotechnology Conference(MNC 2016)　2016/11/08
Growth of aluminum oxide on and in imprinted resin patterns by an atomic layer deposition technique International-presentation

Nobuya Hiroshiba, Shiho Kuroyanagi, Masaru Nakagawa

29th International Microprocesses and Nanotechnology Conference(MNC 2016)　2016/11/08
Etching durability enhanced with silane-containing additives in UV nanoimprint lithography International-presentation

Shunya Ito, Masaru Nakagawa

The 9th Integrated Molecular / Materials　2016/10/13
Screen printing of curable resins for UV nanoimprint lithography International-presentation Invited

Takahiro Nakamura, Kento Seki, Masaru Nakagawa

The 9th Integrated Molecular / Materials　2016/10/13
Visualization of microgels formed in UV-cured thin films by AFM International-presentation Invited

Haruna Yano, Masaru Nakagawa

The 9th Integrated Molecular / Materials　2016/10/13
Plasmonic nanostructures with 20 nm gaps fabricated by UV?NIL and lift?off processes International-presentation

Takuya Uehara, Calafiore Giuseppe, Scott Dhuey, Alexander Koshelev, Keiko Munechika, Simone Sassolini, Stefano Cabrini, Masaru Nakagawa

The 15th International Conference on　2016/09/26
UV nanoimprint lithography and lift-off processes for fabricating split-ring resonators with 20 nm gaps International-presentation

Takuya Uehara, Giuseppe Calafiore, Scott Dhuey, Alexander Koshelev, Keiko Munechica, Simone Sassolini, Stefano Cabrini, Masaru Nakagawa

42nd Micro and Nano Engineering 2016（MNE2016)　2016/09/19
ケイ素含有アクリレートモノマーの合成と光硬化薄膜のO2 RIE耐性

坂井彩華, 佐藤寛紀, 伊東駿也, 中川勝, 根本修克

第65回高分子討論会　2016/09/14
非対称ユニットセルをもつアルミニウムメタマテリアルの光整流効果

岩田健吾, 矢野春菜, 富樫拓也, 松原正和, 中川勝, 石原照也

日本物理学会 2016年秋季大会　2016/09/13
Mapping images of surface elasticity observed for UV-cured resin films by atomic force microscopy

Haruna Yano, Shoichi Kubo, Ken Nakajima, Masaru Nakagawa

Tohoku University's Chemistry Summer School 2016　2016/08/18
Photo-induced reorientation of mesogens in 30-nm-thick films of nematic crustalline polymers by photo-Fries rearrangement

Mari Kumagai, Sho Kobayashi, Kubo Shoichi, Masaru Nakagawa

Tohoku University's Chemistry Summer School 2016　2016/08/18
Directed self-assembly of polystyrene-block-poly(methyl methacrylate) in resin trenches fabricated using UV nanoimprinting

Tetsuhisa Kanahara, Ryo Okubo, Nobuya Hiroshiba, Masaru Nakagawa

Tohoku University's Chemistry Summer School 2016　2016/08/18
界面での光Fries転移型ネマチック液晶高分子の光配向

熊谷真莉, 中川勝

第44回東北地区高分子若手研究会夏季ゼミナール　2016/08/09
ビスフェノール含有光硬化性樹指を用いた光ナノインプリントリソグラフィによる熱酸化SiO2 膜の加工

畔柳志帆, 中川勝, 若山裕

第44回東北地区高分子若手研究会夏季ゼミナール　2016/08/09
Nanoscale surface elasticity of photo-cured thin films for UV nanoimprint lithography International-presentation

Haruna Yano, Shoichi Kubo, Ken Nakajima, Masaru Nakagawa

The 3rd CWRU-Tohoku Joint workshop　2016/08/09
Material and Processing Science in Nanoimprint Lithography International-presentation

Masaru Nakagawa, Nobuya Hiroshiba, Takahiro Nakamura

The 3rd CWRU-Tohoku Joint workshop　2016/08/09
Photo-functional Material Chemistry leading to Nanoimprint Lithography International-presentation

Masaru Nakagawa, Nobuya Hiroshiba, Takahiro Nakamura

The 3rd CWRU-Tohoku Joint workshop　2016/08/09
ピコ秒パルスレーザー穴あけ加工によるポリイミド孔版の作製と光硬化性液体の位置選択的塗布 International-presentation

中村貴宏, 関健斗, 永瀬和郎, 中川勝

応用物理学会次世代リソグラフィ（NGL）技術研究会ワークショップ2016　2016/07/07
光硬化樹脂薄膜の表面弾性率マッピング像における膜厚依存性に関する考察 International-presentation

矢野春菜, 久保祥一, 中川勝, 梁暁斌, 藤波想, 中嶋健

応用物理学会次世代リソグラフィ（NGL）技術研究会ワークショップ2016　2016/07/07
Fabrication of split-ring resonator arrays with 20-nm-wide gaps fabricated by UV nanoimprint lithography International-presentation

Takuya Uehara, Giuseppe Calafiore, Scott Dhuey, Alexander Koshelev, Keiko Munechica, Simone Sassolini, Stefano Cabrini, Masaru Nakagawa

The First A3 Metamaterials Forum(A3MMF)　2016/07/05
Monitoring thermally induced cylindrical microphase separation of polystyrene-block-poly(methyl methacrylate) by atomic force microscopy International-presentation

Nobuya Hiroshiba, Ryo Okubo, Azusa N. Hattori, Hidekazu Tanaka, Masaru Nakagawa

The 33rd International Conference of Photopolymer Science and Technology　2016/06/22
Anisotropic oxygen reactive ion etching for removing a residual layer of 45-nm-linewidth imprint patterns International-presentation

Takuya Uehara, Shoichi Kubo, Nobuya Hiroshiba, Masaru Nakagawa

The 33rd International Conference of Photopolymer Science and Technology　2016/06/22
ナノインプリントリソグラフィの総合科学技術を目指して

中川勝

高分子・ハイブリッド材料研究センター2016PHyMシンポジウム　2016/06/15
高粘性光硬化性組成物の精密配置に向けたポリイミド孔版の作製

関健斗, 中村貴宏, 中川勝

高分子・ハイブリッド材料研究センター2016PHyMシンポジウム　2016/06/15
光硬化樹脂薄膜のレジスト機能のナノスケールでの均一性に関する研究

矢野春菜, 久保祥一, 中嶋健, 中川勝

高分子・ハイブリッド材料研究センター2016PHyMシンポジウム　2016/06/15
Viscosity range of UV-curable resins usable in screen printing with polyimide through-hole membrane masks for sub-100 nm-wide imprint patterns International-presentation Invited

Takuya Uehara, Akiko Onuma, Akira Tanabe, Hiroaki Ikedo, Kazuro Nagase, Nobuya Hiroshiba, Takahiro Nakamura, Masaru Nakagawa

The 60th International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication(EIPBN 2016)　2016/05/31
膜厚サブ50 nmのネマチック液晶高分子薄膜での光Fries転位によるメソゲンの光配向挙動

熊谷真莉, 久保祥一, 川月喜弘, 中川勝

第65回高分子学会年次大会　2016/05/25
超短パルスレーザー穴あけ加工によるナノインプリント技術に資する光硬化性液滴の精密配置用孔版の作製

中村貴宏, 関健斗, 永瀬和郎, 中川勝

第65回高分子学会年次大会　2016/05/25
光ナノインプリントリソグラフィでの量産離型に向けた光硬化性樹脂の開発と誘導自己組織化への展開

中川勝, 廣芝伸哉, 服部梓, 田中秀和

物質・デバイス領域共同研究拠点平成27年度成果報告会　2016/05/17
小分子ナノインプリントレジストへ向けた三脚型トリプチセン分子集積膜のエッチング特性

福島孝典, 松谷晃宏, 石割文崇, 庄子良晃, 上原卓也, 中川勝

物質・デバイス領域共同研究拠点キックオフシンポジウム及び活動報告会　2016/04/26
フェムト秒パルスレーザーを用いて作製したポリイミド孔版のホール形状と光硬化性液体の吐出量の関係

田辺明, 大町弘毅, 中村貴宏, 佐藤俊一, 中川勝

第63回応用物理学会春季学術講演会　2016/03/19
PS-block-PMMAの選択的有機-無機ハイブリッド化〜Semi-static mode とcontinuous flow modeでの比較〜

廣芝伸哉, 中川勝

第63回応用物理学会春季学術講演会　2016/03/19
光ナノインプリント法により作製したsub-100 nm樹脂ガイドのトレンチ内でのpolystyrene-block-poly(methyl methacrylate)の誘導自己組織化

金原徹尚, 大窪諒, 廣芝伸哉, 中川勝

第63回応用物理学会春季学術講演会　2016/03/19
原子間力顕微鏡で観察される膜厚sub-100 nmでの光硬化樹脂薄膜における表面弾性率の膜厚依存性

矢野春菜, 久保祥一, 中川勝, 藤浪想, 中嶋健

第63回応用物理学会春季学術講演会　2016/03/19
Fabrication of through-hole membranes by laser drilling for discharging UV-curable liquids in UV nanoimprint lithography

関健斗, 永瀬和郎, 中村貴宏, 廣芝伸哉, 中川勝, 中村貴宏

第63回応用物理学会春季学術講演会　2016/03/19
光を利用した界面機能分子制御材料の開発 Invited

中川勝

ポリマーフロンティア21講演会　2016/03/10
光Fries転位型ネマチック液晶共重合体の合成と薄膜での光配向挙動

熊谷真莉, 久保祥一, 川月喜弘, 中川勝

高分子・ハイブリッド材料研究センター 2015 若手フォーラム　2016/03/04
光ナノインプリント樹脂ガイドでのポリスチレン-ポリメタクリル酸メチルブロック共重合体の誘導自己組織化

金原徹尚, 大窪諒, 廣芝伸哉, 中川勝

高分子・ハイブリッド材料研究センター 2015 若手フォーラム　2016/03/04
ナノインプリントリソグラフィの総合科学技術の創出に向けて Invited

中川勝

高分子学会有機エレクトロニクス研究会　2016/01/21
ナノインプリントリソグラフィの現状と界面機能分子制御 Invited

中川勝

第25回光反応・電子用材料研究会講座　2016/01/20
ナノインプリントリソグラフィにおけるSub-20nmでの課題 Invited

中川勝

第6回リソグラフィ将来技術調査専門委員会　2016/01/15
スクリーン印刷 − 光ナノインプリントリソグラフィ法の開発

田辺明, 上原卓也, 永瀬和郎, 池戸裕明, 廣芝伸哉, 中村貴宏, 中川勝

第15回東北大学多元物質科学研究所研究発表会　2015/12/22
キラルネマチック相の発現を目指した単峰性ランダム共重合体の合成と物性

袖村巧, 久保祥一, 樋口博紀, 菊池裕嗣, 中川勝

第15回東北大学多元物質科学研究所研究発表会　2015/12/22
Liquid crystalline properties and photochemical behaviors of amphiphilic nematic liquid crystalline diblock copolymers containing photo-crosslinkable mesogens International-presentation

Shoichi Kubo, Sho Kobayashi, Nobuhiro Kawatsuki, Masaru Nakagawa

Pacifichem2015　2015/12/15
ナノ触診AFMによる光ナノインプリントレジストの開発

畔柳志帆, 伊東駿也, 梁暁斌, 中嶋健, 中川勝

2015高分子学会東北支部研究発表会　2015/11/12
光示差走査熱量測定による光ナノインプリント用光硬化性組成物の重合性基消費率の検討

佐藤慎弥, 伊東駿也, 中川勝

2015高分子学会東北支部研究発表会　2015/11/12
UV-NIL用ケイ素含有光硬化性添加剤の合成とドライエッチング耐性(?)

佐藤寛紀, 伊東駿也, 中川勝, 綿貫公人, 目黒友康, 根本修克

2015高分子学会東北支部研究発表会　2015/11/12
Chlorine-based inductively coupled plasma etching of GaAs using ｊanus-type triptycene (TripC12) as a nanoimprint resist mask International-presentation

Akihiro Matsutani, Fumitaka Ishiwari, Yoshiaki Shoji, Takuya Uehara, Masaru Nakagawa, Takanori Fukushima

28th International Microprocesses and Nanotechnology Conference(MNC 2015)　2015/11/10
Discharge of droplets of viscous UV-curable resins by screen printing for UV nanoimprint lithography International-presentation

Akira Tanabe, Takuya Uehara, Kazuro Nagase, Hiroaki Ikedo, Nobuya Hiroshiba, Masaru Nakagawa

28th International Microprocesses and Nanotechnology Conference(MNC 2015)　2015/11/10
Development of silicon-containing additives to improve etching durability for sub-50 nm patterning by UV nanoimprint lithography International-presentation

Shunya Ito, Hiroki Sato, Kimihito Watanuki, Nobukatsu Nemoto, Masaru Nakagawa

28th International Microprocesses and Nanotechnology Conference(MNC 2015)　2015/11/10
Anisotropic oxygen reactive ion etching for residual layer removal of UV nanoimprinted 45-nm-wide line patterns International-presentation

Takuya Uehara, Shoichi Kubo, Nobuya Hiroshiba, Masaru Nakagawa

28th International Microprocesses and Nanotechnology Conference(MNC 2015)　2015/11/10
Fabrication of sub-100 nm size steep resist patterns by UV nanoimprinting and oxygen reactive ion etching International-presentation

Takuya Uehara, Shoichi Kubo, Nobuya Hiroshiba, Masaru Nakagawa

The 14th International Conference on Nanoimprint & Nanoprint Technology(NNT 2015)　2015/10/22
光硬化樹脂薄膜のナノスケールで不均一な表面弾性率とエッチング耐性

久保祥一, 矢野春菜, 上原卓也, 中川勝, 梁暁斌, 藤波想, 中嶋健

第64回高分子討論会　2015/09/15
光ナノインプリント‐原子層堆積法によるナノ造形 (?)〜異なる化学構造のモノマーで形成された樹脂パターン上へのAl2O3堆積〜

畔柳志帆, 廣芝伸哉, 中川勝

第64回高分子討論会　2015/09/15
酸素反応性イオンエッチングによる線幅45 nm光硬化樹脂パターンの残膜除去

上原卓也, 廣芝伸哉, 中川勝

第64回高分子討論会　2015/09/15
重合性基消費率の異なる紫外線硬化薄膜のドライエッチング耐性評価

佐藤慎弥, 畔柳志帆, 伊東駿也, 中川勝

第64回高分子討論会　2015/09/15
PS-b-PMMAミクロ相分離構造のsub-100 nm ガイドパターンでの誘導自己組織化

廣芝伸哉, 大窪諒, 中川勝, 服部梓, 田中秀和

第64回高分子討論会　2015/09/15
界面機能分子制御に立脚したナノインプリントリソグラフィ

中川勝

2015年度精密工学会秋季大会学術講演会　2015/09/04
Al2O3 growth behaviors on UV-nanoimprinted patterns by chemical vapor deposition

畔柳志帆, 廣芝伸哉, 早川竜馬, 若山裕, 中川勝

第43回東北地区高分子若手研究会夏季ゼミナール　2015/07/08
UV-NILでの残膜均一化に向けたスクリーン印刷法

田辺明, 上原卓也, 廣芝伸哉, 中川勝

第43回東北地区高分子若手研究会夏季ゼミナール　2015/07/08
単峰性ネマチック液晶高分子へのキラル分子の相溶化部位の導入

袖村巧, 久保祥一, 樋口博紀, 菊池裕嗣, 中川勝

第43回東北地区高分子若手研究会夏季ゼミナール　2015/07/08
Graphoepitaxy法によるブロック共重合体の誘導自己組織化に向けたサブ50 nmシリコンガイドの作製

伊東駿也, 中川勝

第43回東北地区高分子若手研究会夏季ゼミナール　2015/07/08
サブ20nmの直径を有する炭素被覆モールド空隙への光硬化性組成物の充填挙動

中川勝, 中谷顕史, 廣芝伸哉

次世代リソグラフィー（NGL)ワークショップ2015　2015/07/06
光ナノインプリントリソグラフィに向けた高粘性光硬化性組成物のスクリーン印刷

廣芝伸哉, 田辺明, 上原卓也, 中川勝

次世代リソグラフィー（NGL)ワークショップ2015　2015/07/06
界面機能分子制御に立脚したナノインプリントリソグラフィ Invited

中川勝

先端ナノデバイス・材料テクノロジー第151委員会平成27年度第1回合同研究会　2015/07/03
ナノインプリント樹脂パターンへのアルミナ堆積

畔柳志帆, 廣芝伸哉, 中川勝

高分子・ハイブリッド材料研究センター 2015 PHyMシンポジウム　2015/06/17
ナノインプリントとスクリーン印刷技術の融合

田辺明, 中川勝

高分子・ハイブリッド材料研究センター 2015 PHyMシンポジウム　2015/06/17
光ナノインプリント‐原子層堆積法によるナノ造形 (III)〜モノマーの化学構造に着目した Al2O3 成膜様式の考察〜

畔柳志帆, 廣芝伸哉, 中川勝

第64回高分子学会年次大会　2015/05/27
非液晶性部位をランダムに導入した単峰性ネマチック液晶高分子に対するキラル分子の相溶性

袖村巧, 久保祥一, 樋口博紀, 菊池裕嗣, 中川勝

第64回高分子学会年次大会　2015/05/27
ラジカル重合型光硬化樹脂薄膜の表面弾性率の原子間力顕微鏡による解析

久保祥一, 矢野春菜, 中川勝, 梁暁斌, 藤波想, 中嶋健

第64回高分子学会年次大会　2015/05/27
Rapid growth in 30 seconds of thermally induced microphase-separation of PS-b-PMMA for directed self-assembly lithography International-presentation

Nobuya Hiroshiba, Ryo Okubo, Masaru Nakagawa, Azusa N. Hattori, Hidekazu Tanaka

The 59th International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and nanofabrication(EIPBN2015）　2015/05/26
ナノインプリントリソグラフィーの科学 Invited

Masaru Nakagawa

第209回フォトポリマー懇話会　2015/04/24
Rapid growth of thermally induced microphase-separation of PS-b-PMMA for lithography application International-presentation

Nobuya Hiroshiba, Ryo Okubo, Masaru Nakagawa

Photomask Japan 2015（PMJ2015）　2015/04/21
Discharge of high-viscous UV-curable resins by screen printing for UV nanoimprint lithography International-presentation

Takuya Uehara, Kazuro Nagase, Akira Tanabe, Nobuya Hiroshiba, Hiroaki Ikedo, Masaru Nakagawa

Photomask Japan 2015（PMJ2015）　2015/04/21
Rapid growth behavior of microphase-separation structure of PS-b-PMMA for directed self-assembly lithography

廣芝伸哉, 大窪諒, 服部梓, 田中秀和, 中川勝

第62回応用物理学期春季学術講演会　2015/03/11
Nano-object figuration by UVN-ALD (II)〜Installation of ALD equipment and investigation of Al2O3 deposition for resin surface〜

畔柳志帆, 廣芝伸哉, 中川勝

第62回応用物理学期春季学術講演会　2015/03/11
Nano-scale heterogeneity of surface elasticity observed for thin resin films cured by radical photopolymerization

矢野春菜, 久保祥一, 中川勝, 梁暁斌, 藤波想, 中嶋健

第62回応用物理学期春季学術講演会　2015/03/11
Control of the amount of UV-curable resin droplets discharged by screen printing for equalizing a residual layer thickness after UV nanoimprint

田辺明, 上原卓也, 永瀬和郎, 池戸裕明, 廣芝伸哉, 中川勝

第62回応用物理学期春季学術講演会　2015/03/11
sub-20 nmの孔径を有する炭素被覆モールドを用いた光硬化性組成物の充填に関する研究

中川勝, 中谷顕史, 干川康人, 京谷隆

第62回応用物理学期春季学術講演会　2015/03/11
光硬化樹脂薄膜の表面弾性率の原子間力顕微鏡による解析

矢野春菜, 久保祥一, 中川勝, 藤波想, 梁暁斌, 中嶋健

2014 高分子・ハイブリッド材料研究センター（PHyM）若手フォーラム　2014/12/12
光ナノインプリント・原子層堆積法を用いたsub-100 nm樹脂パターンへのAl2O3堆積

畔柳志帆, 廣芝伸哉, 早川竜馬, 若山裕, 中川勝

2014 高分子・ハイブリッド材料研究センター（PHyM）若手フォーラム　2014/12/12
Miscibility of chiral dopants to a unimodal nematic liquid crystalline polymer

袖村巧, 久保祥一, 樋口博紀, 菊池裕嗣, 中川勝

第24回日本MRS年次大会　2014/12/10
光反応性メソゲン含有ポリメタクリレートをサブユニットとする両親媒性ジブロック共重合体の液晶性

久保祥一, 小林翔, 川月喜弘, 中川勝

第14回東北大学多元物質科学研究所研究発表会　2014/12/05
光ナノインプリント-原子層堆積法を用いた３次元ナノ造形

廣芝伸哉, 畔柳志帆, 早川竜馬, 若山裕, 中川勝

第14回東北大学多元物質科学研究所研究発表会　2014/12/05
光ナノインプリント‐原子層堆積法によるナノ造形（?）〜Sub-100 nm樹脂パターンへのAl2O3成膜〜

畔柳志帆, 廣芝伸哉, 早川竜馬, 若山裕, 中川勝

2014高分子学会東北支部研究発表会　2014/11/13
原子間力顕微鏡によるラジカル重合型光硬化樹脂薄膜の表面弾性率マッピング

矢野春菜, 久保祥一, 中川勝, 藤波想, 梁暁斌, 中嶋健

2014高分子学会東北支部研究発表会　2014/11/13
PS-b-PMMA単層および2層薄膜の200℃における相分離の高速形成挙動

大窪諒, 廣芝伸哉, 久保祥一, 中川勝

2014高分子学会東北支部研究発表会　2014/11/13
Reverse tone UV nanoimprint lithography with fluorescent UV-curable resin International-presentation

Takuya Uehara, Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

27th International Microprocesses and Nanotechnology Conference（MNC 2014)　2014/11/04
Fabrication of Si nanoguide structures with a few tens of nm pitch using ultraviolet nanoimprint lithography International-presentation

Azusa N. Hattori, Shunya Ito, Ryo Okubo, Masaru Nakagawa, Hidekazu Tanaka

The 7th International Symposiumon Surface Science（ISSS-7）　2014/11/02
UV nanoimprinting using carbon-coated anodic aluminum oxide molds with sub-20 nm holes International-presentation

Akifumi Nakaya, Masaru Nakagawa

International Symposium on Integrated Molecular/Materials Science and Engineering (IMSE2014)　2014/11/01
UV nanoimprint lithography with two fluorescent UV-curable resins International-presentation Invited

Takuya Uehara, Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

International Symposium on Integrated Molecular/Materials Science and Engineering (IMSE2014)　2014/11/01
Selection of additives to decrease demolding energies in UV nanoimprinting International-presentation

Shunya Ito, Masaru Nakagawa

International Symposium on Integrated Molecular/Materials Science and Engineering (IMSE2014)　2014/11/01
Rapid curing for UV-nanoimprinting International-presentation

Yota Ishito, Masaru Nakagawa

International Symposium on Integrated Molecular/Materials Science and Engineering (IMSE2014)　2014/11/01
Liquid crystalline property of a unimodal nematic liquid crystalline polymer with a chiral dopant International-presentation

Takumi Sodemura, Shoichi Kubo, Hiroki Higuchi, Hirotsugu Kikuchi, Masaru Nakagawa

International Symposium on Integrated Molecular/Materials Science and Engineering (IMSE2014)　2014/11/01
Uniform residual layer thickness in UV-NIL achieved by screen printing with high-viscosity resins International-presentation

Takuya Uehara, Kazuro Nasase, Akira Tanabe, Hiroaki Ikedo, Masaru Nakagawa

13th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT 2014)　2014/10/22
Nanoimprint molds of carbon-coated anodic aluminum oxide films with sub-20 nm hole structures International-presentation

Akifumi Nakaya, Yasuto Hoshikawa, Haruya Kasa, Junji Nishii, Takashi Kyotani, Masaru Nakagawa

13th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT 2014)　2014/10/22
Monolayer-assisted nanoimprint lithography to fabricate visible frequency metamaterials International-presentation

Shoichi Kubo, Takuya Uehara, Masaru Nakagawa

13th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT 2014)　2014/10/22
Investigation of the minimum UV-exposure period for high-throughput UV nanoimprinting International-presentation

Yota Ishito, Masaru Nakagawa

13th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT 2014)　2014/10/22
Development of silicon-containing additives for UV nanoimprint lithography to improve durability of resist material to O2 reactive ion etching International-presentation

Shunya Ito, Hiroki Sato, Yuhei Tasaki, Yukuke Honda, Nobukatsu Nemoto, Masaru Nakagawa

13th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT 2014)　2014/10/22
熱ナノインプリント成形したポリジメチルシロキサングラフト化ポリイミド膜の物質選択透過性

中谷顕史, 平孝介, 小田龍馬, 長瀬裕, 中川勝

第63回高分子討論会　2014/09/24
Science in Nanoimprint Lithography Invited

中川勝

第63回高分子討論会　2014/09/24
単峰性ネマチック液晶高分子の誘導自己組織化による機能性ナノ構造

久保祥一, 中川勝

第63回高分子討論会　2014/09/24
光ナノインプリントプロセスの高速化を目指した最短成型時間に関する考察

石戸洋太, 中川勝

第63回高分子討論会　2014/09/24
スクリーン印刷法による光ナノインプリント成形体の残膜均一化

上原卓也, 永瀬和郎, 田辺明, 池戸裕明, 中川勝

第63回高分子討論会　2014/09/24
Sub-20 nm構造を有する炭素被覆陽極酸化アルミニウムモールドの作製とナノインプリント転写

中谷顕史, 干川康人, 笠晴也, 西井準治, 京谷隆, 中川勝

第63回高分子討論会　2014/09/24
Innovative Nanoimprint Lithography International-presentation

Shinji Matsui, Hiroshi Hiroshima, Yoshihiko Hirai, Masaru Nakagawa

Advanced Architectures in Photonics 2014　2014/09/21
連続UVナノインプリントにおける離型層劣化と離型力の関係の検討

伊吉就三, 岡田真, 春山雄一, 松井真二, 中川勝, 廣島洋

第75回応用物理学会秋季学術講演会　2014/09/17
Cl2-誘導結合型プラズマエッチングにおけるヤヌス型トリプチセンTripC12 のエッチング特性の評価

松谷晃宏, 石割文崇, 庄子良晃, 上原卓也, 中川勝, 福島孝典

第75回応用物理学会秋季学術講演会　2014/09/17
Reverse tone UV nanoimprint lithography for fabricating sub-100nm size Au split-ring resonators Invited

Takuya Uehara, Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

Tohoku University's Chemistry Summer School 2014　2014/08/24
誘電体多層膜フィルタを組み込んだ光通信波長帯用自己形成光導波路

石戸洋太, 郷田将, 杉原興浩, 中川勝

第42回東北地区高分子若手研究会夏季ゼミナール　2014/07/28
光メタマテリアルを目指したナノインプリントリソグラフィ

上原卓也, 久保祥一, 中川勝

第42回東北地区高分子若手研究会夏季ゼミナール　2014/07/28
加熱成型したグラフト化ポリイミド膜のパーベーパレーション特性

中谷顕史, 中川勝

第42回東北地区高分子若手研究会夏季ゼミナール　2014/07/28
ポリスチレン含有ブロックコポリマー薄膜のミクロ相分離構造観察

大窪諒, 久保祥一, 廣芝伸哉, 中川勝

第42回東北地区高分子若手研究会夏季ゼミナール　2014/07/28
界面機能分子制御によるナノ構造機能材料の創製

伊東駿也, 袖村巧, 久保祥一, 中川勝

材料フェスタ in 仙台　2014/07/28
Surface-assisted unidirectional orientation of nematic liquid crystalline polymer-grafted inorganic nanorods International-presentation

Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

The18th International Symposium on Advanced Display Materials and Devices (ADMD 2014)　2014/07/23
Decrease of demolding energy in UV nanoimprinting using molecular and macromonomer fluorinated additives International-presentation

Shunya Ito, Masaru Nakagawa

The18th International Symposium on Advanced Display Materials and Devices (ADMD 2014)　2014/07/23
光ナノインプリントリソグラフィで作製した誘導自己組織化用シリコンガイド

伊東駿也, 中川勝

応用物理学会次世代リソグラフィ（NGL）技術研究会ワークショップ2014　2014/07/17
凝縮性ガス雰囲気を用いた革新的光ナノインプリントリソグラフィ

松井真二, 廣島洋, 平井義彦, 中川勝

応用物理学会次世代リソグラフィ（NGL）技術研究会ワークショップ2014　2014/07/17
リバーサル光ナノインプリントにおける光硬化性蛍光組成物

上原卓也, 久保祥一, 中川勝

応用物理学会次世代リソグラフィ（NGL）技術研究会ワークショップ2014　2014/07/17
UVナノインプリントにおける光硬化性樹脂の最適添加剤の探索

伊吉就三, 岡田真, 春山雄一, 山下恒雄, 中川勝, 廣島洋, 松井真二

応用物理学会次世代リソグラフィ（NGL）技術研究会ワークショップ2014　2014/07/17
Nanoimprint lithography based on molecular control of interface function Invited

中川勝

第2回マイクロ・ナノ加工研究会　2014/07/01
光ナノインプリントにおける離型促進効果を示す低分子・高分子フッ素系添加剤の探索

伊東駿也, 中川勝

高分子・ハイブリッド材料研究センター2014PHyM シンポジウム　2014/06/06
リバースプロセスを用いた光ナノインプリントリソグラフィによるsub-100nm 金構造体の作製

上原卓也, 久保祥一, 中川勝

高分子・ハイブリッド材料研究センター2014PHyM シンポジウム　2014/06/06
次世代デバイスへ向けた先進ナノ構造制御

廣芝伸哉, 久保祥一, 中川勝

附置研究所間アライアンスによるナノとマクロをつなぐ物質・デバイス・システム創製戦略プロジェクト平成25年度アライアンス報告会　2014/05/30
自己形成光導波路を用いた光通信帯用光分波モジュールの作製

郷田将, 石戸洋太, 中川勝, 杉原興浩

第63回高分子学会年次大会　2014/05/28
光架橋部位をランダムに導入したサブユニットを有する両親媒性ジブロック共重合体の合成と液晶性

久保祥一, 小林翔, 川月喜弘, 中川勝

第63回高分子学会年次大会　2014/05/28
光ナノインプリントリソグラフィによる誘導自己組織化に資するシリコンガイドの作製

中川勝, 服部梓, 伊東駿也, 小林敬, 田中秀和

第63回高分子学会年次大会　2014/05/28
ケイ素含有光硬化性有機材料の合成とドライエッチング耐性の評価

佐藤寛紀, 伊東駿也, 中川勝, 田崎裕平, 本多勇介, 根本修克

第63回高分子学会年次大会　2014/05/28
キラル分子を添加した単峰性ネマチック液晶高分子の液晶相の同定

袖村巧, 久保祥一, 樋口博紀, 菊池裕嗣, 中川勝

第63回高分子学会年次大会　2014/05/28
Fabrication of sprit-ring resonator arrays towards visible frequency metamaterials by monolayer-assisted nanoimprint lithography International-presentation

Shoichi Kubo, Tatsuya Tomioka, Takuya Uehara, Masaru Nakagawa, Morihisa Hoga, Takuo Tanaka

META’14, the 5th International Conference on Metamaterials, Photonic Crystals and Plasmonics　2014/05/20
界面機能分子制御を基盤としたナノインプリントリソグラフィ

中川勝

産総研東北センター講演会　2014/05/12
Study of Antisticking Layer Resistance on Repeated UV Nanoimprint International-presentation

Shuso Iyoshi, Makoto Okada, Tetsuya Katase, Katsuhiko Tone, Yuichi Haruyama, Masaru Nakagawa, Hiroshi Hiroshima, Shinji Matsui

Photomask Japan 2014 (PMJ)　2014/04/15
Development of UV-curable Resins Suitable for UV Nanoimprinting Using Condensable Gas International-presentation

Shunya Ito, Masaru Nakagawa

Photomask Japan 2014 (PMJ)　2014/04/15
Monolayer-assisted nanoimprint lithography for metal nano/micro fabrication International-presentation

Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

Photomask Japan 2014 (PMJ)　2014/04/15
デンドリマー型エン・チオールフォトポリマーのＵＶ硬化特性と光ナノインプリント感光材料への応用

山田正嗣, 中川勝, 平岡亜希子, 市村國宏, 青木健一

日本化学会第94春季年会　2014/03/27
サブ100 nmサイズ金構造体の作製に向けた光ナノインプリントリソグラフィ

上原卓也, 久保祥一, 中川勝

第61回応用物理学期春季学術講演会　2014/03/17
連続ＵＶナノインプリントおける離型層劣化要因の検討

伊吉就三, 岡田真, 春山雄一, 中川勝, 廣島洋, 松井真二

第61回応用物理学期春季学術講演会　2014/03/17
熱ナノインプリント法によるPMMAポリマー表面への0.3 nm原子ステップの大面積転写

譚ゴオン, 船迫友之, 三田正弘, 奥田徳路, 森潤一, 小山浩司, 中川勝, 松田晃史, 吉本護

第61回応用物理学期春季学術講演会　2014/03/17
シングルナノパターニングを目指した光ナノインプリントリソグラフィによるSiナノガイドの作製

服部梓, 伊東駿也, 中川勝, 田中秀和

第61回応用物理学期春季学術講演会　2014/03/17
光硬化性蛍光組成物によるナノインプリントプロセスの可視化

久保祥一, 中川勝

2013年度第4回シングルナノパターニング研究グループ講演会　2014/01/24
易凝縮性ガス利用光ナノインブリントに適した光硬化性組成物の開発

伊東駿也, 中川勝

2013年度第4回シングルナノパターニング研究グループ講演会　2014/01/24
ナノインプリントリソグラフィのレジスト材料 Invited

中川勝

2013年度第4回シングルナノパターニング研究グループ講演会　2014/01/24
20 nm-Class patterning using UV-curable resins suitable for UVnanoimprinting in a condensable gas International-presentation

Shunya Ito, Shu Kaneko, Masaru Nakagawa

第2回アライアンス国際シンポジウム　2014/01/21
光学活性分子を添加したネマチック液晶性高分子の特性

袖村巧, 久保祥一, 中川勝

2013PHyM若手フォーラム　2013/12/20
誘電体多層膜を用いた光通信帯用自己形成光分波モジュールの作製

郷田将, 石戸洋太, 中川勝, 杉原興浩

2013PHyM若手フォーラム　2013/12/20
ドライエッチング耐性の向上を目的としたケイ素含有添加剤の開発

伊東駿也, 田崎裕平, 中川勝, 佐藤寛紀, 本多勇介, 根本修克

第13回東北大学多元物質科学研究所研究発表会　2013/12/06
加熱成型したポリジメチルシロキサングラフト化ポリイミド膜のエタノール選択透過性

中谷顕史, 平孝介, 長瀬裕, 中川勝

第13回東北大学多元物質科学研究所研究発表会　2013/12/06
Split-ring Resonator Arrays for Visible Frequency Metamaterials Fabricated by Nanoimprint Lithography International-presentation

Shoichi Kubo, Tatsuya Tomioka, Masaru Nakagawa, Morihisa Hoga, Takuo Tanaka

MRS Fall meeting　2013/12/01
Surface density of polymerization initiator determining surface-assisted unidirectional orientation of polymer-grafted inorganic semiconductor nanorods with nematic liquid crystalline molecules International-presentation

Shoichi Kubo, Rei Taguchi, Masaru Nakagawa

MRS Fall meeting　2013/12/01
ケイ素含有モノマーを添加した光ナノインプリント用光硬化性組成物の成形とドライエッチング耐性

田崎裕平, 伊東駿也, 中川勝, 佐藤寛紀, 本多勇介, 根本修克

高分子学会東北支部研究発表会　2013/11/14
有機−無機ハイブリッド誘電体多層膜を用いた光通信帯用自己形成光分波モジュールの設計

郷田将, 石戸洋太, 中川勝, 杉原興浩

高分子学会東北支部研究発表会　2013/11/14
低分子ネマチック液晶を添加したネマチック液晶性ブロック共重合体のミクロ相分離構造形成

小林翔, 久保祥一, 小村元憲, 彌田智, 中川勝

高分子学会東北支部研究発表会　2013/11/14
Investigation of fluorinated molecular and polymer additives suitable for a viscous acrylate monomer in UV nanoimprinting International-presentation

Shunya Ito, Masaru Nakagawa

26th International Microprocesses and Nanotechnology Conference(ＮＭＣ2013)　2013/11/05
Microphase separation of a nematic liquid crystalline block copolymer thin film assisted by small nematic liquid crystalline molecules International-presentation

Shoichi Kubo, Sho Kobayashi, Shingo Hadano, Motonori Komura, Tomokazu Iyoda, Masaru Nakagawa

26th International Microprocesses and Nanotechnology Conference(ＮＭＣ2013)　2013/11/05
Au split-ring resonator arrays for visible metamaterials fabricated by nanoimprint lithography International-presentation

Takuya Uehara, Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

The 12th International Conference on　2013/10/21
Influence of thermal molding on ethanol permselectivity of polydimethylsiloxane-grafted polyimide membranes International-presentation

中谷顕史, 平孝介, 長瀬裕, 中川勝

平成25 年度化学系学協会東北大会及び日本化学会東北支部70周年記念国際会議　2013/09/28
Unique release property of UV-curable resins in UV nanoimprinting using condensable gas International-presentation

伊東駿也, 金子周, 中川勝

平成25 年度化学系学協会東北大会及び日本化学会東北支部70周年記念国際会議　2013/09/28
Synthesis and orientation control of polymer-grafted International-presentation

久保祥一, 田口怜, 林田研一, 成田麻美子, 波多野慎悟, 渡辺修, 彌田智一, 中川勝

平成25 年度化学系学協会東北大会及び日本化学会東北支部70周年記念国際会議　2013/09/28
Synthesis of the silicon-containing additives to UV-NIL resin and investigation of their dry etching resistance International-presentation

田崎裕平, 金子周, 中川勝, 根本修克, 工藤敦志, 服部貴裕

平成25 年度化学系学協会東北大会及び日本化学会東北支部70周年記念国際会議　2013/09/28
Fabrication and optical characterization of light -induced self -written waveguides incorporated with a multilayer filter comprising organic-inorganic hybird materials International-presentation Invited

石戸洋太, 上原卓也, 中川勝, 杉原興浩

International Symposium on Integrated Molecular/Materials Science and Engineering(IMSE2013)　2013/09/19
Fabrication of Au split-ring resonator arrays by UV nanoimprint lithography International-presentation Invited

上原卓也, 久保祥一, 中川勝

International Symposium on Integrated Molecular/Materials Science and Engineering(IMSE2013)　2013/09/19
Release Layer Free Acrylate Resins for UV Nanoimprinting with Unmodified Silica Molds International-presentation Invited

中川勝, 伊東駿也

International Symposium on Integrated Molecular/Materials Science and Engineering(IMSE2013)　2013/09/19
Study on the effect of additives in repeated UV nanoimprint demolding ?

伊吉就三, 岡田真, 春山雄一, 松井真二, 中川勝, 廣島洋

第74回応用物理学会秋季学術講演会　2013/09/16
Synthesis of the silicon-containing additives to UV-NIL resin and investigation of their dry etching resistance

田崎裕平, 金子周, 中川勝, 佐藤寛紀, 本多勇介, 根本修克

第62回高分子討論会　2013/09/11
Effects of release layers and fluorinated additives on release property in step-and-repeat UV nanoimprinting using condensable gas Invited

伊東駿也, 中川勝

第62回高分子討論会　2013/09/11
Uniaxial orientation of hybrid materials comprising nematic liquid crystals and inorganic semiconductor nanorods Invited

久保祥一, 田口怜, 林田研一, 成田麻美子, 波多野慎悟, 渡辺修, 彌田智一, 中川勝

第62回高分子討論会　2013/09/11
光硬化性有機‐無機ハイブリッド材料の多層膜フィルタを導入した分波型自己形成光導波路

石戸洋太, 中川勝, 杉原興浩

第41回東北地区高分子若手研究会夏季ゼミナール　2013/08/05
熱ナノインプリント成型によるポリイミド膜のピラーパターン作製

中谷顕史, 久保祥一, 中川勝

第41回東北地区高分子若手研究会夏季ゼミナール　2013/08/05
低分子液晶混合によるネマチック液晶性ブロック共重合体のミクロ相分離構造への影響

小林翔, 田口怜, 久保祥一, 多野慎悟, 小村元憲, 彌田智一, 中川勝

第41回東北地区高分子若手研究会夏季ゼミナール　2013/08/05
光ナノインプリント用光硬化性組成物の開発

金子周, 中川勝

第41回東北地区高分子若手研究会夏季ゼミナール　2013/08/05
Sub-50 nm-width Au split ring resonator arrays fabricated by UV nanoimprint lithography

上原卓也, 久保祥一, 中川勝

NGL2013 Workshop　2013/07/16
Development of UV-curable resins suitable for UV nanoimprinting using condensable gas

伊東駿也, 金子周, 中川勝

NGL2013 Workshop　2013/07/16
Innovative Nanoimprint Lithography using PFP Condensable Gas International-presentation Invited

Hiroshi Hiroshima, Masaru Nakagawa, Yoshihiko Hirai, Shinji Matsui

30th International Conference of Photopolymer Science and Technology (ICPST-30)　2013/06/25
低/高屈折率有機-無機ハイブリッド材料を用いた多層膜フィルタの作製と自己形成光導波路での分波特性

石戸洋太, 中川勝, 杉原興浩

2013PHyMシンポジウム　2013/06/12
分離膜を目指した陽極酸化アルミニウムモールドによるポリイミド膜の加熱成型

中谷顕史, 久保祥一, 中川勝

2013PHyMシンポジウム　2013/06/12
ケイ素含有官能基を持つ光硬化性モノマーの合成とドライエッチング耐性の評価

田崎裕平, 金子周, 中川勝, 服部貴裕, 工藤敦志, 根本修克

第62回高分子学会年次大会　2013/05/29
Fabrication and optical characterization of light-induced self-written waveguides incorporated with a multilayer filter comprising organic-inorganic hybrid materials

石戸洋太, 上原卓也, 中川勝, 杉原興浩

第62回高分子学会年次大会　2013/05/29
ATRP synthesis of nematic liquid crystalline block copolymers and analysis of the microphase-separated structure

小林翔, 田口怜, 久保祥一, 波多野慎悟, 小村元憲, 彌田智一, 中川勝

第62回高分子学会年次大会　2013/05/29
Fabrication of Au split-ring resonator arrays responsive to a magnetic field at a visible frequency region by UV nanoimprint lithography

上原卓也, 富岡辰弥, 久保祥一, 法元盛久, 中川勝

第62回高分子学会年次大会　2013/05/29
凝縮ガス利用光ナノインプリントに適した光硬化性組成物へのシリコーン系添加剤の導入による離型促進効果

伊東駿也, 金子周, 中川勝

第62回高分子学会年次大会　2013/05/29
Hybrid materials comprising nanorods and nematic liquid crystals toward uniaxial orientation of ZnO nanorods

久保祥一, 田口怜, 林田研一, 成田麻美子, 波多野慎悟, 渡辺修, 彌田智一, 中川勝

第62回高分子学会年次大会　2013/05/29
Au split-ring resonator arrays responsive to a magnetic field in a visible frequency region fabricated by UV nanoimprint lithography International-presentation

Takuya Uehara, Tatsuya Tomioka, Shoichi Kubo, Morihisa Hoga, Masaru Nakagawa

The 57th International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication (EIPBN2013)　2013/05/28
界面機能分子制御に基づくナノインプリントリソグラフィデバイスの創出 Invited

中川勝

バイオテンプレート研究会第3回講演会　2013/04/26
Study on the effect of additives in repeated UV nanoimprint demolding

伊吉就三, 岡田真, 春山雄一, 松井真二, 中川勝, 廣島洋

第60回応用物理学会春季学術講演会　2013/03/27
Fabrication and optical investigation of Au split-ring resonator arrays responsive to a magnetic field at a visible frequency region

富岡辰弥, 久保祥一, 中川勝, 法元盛久, 田中拓男

第60回応用物理学会春季学術講演会　2013/03/27
Investigation of Acrylate Thin Films Absorbing Pentafluoropropane

金子周, 中川勝

第60回応用物理学会春季学術講演会　2013/03/27
Innovative Nanoimprint Lithography Invited

Shinji Matsui, Hiroshi Hiroshima, Yoshihiko Hirai, Masaru Nakagawa

NPIE-JST Workshop on "Intellirent Electronics　2013/03/06
界面機能分子制御を基盤としたナノインプリントリソグラフィ技術 Invited

中川勝

先進機能表面セミナー　2013/02/26
凝縮性ガスＰＦＰに適した光ナノインプリント用光硬化性組成物 Invited

中川勝

2012年第5回ナノインプリント技術研究会　2013/02/15
酸化亜鉛ナノロッドのグラムスケール合成およびビフェニル部位を側鎖とするポリ（メタクリレート）の表面グラフト

田口怜, 久保祥一, 中川勝

2012高分子・ハイブリッド材料研究センター(PHyM)若手フォーラム　2012/12/21
ペンタフルオロプロパン利用光ナノインプリントによるサブ50 nmパターン作製と形状評価

金子周, 中川勝

2012高分子・ハイブリッド材料研究センター(PHyM)若手フォーラム　2012/12/21
Fabrication of Au nanorod and split-ring arrays by reactive-monolayer-assisted thermal nanoimprint lithography involving electrodeposition International-presentation

Shoichi Kubo, Tatsuya Tomioka, Koichi Nagase, Morihisa Hoga, Masaru Nakagawa

The 13th RIES-Hokudai International Symposium "律"[ritsu] Joined with The 1st International Symposium of Nano-Macro Materials, Devices, and System Research Alliance Project　2012/12/12
多波長変換へ向けた色素添加ポリマーマイクロアレイの作製とその蛍光解析

古川怜, 小林敬, 久保祥一, 杉原興宏, 中川勝

第12回東北大学多元物質科学研究所研究発表会　2012/12/10
熱ナノインプリントリソグラフィと電解析出による金ナノロッドおよびスプリットリング配列の作製

富岡辰弥, 久保祥一, 中川勝

第12回東北大学多元物質科学研究所研究発表会　2012/12/10
ナノインプリントリソグラフィにおける単分子膜工学 Invited

中川勝

第32回表面科学学術講演会　2012/11/20
陽極酸化アルミニウムモールドによるポリイミド膜のパターン作製

中谷顕史, 尹哲民, 鈴木沙耶花, 長瀬裕, 中川勝

2012高分子学会東北支部研究発表会　2012/11/15
単分子膜修飾金薄膜上での光硬化性樹脂の光ナノインプリント成型挙動

上原卓也, 富岡辰弥, 久保祥一, 中川勝

2012高分子学会東北支部研究発表会　2012/11/15
低/高屈折率有機-無機ハイブリッド材料を用いた多層膜フィルターの作製

石戸洋太, 上原卓也, 杉原興浩, 中川勝

2012高分子学会東北支部研究発表会　2012/11/15
Resolution limit of nanoimprinted patterns on dry or immersion fluorescence microscope observation

Shoichi Kubo, Tatsuya Tomioka, Masaru Nakagawa

Kyoto DSA Workshop　2012/11/01
Resist materials suitable for UV nanoimprinting using condensable gas

Masaru Nakagawa, Shu Kaneko

Kyoto DSA Workshop　2012/11/01
Study of the Resistance of Antisticking Layer on Repeated UV Nanoimprint International-presentation

Shuso Iyoshi, Makoto Okada, Kei Kobayashi, Shu Kaneko, Tetsuya Katase, Katsuhiko Tone, Yuichi Haruyama, Masaru Nakagawa, Hiroshi Hiroshima, Shinji Matsui

25th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2012)　2012/10/30
Ultraviolet-Curable Resins comprising a diacrylate monomer hardly absorbing condensable pentafluoropropane (PFP) gas to achieve high throughput in ultraviolet nanoimprinting using PFP International-presentation

Shu Kaneko, Cheol Yun Min, Masaru Nakagawa

第25回マイクロプロセス・ナノテクノロジー国際会議（MNC 2012)　2012/10/30
Resolution limits of fluorescent nanoimprinted patterns on fluorescence microscopic observation International-presentation

Shoichi Kubo, Tatsuya Tomioka, Masaru Nakagawa

第25回マイクロプロセス・ナノテクノロジー国際会議（MNC 2012)　2012/10/30
UV-curable resins suitable for UV-NIL in pentafluoropropane International-presentation

Masaru Nakagawa, Shu Kaneko

The 11th International Conference on Nanoimprint & Nanoprint Technology (NNT2012)　2012/10/24
Lipid-based magnetic nanomedicines for cancer International-presentation

Yoshihisa Namiki, Teruaki Fuchigami, Masaru Nakagawa, Yoshitaka Kitamoto

PACIFIC RIM MEETING ON ELECTROCHEMICAL AND SOLID-STATE SCIENSE(PRIME2012)　2012/10/07
FePt Magnetic Hollow Spheres Designed for Nano-Scale Drug Delivery System Targeted to Cancer Tumor International-presentation

Teruaki Fuchigami, Masaru Nakagawa, Yoshihisa Namiki, Yoshitaka Kitamoto

PACIFIC RIM MEETING ON ELECTROCHEMICAL AND SOLID-STATE SCIENSE(PRIME2012)　2012/10/07
色素添加ポリマーマイクロアレイの作製とその蛍光解析

古川怜, 小林敬, 久保祥一, 杉原興浩, 中川勝

第61回高分子討論会　2012/09/19
PDMSグラフト芳香族ポリイミド膜の作製と表面修飾

鈴木沙耶花, 土屋翔, 尹哲民, 中川勝, 岡村陽介, 長瀬裕

第61回高分子討論会　2012/09/19
凝縮性ガスPFP利用光ナノインプリントリソグラフィに適した光硬化性組成物の開発

金子周, 尹哲民, 中川勝

第61回高分子討論会　2012/09/19
光ナノインプリントにおけるフッ素系添加剤含有光硬化性組成物の離型特性

伊東駿也, 金子周, 尹哲民, 中川勝

第61回高分子討論会　2012/09/19
Liquid Crystallinity of Poly(methacrylate)s Containing Biphenyl Moieties Synthesized by ATRP International-presentation

Rei Taguchi, Shoichi Kubo, Shingo Hadano, Tomokazu Iyoda, Masaru Nakagawa

KJF (Korea-Japan Joint Forum) International Conference on Organic Materials for Electronics and Photonics 2012 (KJF2012)　2012/08/29
Gas Permeability of Patterned PDMS-grafted Polyimide Membranes Fabricated by Nanocasting Method International-presentation

Cheol Min Yun, Yu Nagase, Masaru Nakagawa

KJF (Korea-Japan Joint Forum) International Conference on Organic Materials for Electronics and Photonics 2012 (KJF2012)　2012/08/29
Multi-Layer Thin Film Filter Using High Refractive Index Hybrid Material International-presentation

Okihiro Sugihara, Yu Kurata, Masaru Nakagawa

KJF (Korea-Japan Joint Forum) International Conference on Organic Materials for Electronics and Photonics 2012 (KJF2012)　2012/08/29
ナノインプリントリソグラフィによるメタマテリアルの作製

久保祥一, 中川勝

附置研究所アライアンス「次世代エレクトロニクス」グループ（Ｇ1）分科会信州大学ジョイントシンポジウム　2012/08/01
光硬化性有機-無機ハイブリッド低屈折率材料を用いた高反射率誘電体多層膜フィルタの作製

上原卓也, 杉原興浩, 中川勝

第40回東北地区高分子若手研究会夏季ゼミナール　2012/07/25
低表面自由エネルギーを形成する光硬化組成物の調製と光ナノインプリントへの応用

伊東駿也, 尹哲民, 中川勝

第40回東北地区高分子若手研究会夏季ゼミナール　2012/07/25
シアノビフェニルを有するポリ(メタクリレート)のランダム共重合化による液晶性の変化

田口怜, 久保祥一, 中川勝

第40回東北地区高分子若手研究会夏季ゼミナール　2012/07/25
溶解度パラメータに基づくアクリレート化合物のペタンフルオロプロパン吸収特性の解析

金子周, 中川勝

第40回東北地区高分子若手研究会夏季ゼミナール　2012/07/25
界面化学結合型熱ナノインプリントと電解析出による金ナノ構造体の作製

富岡辰弥, 久保祥一, 中川勝

第40回東北地区高分子若手研究会夏季ゼミナール　2012/07/25
Study of Demolding Characteristics in continuous UV Nanoimprinting

伊吉就三, 岡田真, 春山雄一, 松井真二, 小林敬, 金子周, 中川勝, 廣島洋

NGL2012ワークショップ　2012/07/19
UV-cureble resins suitable for UV-NIL in pentafluoropropane Invited

Masaru Nakagawa

NGL2012ワークショップ　2012/07/19
Reactive-monolayer-assited Thermal Nanoimprint Lithography International-presentation Invited

Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

The 29th International Conference of Photopolymer Science and Technology (ICPST-29)　2012/06/26
光硬化樹脂での長鎖フルオロアルキル基の表面偏析における偏析助剤の添加効果

伊東駿也, 尹哲民, 中川勝

高分子・ハイブリッド材料研究センター2012 PHyMシンポジウム　2012/06/07
中空シリカ粒子含有低屈折率光硬化性組成物を用いた多層膜フィルター

上原卓也, 杉原興浩, 中川勝

高分子・ハイブリッド材料研究センター2012 PHyMシンポジウム　2012/06/07
界面化学結合型熱ナノインプリントリソグラフィによるメタマテリアル材料の作製

久保祥一, 富岡辰弥, 中川勝

高分子・ハイブリッド材料研究センター2012 PHyMシンポジウム　2012/06/07
Study of Demolding Characteristics in Continuous UV Nanoimprinting International-presentation

Shuso Iyoshi, Makoto Okada, Yuichi Haruyama, Shinji Matsui, Kei Kobayashi, Shu Kaneko, Masaru Nakagawa, Hiroshi Hiroshima

The 56th InternaTonal Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication(EIPBN2012)　2012/05/29
Release Layer Free Acrylate Resins for Ultraviolet Nanoimprinting Prepared by Adding Segregation Auxiliary Agents International-presentation

Shunya Ito, Cheol Min Yun, Kei Kobayashi, Masaru Nakagawa

The 56th InternaTonal Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication(EIPBN2012)　2012/05/29
Au Nanorods and Nanogap Split-Ring Structures Fabricated by Reactive-Monolayer-Assisted Thermal Nanoimprinting and Electrodeposition International-presentation

Tatsuya Tomioka, Shoichi Kubo, Koichi Nagase, Morihisa Hoga, Masaru Nakagawa

The 56th InternaTonal Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication(EIPBN2012)　2012/05/29
Fluoroalkyl-Containing Surfactants to Reduce Release Energy of UV-Cured Acrylate Resin International-presentation

Masaru Nakagawa, Yoshitaka Tsukidate

The 56th InternaTonal Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication(EIPBN2012)　2012/05/29
Preparation of UV-curable organic-inorganic hybrid materials with low refractive index for application to high reflection multilayer filters

上原卓也, 杉原興浩, 中川勝

第61回高分子学会年次大会　2012/05/29
Synthesis of zinc oxide nanorods grafting poly(methacrylate)s containing biphenyl moieties

久保祥一, 田口怜, 林田研一, 成田麻美子, 波多野慎悟, 渡辺修, 彌田智一, 中川勝

第61回高分子学会年次大会　2012/05/29
Absorption of condensable pentafluoropropane by UV-curable resins affecting morphology of resin patterns fabricated by ultraviolet nanoimprinting

金子周, 小林敬, 中川勝

第61回高分子学会年次大会　2012/05/29
Adhesive force of a UV-cured resin causing radical photopolymerization to a fluorinated silica surface with an antisticking reagent (II) - Locking for reagents reducing adhesive force

月館義隆, 中川勝

第61回高分子学会年次大会　2012/05/29
Effect of Fluoroalkyl group on the Membrane Properties of PDMS Graft Aromatic Polyimide

鈴木沙耶花, 佐藤美穂, 原田昌貴, 長瀬裕, 尹哲民, 中川勝

第61回高分子学会年次大会　2012/05/29
Separation property of nanoimprinted PDMS-grafted aromatic polyimide membranes

尹哲民, 永瀬康一, 山本清, 鈴木沙耶花, 長瀬裕, 中川勝

第61回高分子学会年次大会　2012/05/29
Surface segregation of long-chain fluoroalkyl moiety in thin films of UV-cured acrylate resins by adding segregation auxiliary agents

伊東駿也, 尹哲民, 小林敬, 中川勝

第61回高分子学会年次大会　2012/05/29
界面化学結合型熱ナノインプリントと電解析出により得られる配列した金ナノロッドおよびスプリットリング構造

富岡辰弥, 久保祥一, 永瀬康一, 法元盛久, 中川勝

第61回高分子学会年次大会　2012/05/29
Synthesis of poly(methacrylate)s containing biphenyl moieties by ATRP and characterization of their liquid crystallinity

田口怜, 久保祥一, 波多野慎悟, 彌田智一, 中川勝

第61回高分子学会年次大会　2012/05/29
Hybrid magnetic capsules composed of self-assembled monolayer of FePt nanoparticles and polymer designed for drug delivery system International-presentation

Teruaki Fuchigami, Masaru Nakagawa, Yoshihisa Namiki, Yoshitaka Kitamoto

14th International Association of Colloid and Interface Scientists (IACIS 2012)　2012/05/13
Surface segregation of 1H,1H,9H-hexadecafluorononyl acrylate in dimethacrylate resin films cured by ultraviolet light exposure International-presentation

Shunya Ito, Cheol Min Yun, Kei Kobayashi, Masaru Nakagawa

14th International Association of Colloid and Interface Scientists (IACIS 2012)　2012/05/13
Gram-scale synthesis of zinc oxide nanorods in basic ethanol solutions International-presentation

Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

14th International Association of Colloid and Interface Scientists (IACIS 2012)　2012/05/13
Noble metal mesh structures with a controlled aperture ratio fabricated by reactive-monolayer-assisted thermal nanoimprint lithography International-presentation

Shoichi Kubo, Koichi Nagase, Masaru Nakagawa

14th International Association of Colloid and Interface Scientists (IACIS 2012)　2012/05/13
Magnetically guided drug delivery system using FePt network capsule filled with anti-cancer drugs

渕上輝顕, 北本仁孝, 中川勝, 並木禎尚

電気化学会第79回大会　2012/03/29
Control of interfacial functions by molecules in UV nanoimprinting Invited

中川勝

日本化学会第92春季年会(2012)アドバンスト・テクノロジー・プログラム（ATP）　2012/03/26
Magnetic capsules with a hybrid shell composed of magnetic nanoparticles and biocompatible polymer International-presentation

Teruaki Fuchigami, Yoshitaka Kitamoto, Masaru Nakagawa, Yoshihisa Namiki

Softinterface International Mini-Symposium on Biointerface -Interface between Bio and Materials-[SIMS2012]　2012/03/17
Decrease of Surface Free Energy of Resin Films by Adding a Fluoroalkyl-Containing Acrylate

伊東駿也, 尹哲民, 小林敬, 中川勝

2012年春季第59回応用物理学関係連合講演会　2012/03/15
Au split-ring structures fabricated by reactive-monolayer-assisted thermal nanoimprinting and electrodeposition

富岡辰弥, 永瀬康一, 久保祥一, 法元盛久, 中川勝

2012年春季第59回応用物理学関係連合講演会　2012/03/15
Shear Property of Interface between Cured Resin and Release Layer in UV Nanoimprinting

遠藤彩子, 小林敬, 中川勝

2012年春季第59回応用物理学関係連合講演会　2012/03/15
Surface Science in Ultraviolet Nanoimprinting Invited

中川勝

2012年春季第59回応用物理学関係連合講演会　2012/03/15
Fabrication of replica molds for UV nanoimprinting using silica/UV-cured resin nanocomposites International-presentation

Cheol Min Yun, Shimpei Kudo, Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

JSPS-APCPI Joint Symposium on Active Polymers for Pattern Integration　2012/03/08
Thermal properties of poly(methacrylate)s tethering side-chain cyanobiphenyloxy moieties synthesized by ATRP International-presentation

Rei Taguchi, Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

JSPS-APCPI Joint Symposium on Active Polymers for Pattern Integration　2012/03/08
UVナノインプリントの離型解析と材料技術

中川勝

応用物理学会関西支部セミナー　2012/02/28
Thermal nanoimprint process and its application to separation membrane

Cheol Min Yun, Koichi Nagase, Kiyoshi Yamamoto, Yu Nagase, Masaru Nakagawa

第3回在日韓国科学技術者協会合同分科会　2012/02/25
ナノインプリントリソグラフィにおける界面機能分子制御 Invited

中川勝

第21回光反応・電子用材料研究会講座次世代パターン形成技術展望　2012/01/19
シアノビフェニル含有ポリメタクリレートのATRP法による合成と特性

久保祥一, 波多野慎悟, 彌田智一, 中川勝

PHyM若手フォーラム　2011/12/21
離型剤FAS13の表面被覆率と光ナノインプリントにおける離型性の関係

遠藤彩子, 小林敬, 中川勝

PHyM若手フォーラム　2011/12/21
シリカナノ粒子分散光硬化性組成物から作製した光ナノインプリントモールドの特性

工藤進平, 尹哲民, 永瀬康一, 久保祥一, 中川勝

PHyM若手フォーラム　2011/12/21
PFP利用光ナノインプリントにおけるアクリレートモノマーの化学構造の影響

金子周, 小林敬, 月館義隆, 中川勝

PHyM若手フォーラム　2011/12/21
貴金属メッシュ型透明導電膜上でのCu-In-Ga-Se薄膜の形成挙動

永瀬康一, 徳田剛大, 吉野賢二, 片岡浩, 花畑博之, 久保祥一, 中川勝

第11回東北大学多元物質科学研究所研究発表会　2011/12/08
Separation membranes of nanoimprinted PDMS-grafted polyimide

Cheol Min Yun, Koichi Nagase, Kiyoshi Yamamoto, Yu Nagase, Masaru Nakagawa

第11回東北大学多元物質科学研究所研究発表会　2011/12/08
離型剤の被覆率変化が光ナノインプリントの離型に与える影響

遠藤彩子, 小林敬, 中川勝

第20回ポリマー材料フォーラム　2011/11/24
フルオロアルキル構造含有アクリレートの添加による光硬化樹脂表面の撥水化と撥油化

伊東駿也, 尹哲民, 小林敬, 中川勝

2011高分子学会東北支部研究発表会　2011/11/17
Step and repeat UV nanoimprinting under pentafluoropropane gas ambient International-presentation

Shuso Iyoshi, Makoto Okada, Kei Kobayashi, Shu Kaneko, Tetsuya Katase, Katsuhiko Tone, Yuichi Haruyama, Masaru Nakagawa, Hiroshi Hiroshima, Shinji Matsui

第24回マイクロプロセス・ナノテクノロジー国際会議（MNC 2011)　2011/10/24
Silica/UV-cured resin nanocomposites for replica molds in UV nanoimprinting International-presentation

Shimpei Kudo, Cheol Min Yun, Koichi Nagase, Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

第24回マイクロプロセス・ナノテクノロジー国際会議（MNC 2011)　2011/10/24
Changes in weight and viscosity of UV-curable resins and monomers by absorbing a condensable pentafluoropropane gas effective in UV nanoimprint International-presentation

Shu Kaneko, Kei Kobayashi, Yoshitaka Tsukidate, Hiroshi Hiroshima, Shinji Matsui, Masaru Nakagawa

第24回マイクロプロセス・ナノテクノロジー国際会議（MNC 2011)　2011/10/24
Gas permeability of nanoimprinted PDMS-grafted polyimide membranes International-presentation

Cheol Min Yun, Kiyoshi Yamamoto, Koichi Nagase, Yu Nagase, Masaru Nakagawa

The 10th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT2011)　2011/10/19
Fluorinated 1-octanol working as an adhesive-force-reducing reagent for a UV-curable resin in UV nanoimprinting International-presentation

Masaru Nakagwa, Yoshitaka Tsukidate

The 10th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT2011)　2011/10/19
Fabrication of noble metal mesh structures by reactive-monolayer-assisted thermal nanoimprint lithography and their application for transparent conductive films

久保祥一, 永瀬康一, 大嶽知之, 姜義哲, 片岡浩, 山田正, 中川勝

第60回高分子討論会　2011/09/28
Investigation of structures in solution and liquid-crystalline properties of poly(cyanobiphenyloxyalkyl methacrylate)s synthesized by ATRP

久保祥一, 波多野慎吾, 彌田智一, 中川勝

第60回高分子討論会　2011/09/28
Magnetically guided drug delivery system using magnetic capsules

渕上輝顕, 河村亮, 北本仁孝, 中川勝, 並木禎尚

第35回日本磁気学会学術講演会　2011/09/27
積層型修飾によるペロブスカイト型光触媒における水分解の研究 International-presentation

石原崇弘, 森裕貴, Guijun Ma, Fuxiang Zhang, 守屋映祐, 片山正士, 久保田純, 中川勝, 堂免一成

第108回触媒討論会　2011/09/20
Application of molecular control of interface function to UV nanoimprint lithography

中川勝

日本化学会東北支部平成23年度化学系学協会東北大会　2011/09/17

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依頼
Transparent conductive polymer substrates covered with a silver fish-net structure prepared by reactive-monolayer-assisted thermal nanoimprint lithography International-presentation

Koichi Nagase, Masahiko Kawashima, Tomoyuki Ohtake, Eui-Chul Kang, Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

26th European Photovoltaic Solar Energy Conference　2011/09/05
Adhesive forces of a UV-cured resin for UV nanoimprinting affected by antisticking reagents and their surface coverages

遠藤彩子, 小林敬, 中川勝

東北地区高分子若手研究会高分子学会東北支部　2011/07/27
フォトポリマーナノコンポジット材料の光学特性と耐熱性

工藤進平, 永瀬康一, 杉原興浩, 中川勝

東北地区高分子若手研究会高分子学会東北支部　2011/07/27
Transparent conductive polymer substrates with a silver fish-net prepared by reactive-monolayer-assisted thermal nanoimprint lithography

久保祥一, 中川勝

NGLワークショップ2011　2011/07/11
Adhesive forces of a resin cured by radical photopolymerization on detachment from silica surfaces modified with antisticking reagents

遠藤彩子, 小林敬, 中川勝

NGLワークショップ2011　2011/07/11
Fluorescent UV-curable resists to evaluate nanoimprinted patterns and antisticking layers International-presentation Invited

Masaru Nakagawa

International Conference on Materials for Advanced Tschnologies (ICMAT2011)　2011/06/26
界面化学結合型熱ナノインプリントリソグラフィにより得られる透明導電銀樹脂シート

永瀬康一, 久保祥一, 中川勝

東北大学多元物質科学研究所高分子・ハイブリッド材料研究センター 2011 PHyM シンポジウム　2011/06/17
光ナノインプリントリソグラフィ用蛍光レジスト −モールド表面へのレジスト付着挙動の追跡−

小林敬, 中川勝

東北大学多元物質科学研究所高分子・ハイブリッド材料研究センター 2011 PHyM シンポジウム　2011/06/17
Resolution limit to observe nanoimprinted patterns using fluorescent molecules International-presentation

Tatsuya Tomioka, Kei Kobayashi, Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

The 6th International Symposium on Integrated Molecular/Materials Engineering(ISIMME-6)　2011/06/07
Organic-inorganic nanocomposite materials for compact waveguides fabricated by UV-nanoimprinting International-presentation

Shu Kaneko, Okihiro Sugihara, Masaru Nakagawa

The 6th International Symposium on Integrated Molecular/Materials Engineering(ISIMME-6)　2011/06/07
Phase transition behaviors of homo- and co-polymers from cyanobiphenyloxyalkyl methacrylate synthesized by ATRP International-presentation Invited

Shoichi Kubo, Shingo Hadano, Tomokazu Iyoda, Masaru Nakagawa

The 6th International Symposium on Integrated Molecular/Materials Engineering(ISIMME-6)　2011/06/07
Adhesion force of UV-cured resin increased by low surface coverage of antisticking layer International-presentation Invited

Masaru Nakagawa, Ayako Endo, Kei Kobayashi

The 6th International Symposium on Integrated Molecular/Materials Engineering (ISIMME-6)　2011/06/07
Release property of fluorinated silica surfaces for UV-curable resins evaluated by fluorescence microscopy and mechanical measurement International-presentation Invited

Masaru Nakagawa

The 55th International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication（EIPBN2011）　2011/05/31
含フッ素離型剤処理シリカ表面に対するラジカル重合型光硬化樹脂の付着力(I)−C8-アルコールの添加効果−

月館義隆, 中川勝

第60回高分子学会年次大会　2011/05/25
有機-無機複合材料を用いた小型光導波路の作製

金子周, 杉原興浩, 中川勝

第60回高分子学会年次大会　2011/05/25
単分子蛍光観測による高分子薄膜の空間的密度分布の解明

久保祥一, 羽渕聡史, Martin Vacha, 中川勝

第60回高分子学会年次大会　2011/05/25
光ナノインプリント成型したZrO2ナノ粒子分散光硬化性樹脂薄膜の耐熱性評価

工藤進平, 永瀬康一, 杉原興浩, 中川勝

第60回高分子学会年次大会　2011/05/25
ポリ(シアノビフェニルオキシアルキルメタクリレート）のATRP法による合成と相転移挙動

久保祥一, 波多野慎悟, 彌田智一, 中川勝

第60回高分子学会年次大会　2011/05/25
界面化学結合型熱ナノインプリントリソグラフィにより作製される網目状銀透明導電樹脂基板

中川勝, 久保祥一

附置研究所間アライアンス「次世代エレクトロニクス」グループ（Ｇ１）分科会琉球大学ジョイントシンポジウム　2011/05/11
光ナノインプリントにおける界面機能分子制御

中川勝

日本化学会　2011/03/26
離型剤処理シリカ表面に対するラジカル重合型光硬化樹脂の付着力 −トリメトキシシラン誘導体でのアルキル基とフルオロアルキル基の違い−

遠藤彩子, 小林敬, 中川勝

第58回応用物理学関係連合講演会　2011/03/24
乾式および液浸式蛍光顕微鏡観察におけるナノインプリントパターンの検出下限

富岡辰弥, 小林敬, 久保祥一, 中川勝

第58回応用物理学関係連合講演会　2011/03/24
界面化学結合型熱ナノインプリントリソグラフィにより作製される網目状銀透明導電樹脂基板

永瀬康一, 川島政彦, 大嶽知之, 姜義哲, 久保祥一, 中川勝

第58回応用物理学関係連合講演会　2011/03/24
高屈折率ハイブリッド材料開発と光回路応用

杉原興浩, 工藤進平, 金子周, 久保祥一, 中川勝

エレクトロニクス実装学会大会　2011/03/08
光ナノインプリントリソグラフィ用蛍光レジスト Invited

小林敬, 中川勝

NGL研究会　2011/02/22
Infiltration of a neutral aqueous solution into thin poly(styrene) films International-presentation

Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

PACIFICHEM 2010　2010/12/15
Antisticking molecular layers in UV nanoimprint lithography International-presentation Invited

Masaru Nakagawa

PACIFICHEM 2010　2010/12/15
単分子蛍光観測によるポリ(スチレン)薄膜の空間密度分布の解明

久保祥一, 羽渕聡史, Martin Vacha, 中川勝

第10回東北大学多元物質科学研究所研究発表会　2010/12/01
光ナノインプリントで成型された有機ー無機複合材料の光導波路における曲げ損失

金子周, 杉原興浩, 中川勝

第10回東北大学多元物質科学研究所研究発表会　2010/12/01
光ナノインプリント法による有機−無機複合材料の光導波路

金子周, 杉原興浩, 中川勝

2010高分子学会東北支部研究発表会　2010/11/18
蛍光顕微鏡によるナノインプリントパターンの観察方法に関する研究

富岡辰弥, 小林敬, 久保祥一, 中川勝

2010高分子学会東北支部研究発表会　2010/11/18
Adhesive force measurement of ultrathin antisticking molecular layers against a UV-cured resin for UV nanoimprint International-presentation

Ayako Endo, Kei Kobayashi, Masaru Nakagawa

JSPS/NRF 4th Joint Seminar　2010/11/11
Submicron Au line patterns fabricated by reactive-monolayer-assisted thermel nanoimprint lithography involving electrodeposition International-presentation

Koichi Nagase, Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

JSPS/NRF 4th Joint Seminar　2010/11/11
Molecular control of interfacial function in nanoimprint lithography International-presentation

Masaru Nakagawa

JSPS/NRF 4th Joint Seminar　2010/11/11
Step and Repeat UV nanoimprinting in pentafluoropropane suppressing resin adhesion to a fluorinated mold surface proved by fluorescent microscopy International-presentation

Kei Kobayashi, Shoichi Kubo, Hiroshi Hiroshima, Shinji Matsui, Masaru Nakagawa

The 23rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2010)　2010/11/09
Optical property and UV nanoimprinting of ZrO2-nanoparticles/photopolymer composites International-presentation

Shimpei Kudo, Koichi Nagase, Shoichi Kubo, Okihiro Sugihara, Masaru Nakagawa

The 23rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2010)　2010/11/09
Resist pattern Inspection using fluorescent dye-doped poly(styrene) thin films in reactive monolayer-assisted thermal nanoimprint lithography International-presentation

Shoichi Kubo, Yuko Sato, Masaru Nakagawa

The 23rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2010)　2010/11/09
Research and development on process science and CD control in high-throughput UV nanoimprint International-presentation Invited

Shinji Matsui, Hiroshima Hiroshi, Yoshihiko Hirai, Masaru Nakagawa

The 23rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2010)　2010/11/09
磁性ナノ粒子集積体の超臨界水熱処理による籠型構造微粒子の作製

北本仁孝, 渕上輝顕, 河村亮, 山崎陽太郎, 中川勝, 長瀬有貴, 並木禎尚

粉体粉末冶金協会平成22年度秋季大会　2010/11/09
ラジカル系光硬化樹脂に対するフッ化炭化水素鎖含有吸着単分子膜のはく離特性

鴻野晃洋, 中川勝

電子情報通信学会有機エレクトロニクス研究会(OME)　2010/10/22
Research and development on process science and CD control in high-throughput UV nanoimprint International-presentation

Shinji Matusi, Hiroshima Hiroshi, Yoshihiko Hirai, Masaru Nakagawa

2010 International Symposium on Lithography Extensions　2010/10/20
Evaluation of interaction between antisticking layer and UV-curable resin by scanning probe microscopy International-presentation Invited

M. Okada, M. Iwasa, Y. Haruyama, K. Kanda, K. Kuramoto, M. Nakagawa, S. Matsui

The 9th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT 2010)　2010/10/13
Flurorescent radical photopolymerization resin and its advantages in UV nanoimprinting International-presentation

Kei Kobayashi, Shoichi Kubo, Hiroshima Hiroshi, Shinji Matsui, Masaru Nakagawa

The 9th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT 2010)　2010/10/13
Reactive-monolayer-assisted thermal nanoimprint lithography for fine metal patterning International-presentation

Shoichi Kubo, Koichi Nagase, Masaru Nakagawa

The 9th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT 2010)　2010/10/13
界面化学結合型熱ナノインプリントリソグラフィにより得られる電解析出金パターン

永瀬康一, 久保祥一, 中川勝

平成22年度化学系学協会東北大会　2010/09/25
光硬化性蛍光レジストによる光ナノインプリントプロセスでの成型不良の発生機構の解明

小林敬, 久保祥一, 松井真二, 中川勝

平成22年度化学系学協会東北大会　2010/09/25
Study of antisticking molecular layers showing low adhesive forces and high durability to UV-cured resin for UV nanoimprint International-presentation

Ayako Endo, Kei Kobayashi, Masaru Nakagawa

ISIMME2010　2010/09/22
UV nanoimprinting of epoxy-based and acrylate-based UV-curable composite resins International-presentation

Shimpei Kudo, Koichi Nagase, Okihiro Sugihara, Masaru Nakagawa

ISIMME2010　2010/09/22
Synthesis of zinc oxide nanocrystals in basic ethanol and methanol solutions International-presentation

Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

ISIMME2010　2010/09/22
UV nanoimprinting and defect inspection using fluorescent resists International-presentation

Masaru Nakagawa, Kei Kobayashi, Shoichi Kubo

ISIMME2010　2010/09/22
塩基性アルコール中における酸化亜鉛ナノロッドの合成および発光特性

久保祥一, 中川勝

第59回高分子討論会　2010/09/15
界面化学結合型熱ナノインプリントリソグラフィにおけるポリ(スチレン）薄膜のレジスト機能

久保祥一, 中川勝

第59回高分子討論会　2010/09/15
表面修飾ZrO2ナノ粒子分散光硬化性樹脂薄膜の光学特性と成形性

工藤進平, 永瀬康一, 久保祥一, 中川勝

第59回高分子討論会　2010/09/15
光ナノインプリント用光硬化性樹脂に対する離型分子層の付着力測定によりはく離特性

遠藤彩子, 小林敬, 松井真二, 中川勝

第59回高分子討論会　2010/09/15
走査型プローブ顕微鏡による離型膜とUVナノインプリントレジストとの付着力評価

岡田真, 岩佐真行, 春山雄一, 神田一浩, 倉本圭, 中川勝, 松井真二

2010年秋季第71回応用物理学会学術講演会　2010/09/14
光ナノインプリントにおける界面機能分子制御

中川勝

2010年秋季第71回応用物理学会学術講演会　2010/09/14
界面化学結合型熱ナノインプリントリソグラフィと電解金めっきによる金パターン形成と光反応性単分子膜による効果

永瀬康一, 大嶽知之, 姜義哲, 久保祥一, 中川勝

2010年秋季第71回応用物理学会学術講演会　2010/09/14
ベンゾフェノン基含有光反応性単分子膜による光硬化樹脂-Siウエハ界面の密着性の向上

小林敬, 栗原正彰, 法元盛久, 松井真二, 中川勝

2010年秋季第71回応用物理学会学術講演会　2010/09/14
UV-NIL用蛍光レジストによるモールド表面への樹脂付着挙動の追跡

小林敬, 久保祥一, 大幸武司, 松井真二, 中川勝

2010年秋季第71回応用物理学会学術講演会　2010/09/14
Semitransparent conductive porous Au thin films prepared by dewetting controlled spincoating of thiol-passivated Au nanoparticle solution International-presentation

Koichi Nagase, Masahiko Kawashima, Masaru Nakagawa

25th European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition (25th EU PVSEC)　2010/09/06
ZrO2ナノ粒子を含むアクリル系およびエポキシ系光硬化性樹脂の光学特性

工藤進平, 杉原興浩, 中川勝

東北支部夏季ゼミ　2010/08/02
光ナノインプリント用光硬化性樹脂に対するフッ素含有離型分子層の付着力測定

遠藤彩子, 鴻野晃洋, 小林敬, 中川勝

東北支部夏季ゼミ　2010/08/02
蛍光レジストによるナノインプリント転写評価 Invited

中川勝

学術振興会第132委員会　2010/07/30
ZrO2ナノ粒子を含むアクリル系およびエポキシ系光硬化性樹脂の屈折率と透明性評価

工藤進平, 永瀬康一, 中川勝, 杉原興浩

高分子学会夏期大学　2010/07/14
光ナノインプリント用光硬化樹脂に対する低付着力離型分子層の探索

遠藤彩子, 鴻野晃洋, 小林敬, 中川勝

高分子学会夏期大学　2010/07/14
界面化学結合型熱ナノインプリントリソグラフィの電解金めっきへの応用

永瀬康一, 久保祥一, 中川勝

高分子学会夏期大学　2010/07/14
光ナノインプリント用蛍光レジスト：樹脂パターン検査技術への応用と離型メカニズムの可視化

小林敬, 久保祥一, 中川勝

高分子学会夏期大学　2010/07/14
ポリ（スチレン）薄膜における金ウエットエッチング水溶液の透過挙動

久保祥一, 中川勝

高分子学会夏期大学　2010/07/14
蛍光レジストによる光ナノインプリントプロセスの可視化

小林敬, 中川勝, 廣島洋, 松井真二

次世代リソグラフィ技術研究会(NGL2010)　2010/07/12
UV nanoimprinting of UV-curable resins containing ZrO2 nanoparticles International-presentation

Shimpei Kudo, Okihiro Sugihara, Masaru Nakagawa

The 3rd Asian Symposium on Nano Imprint Lithography (ASNIL 2010)　2010/06/30
Facile molding of poly(styrene) thin film using plasticizer visualized by fluorescent microscopy International-presentation

Shoichi Kubo, Yuko Sato, Masaru Nakagawa

The 3rd Asian Symposium on Nano Imprint Lithography (ASNIL 2010)　2010/06/30
Mechanical measurement system for detecting adhesion forces generated between UV-cured resin and modified silica surfaces International-presentation

Masaru Nakagawa, Akihiro Kohno, Shinji Matsui

The 3rd Asian Symposium on Nano Imprint Lithography (ASNIL 2010)　2010/06/30
Optical property of UV-cured resins containing surface-modified ZrO2 nanoparticles International-presentation

Shimpei Kudo, Okihiro Sugihara, Masaru Nakagawa

JJPS/NRF 3rd Joint Seminar　2010/06/24
Visualization of UV-nanoimprinted process using fluorescent UV-curable resists International-presentation

Kei Kobayashi, Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

JJPS/NRF 3rd Joint Seminar　2010/06/24
Semitransparent conductive porous Au films on a thiol-containing primer layer formed from Au nanoparticle ink International-presentation

Koichi Nagase, Masahiko Kawashima, Masaru Nakagawa

The 27th International Conference of Photopolymer Science and Technology Materials & Processes for Advanced Microlithography and Nanotechnology (ICPST-27)　2010/06/22
Reactive-monolayer-assisted thermal nanoimprint lithography with benzophenone-containing trimethoxysilane derivative for fabrication of patterned chromium and copper thin films International-presentation

Shoichi Kubo, Tomoyuki Ohtake, Eui-Chul Kang, Masaru Nakagawa

The 27th International Conference of Photopolymer Science and Technology Materials & Processes for Advanced Microlithography and Nanotechnology (ICPST-27)　2010/06/22
Formation of adsorbed monolayer from pentafluorophenyltriethoxysilane and its antisticking property to a UV-curable resin studied by Highly Sensitive UV-visible spectroscopy International-presentation

Sosuke Korenaga, Kei Kobayashi, Akihiro Kohno, Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

The 27th International Conference of Photopolymer Science and Technology Materials & Processes for Advanced Microlithography and Nanotechnology (ICPST-27)　2010/06/22
ナノインプリントリソグラフィにおける光の利用と界面機能分子制御 Invited

中川勝

第49回湘北地区懇話会　2010/06/10
Research and development on process science and CD control in high-throughput UV nanoimprint International-presentation Invited

Shinji Matsui, Hiroshima Hiroshi, Yoshihiko Hirai, Masaru Nakagawa

The 54th International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technologiy and Nanofabrication (EIPBN2010)　2010/06/01
Facile wide-scale defect detection of UV-nanoimprinted resist patterns by fluorescent microscopy International-presentation

Kei Kobayashi, Shoichi Kubo, Shinji Matsui, Masaru Nakagawa

The 54th International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication (EIPBN2010)　2010/06/01
ラジカル系光硬化樹脂に対するフルオロアルキル基含有吸着単分子膜のはく離特性

中川勝, 鴻野晃洋, 月館義隆, 松井真二

第59回高分子年次大会　2010/05/26
ポリ（塩化ジアリルジメチルアンモニウム)修飾シリカ微粒子表面へのFePtナノ粒子の集積化とシリカ微粒子のアルカリ溶出による磁性ソフトシェル微粒子の形成

渕上輝顕, 河村亮, 中川勝, 並木禎尚, 北本仁孝

第59回高分子年次大会　2010/05/26
ポリ(塩化ジアリルジメチルアンモニウム)修飾シリカ微粒子表面へのFePtナノ粒子の集積化と超臨界水熱処理によるFePt網目状微粒子の形成

河村亮, 長瀬有貴, 玉尾有加, 渕上輝顕, 北本仁孝, 並木禎尚, 中川勝

第59回高分子年次大会　2010/05/26
ポリ（スチレン）薄膜の金のウエットエッチングに対するレジスト機能

佐藤祐子, 月館義隆, 久保祥一, 中川勝

第59回高分子年次大会　2010/05/26
界面化学結合型熱ナノインプリントリソグラフィ(IV)ー金の電解析出に対するレジストライン幅の影響ー

永瀬康一, 大嶽知之, 姜義哲, 久保祥一, 中川勝

第59回高分子年次大会　2010/05/26
ナノインプリント密着層および離型層の材料化学 Invited

中川勝

日本化学会ATP（ナノインプリント）　2010/03/26
残膜除去プロセスによるポリ（スチレン）薄膜内部の親水化

久保祥一, 佐藤祐子, 中川勝

2010年春季第57回応用物理学関係連合講演会　2010/03/17
蛍光色素含有高分子による熱ナノインプリント成型時の可塑化効果の可視化

佐藤祐子, 久保祥一, 中川勝

2010年春季第57回応用物理学関係連合講演会　2010/03/17
UV-NIL用蛍光レジストによるモールド表面への樹脂付着の検出

小林敬, 久保祥一, 坂井信支, 松井真二, 中川勝

2010年春季第57回応用物理学関係連合講演会　2010/03/17
高感度紫外可視分光法によるフッ素含有吸着単分子膜への光硬化樹脂の付着の検討

是永宗祐, 鴻野晃洋, 久保祥一, 中川勝

2010年春季第57回応用物理学関係連合講演会　2010/03/17
ナノインプリントリソグラフィにおける界面機能分子制御 Invited

中川勝

平成22年東北ポリマー懇話会　2010/01/22
離型剤の再塗布により改善される光硬化樹脂のはく離

鴻野晃洋, 中川勝

第9回東北大学多元物質科学研究所研究発表会　2009/12/10
UV/オゾン処理によるポリ(スチレン）薄膜のウエットエッチング耐性変化

佐藤祐子, 月館義隆, 久保祥一, 中川勝

第9回東北大学多元物質科学研究所研究発表会　2009/12/10
FePtナノ粒子吸着シリカ微粒子の作製

河村亮, 工藤有希子, 並木禎尚, 中川勝

第9回東北大学多元物質科学研究所研究発表会　2009/12/10
光硬化樹脂のはく離 Invited

中川勝

Semicon Japan　2009/12/02
光ナノインプリント用蛍光レジストII

小林敬, 坂井信支, 松井真二, 中川勝

第18回ポリマー材料フォーラム　2009/11/26
マイクログラビア塗工方式による磁性導電性棒状フィラーを含む光硬化性樹脂薄膜の作製と導電性評価

小林敬, 落合博, 中川勝

第18回ポリマー材料フォーラム　2009/11/26
親油性金ナノ粒子溶液からの多孔塗膜構造とレジスト機能

永瀬康一, 川島政彦, 中川勝

第18回ポリマー材料フォーラム　2009/11/26
界面化学結合型ナノインプリントリソグラフィによる高分子薄膜の成型と金属膜の微細加工 Invited

中川勝

第18回ポリマー材料フォーラム　2009/11/26
ZrO2ナノ粒子分散光硬化性樹脂の作製

工藤進平, 杉原興浩, 中川勝

2009年高分子学会東北支部研究発表会　2009/11/19
熱ナノインプリント用蛍光レジストにおけるドライエッチングの影響

佐藤祐子, 久保祥一, 中川勝

2009年高分子学会東北支部研究発表会　2009/11/19
ペンタフルオロフェニルトリエトキシシランの吸着単分子膜の形成挙動と光硬化性樹脂のはく離特性

是永宗祐, 鴻野晃洋, 久保祥一, 中川勝

2009年高分子学会東北支部研究発表会　2009/11/19
Influence of recoating a silica surface with antisticking layers formed from fluoroalkyl-containing trimethoxysilane derivatives by chemical vapor modification International-presentation

Akihiro Kohno, Nobuji Sakai, Shinji Matsui, Masaru Nakagawa

MNC2009　2009/11/19
Fluorescent UV-curable resists for UV nanoimprint lithography International-presentation

Kei Kobayashi, Nobuji Sakai, Shinji Matsui, Masaru Nakagawa

MNC2009　2009/11/18
Resist properties of poly(methyl methacrylate) and poly(styrene) thin films patterned by thermal nanoimprint lithography for Au electrodeposition International-presentation

Koichi Nagase, Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

MNC2009　2009/11/18
Growth behavior of an adsorbed monolayer from a benzophenone-containing trimethoxysilane derivative on a fused silica surface by chemical vapor surface modification International-presentation

Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

MNC2009　2009/11/17
光硬化性樹脂のはく離に生じる力の測定 Invited

中川勝

MNC2009技術セミナー　2009/11/16
体内深部での利用を目指した磁気装置の開発

並木禎尚, 中川勝, 北本仁孝, 石井由希子

第31回バイオマテリアル学会大会　2009/11/16
がん治療用磁気ドラッグデリバリーシステムへの応用を目指した体内深部に移植可能な磁気照射装置の開発

第47回日本人工臓器学会大会　2009/11/12
金属アレルギーを回避できる癌治療用デバイスの開発−動物モデルを用いた基礎的検討−

並木禎尚, 中川勝, 北本仁孝, 石井由希子

第39回日本皮膚アレルギー・接触皮膚炎学会総会学術大会　2009/11/06
Reactive-monolayer-assisted thermal nanoimprint lithography International-presentation Invited

Masaru Nakagawa

ISIMME2009　2009/10/27
Synthesis of zinc oxide nanorods by simple reaction route in basic ethanol International-presentation

Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

ISIMME2009　2009/10/27
Enhanced durability of antisticking layers formed from fluoroalkyl-containing trimethoxysilane derivatives to UV nanoimprint by repeated chemical vapor surface modification International-presentation

Akihiro Kohno, Masaru Nakagawa

ISIMME2009　2009/10/27
Surface adsorption of oleic acid-passivated FePt nanoparticles on a silica microspheres with a mercaptopropyl surface International-presentation

Ryo Kawamura, Yoshihisa Namiki, Masaru Nakagawa

ISIMME2009　2009/10/27
ナノ粒子分散ハイブリッドポリマーの創製と積層膜応用

杉原興浩, 倉田優生, 戒能俊邦, 中川勝

第58回高分子討論会　2009/09/17
ポリスチレン微粒子とシリカ微粒子表面への表面修飾FePtナノ粒子の吸着挙動

河村亮, 工藤有希子, 中川勝, 北本仁孝, 並木禎尚

第58回高分子討論会　2009/09/17
表面修飾FePtナノ粒子の合成と特性

河村亮, 中川勝, 北本仁孝, 並木禎尚

第58回高分子討論会　2009/09/17
界面化学結合型熱ナノインプリントリソグラフィ(III)−熱ナノインプリント用蛍光レジスト−

佐藤祐子, 永瀬康一, 久保祥一, 中川勝

第58回高分子討論会　2009/09/17
界面化学結合型熱ナノインプリントリソグラフィ（II)−電解めっきによるサブミクロン金パターンの形成−

永瀬康一, 大嶽知之, 高岡利明, 久保祥一, 中川勝

第58回高分子討論会　2009/09/17
界面化学結合型熱ナノインプリントリソグラフィ（I)−和周波発生分光法による単分子膜の光グラフト反応の追跡−

小田博和, 恩田健, 中川勝

第58回高分子討論会　2009/09/17
均一形状の磁性導電性ニッケル棒状フィラーの作製と光実装型異方導電高分子シートへの応用

小林敬, 中川勝

第58回高分子討論会　2009/09/16
離型分子層の高耐久性化へのアプローチ Invited

並木禎尚, 中川勝, 北本仁孝, 石井由希子

2009年秋季第70回応用物理学会学術講演会　2009/09/08
光ナノインプリント用蛍光レジストの開発

Masaru Nakagawa

2009年秋季第70回応用物理学会学術講演会　2009/09/08
光硬化性樹脂の繰り返し剥離における離型剤再塗布の効果

Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

2009年秋季第70回応用物理学会学術講演会　2009/09/08
光ナノインプリントリソグラフィによるレジストパターンの造形

小林敬, 中川勝

第37回東北地区高分子若手研究会夏季ゼミナール　2009/07/30
界面化学結合型熱ナノインプリントリソグラフィによるポリスチレン成型と電解めっきによる金薄膜のマイクロサイズ加工

永瀬康一, 久保祥一, 中川勝

第37回東北地区高分子若手研究会夏季ゼミナール　2009/07/30
光架橋型単分子密着層を特徴とする界面化学結合型熱ナノインプリントリソグラフィ

久保祥一, 小田博和, 中川勝

第37回東北地区高分子若手研究会夏季ゼミナール　2009/07/30
光反応性密着層を特徴とするナノインプリント法 Invited

中川勝

第31回ナノテク部会研究会　2009/07/09
Photo-induced grafit reactions of 4-methoxybenzophenone with thermoplastic polymers designed for reactive-monolayer-assisted thermal nanoimprint lithography

Tomoyuki Ohtake, Toshikaki Takaoka, Hirokazu Oda, Masaru Nakagawa

26th International Conference of Photopolymer Science and Technology (ICPST-26)　2009/07/01
Optical monitoring of a poly8styrene) residual layer on a photocrosslinkable monolayer in thermal nanoimprint lithography

Koichi Nagase, Tomoyuki Ohtake, Toshiaki Takaoka, Shoichi Kubo, Masaru Nakagawa

26th International Conference of Photopolymer Science and Technology (ICPST-26)　2009/07/01
Dewetting photocontrol of poly(styrene) thin films by a photocrosslinkable monolayer in thermal nanoimprint lithography

Hirokazu Oda, Tomoyuki Ohtake, Toshiaki Takaoka, Masaru Nakagawa

26th International Conference of Photopolymer Science and Technology (ICPST-26)　2009/07/01
光反応性吸着単分子膜上におけるポリ（スチレン）薄膜の脱ぬれの光制御

小田博和, 大嶽知之, 高岡利明, 中川勝

第58回高分子年次大会　2009/05/27
マイクログラビア塗工方式による光硬化型異方導電高分子シートの作製

小林敬, 落合博, 中川勝

第58回高分子年次大会　2009/05/27
熱ナノインプリント―電解めっき法によるマイクロ金バンプの作製

永瀬康一, 大嶽知之, 高岡利明, 中川勝

第56回応用物理学関係連合講演会　2009/03/30
樹脂の繰り返し光硬化によるフッ素系シランカップリング剤単分子膜の構造変化

鴻野晃洋, 坂井信支, 松井真二, 中川勝

第56回応用物理学関係連合講演会　2009/03/30
アニールによるF-SAMの構造変化観察

岡田真, 中松健一郎, 姜有志, 春山雄一, 神田一浩, 中川勝, 松井真二

第56回応用物理学関係連合講演会　2009/03/30
ナノインプリントリソグラフィによる金属パターン形成 Invited

中川勝

第5回高分子学会東北地区若手セミナー　2009/03/09
ポリ（スチレン）薄膜の熱ナノインプリント成型における光架橋型吸着膜のパーシャルフィル抑制効果

小田博和, 大嶽知之, 高岡利明, 中川勝

多元物質科学研究所発表会　2008/12/11
無機酸化物ナノ粒子分散ハイブリッド高分子の光学特性と応用

倉田優生, 杉原興浩, 小松京嗣, 中川勝

多元物質科学研究所発表会　2008/12/11
親油性金ナノ粒子溶液からの塗膜形成

永瀬康一, 川島政彦, 中川勝

第17回ポリマー材料フォーラム　2008/11/27
光硬化型異方導電高分子シート(II)

小林敬, 中川勝

第17回ポリマー材料フォーラム　2008/11/27
Photo-curable anisotropic conductive polymer sheet International-presentation

Kei Kobayashi, Masaru Nakagawa

3rd Internal Symposium on Integrated Molecular / Materials Engineering (ISIME2008)　2008/11/07
Optical study on poly(styrene) resist patterns prepared by thermal nanoimprint lithography International-presentation

Koichi Nagase, Masaru Nakagawa

3rd Internal Symposium on Integrated Molecular / Materials Engineering (ISIME2008)　2008/11/07
Thermal nanoimprinting of poly(styrene) and poly(4-vinylpyridine) double-layered thin films and internal-structure visualization by TEM International-presentation Invited

Masaru Nakagawa

3rd Internal Symposium on Integrated Molecular / Materials Engineering (ISIME2008)　2008/11/07
Submicron pattern of a gold thin film by thermal nanoimprint and wet-etching with a photo-crosslinkable thiol-type monolayer International-presentation

Hirokazu Oda, Tomoyuki Ohtake, Toshiaki Takaoka, Masaru Nakagawa

3rd Internal Symposium on Integrated Molecular / Materials Engineering (ISIME2008)　2008/11/06
Thermal nanoimprinting and visualization of poly(styrene) and poly(4-vinylpyridine) double-layered thin films designed for electroless deposition International-presentation

Masaru Nakagawa, Noriyoshi Kamata

21st, International Macroprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2008)　2008/10/29
Profiling of a poly(styrene) residual layer in hot emboss using a mm-scale mold by a reflective thickness monitor International-presentation

Koichi Nagase, Masaru Nakagawa

7th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT08)　2008/10/14
Photo-induced chemisorption of poly(styrene) resist suppressing partial filling in thermal nanoimprint lithography International-presentation

Hirokazu Oda, Tomoyuki Ohtake, Toshiaki Takaoka, Masaru Nakagawa

7th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT08)　2008/10/14

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Industrial Property Rights 90

Method for producing substrate wtih fine projection-and-recess pattern, and substrate with fine projection-and-recess pattern obtained thereby

Masaru Nakagawa, Takuya Uehara, Kazuro Nagase, Hiroaki Ikedo

US 10,613,433 B2

Property Type: Patent
位置合わせ方法、インプリント方法、及びインプリント装置

松原信也, 阿部誠之, 石戸洋太, 久保祥一, 中川勝

特許6669432

Property Type: Patent
微細凹凸パターン付き基板の製造方法

永瀬和郎, 池戸裕明, 中川勝, 上原卓也

特許第6005698号

Property Type: Patent
ナノインプリント用複製モールド

中川勝, 工藤進平, 尹哲民, 永瀬康一, 久保祥一

特許第5879086号

Property Type: Patent
ウエットエッチング用基板及び金属パターンを有する基板の製造方法

大嶽知之, 姜義哲, 中川勝, 久保祥一

特許第5774814号

Property Type: Patent
光硬化樹脂の特性試験装置、その試験装置で使用する保持具、特性試験方法

金田匡規, 中川勝, 鴻野晃洋

特許第5583374号

Property Type: Patent
チオール基含有感紫外線化合物および、その用途

中川勝, 小田博和, 大嶽知之, 高岡利明

特許第5301872号

Property Type: Patent
限外濾過膜およびその製造方法、並びにナノ粒子のサイズ分別方法

中川勝, 多賀谷基博, 古川英光, 彌田智一

特許第4874179号

Property Type: Patent
個体認証用構造体及びその製造方法

安藤雅郎, 山崎裕之, 竹内正樹, 中川勝, 伊東駿也

特許7612178

Property Type: Patent

Holder: 信越化学工業株式会社，国立大学法人東北大学
Structure for Individual Authentication, Method for Producing Thereof, and Individual Authentication Method

Masao Ando, Hiroyuki Yamazaki, Masaki Takeuchi, Masaru Nakagawa, Shunya Ito

US 11,954,546 B2

Property Type: Patent

Holder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Tohoku University
個体認証方法

安藤雅郎, 山崎裕之, 竹内正樹, 中川勝, 伊東駿也

特許7448916

Property Type: Patent

Holder: 信越化学工業株式会社，国立大学法人東北大学
光メタセンシング

商標登録第6747732号

Property Type:
Photonic Meta Sensing

商標登録第6747733号

Property Type:

Holder: デクセリアルズ株式会社，国立大学法人東北大学
光ナノインプリント用硬化性組成物

新田真也, 木津智仁, 中川勝, 伊東駿也

特許第7369786号

Property Type: Patent

Holder: サンアプロ株式会社, 国立大学法人東北大学
電解コンデンサ用電極箔およびその製造方法

壷井祐樹, 中坊徹, 北野匡章, 木村秀基, 白石篤志, 中川勝, 伊東駿也

特許第7313013号

Property Type: Patent
高耐熱性合金ナノ粒子溶液

中村貴宏, 中川勝, 早川俊昭

特許7198548

Property Type: Patent
パターン形成方法、凹凸構造体の製造方法及びレプリカモールドの製造方法

小田博和, 大川泰央, 飯村慶太, 法元盛久, 須向一行, 中川勝

特許7082694

Property Type: Patent
パターン形成方法及び凹凸構造体の製造方法

特許7023391

Property Type: Patent
インプリント装置、インプリント装置の運転方法及びデバイスの製造方法

原巧, 佐藤永治, 木口屋秀成, 中川勝, 鈴木剛人, 佐藤卓広, 草野大

特許6989764

Property Type: Patent
パターン形成方法及び凹凸構造体の製造方法

伊藤公夫, 小田博和, 大川泰央, 法元盛久, 須向一行, 中川勝

特許6940939

Property Type: Patent

Holder: 大日本印刷，国立大学法人東北大学
パターン形成方法、凹凸構造体の製造方法及びレプリカモールドの製造方法

小田博和, 大川泰央, 飯村慶太, 法元盛久, 須向一行, 中川勝

特許6940940

Property Type: Patent

Holder: 大日本印刷，国立大学法人東北大学
インプリント装置、インプリント装置の運転方法及びデバイスの製造方法

原巧, 佐藤永治, 木口屋秀成, 中川勝, 永瀬和郎, 野々田剛

特許6936986

Property Type: Patent

Holder: 旭化成エンジニアリング株式会社, 国立大学法人東北大学, 株式会社ミノグループ
インプリント装置、インプリント装置の運転方法及びデバイスの製造方法

原巧, 佐藤永治, 木口屋秀成, 中川勝, 永瀬和郎, 野々田剛

特許6936985

Property Type: Patent

Holder: 旭化成エンジニアリング株式会社, 国立大学法人東北大学, 株式会社ミノグループ
位置合わせ方法、インプリント方法およびインプリント装置

松原信也, 阿部誠之, 中川勝, 菊地英里

特許6864443

Property Type: Patent

Holder: 旭化成株式会社, 国立大学法人東北大学
発電素子、発電装置、電子機器、及び発電素子の製造方法

安田拓夫, 中川勝, 中村貴宏, 早川俊昭

特許6845521

Property Type: Patent

Holder: 株式会社GCEインスティチュート, 国立大学法人東北大学

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台湾202232875
発電素子、及び発電素子の製造方法

後藤博史, 中川勝, 中村貴宏, 稲秀樹

特許6781437

Property Type: Patent
第一被覆ナノ粒子の製造方法及びコロイド溶液の製造方法

中村貴宏, 中川勝, 後藤博史, 稲秀樹

特許6781438

Property Type: Patent
パターン形成方法及びレプリカモールドの製造方法

法元盛久, 伊藤公夫, 小田博和, 大川泰央, 中川勝

特許6757241

Property Type: Patent
光ナノインプリント用硬化性組成物

白石篤志, 中川勝, 関健斗

特許6723888

Property Type: Patent
電解コンデンサ用電極箔の製造方法

石川康幸, 中坊徹, 久保祥一, 月館義隆, 中川勝

特許6717489

Property Type: Patent
位置合わせ方法、積層体の製造方法、位置合わせ装置、積層体製造装置、及び積層体

中川勝, 原田スバル, 早川俊昭

Property Type: Patent
磁性粒子、及びその製造方法、並びに磁性粒子含有製剤

並木禎尚, 北本仁孝, 渕上輝顕, 河村亮, 中川勝

Property Type: Patent
Pattern Inverting Photocurable Composition, and Method for Producing Electronic Device or Optical Device Using Same

Masaaki Kitano, Masaru Nakagawa, Hiromasa Niinomi

Property Type: Patent
薄膜、半導体電極、光電気化学用電極、薄膜の製造方法、薄膜の製造装置

押切友也, 中川勝, 手塚隆博, 松尾保孝, 石旭

Property Type: Patent
位置合わせ方法、積層体の製造方法、位置合わせ装置、積層体製造装置、および積層体

中川勝, 原田スバル, 早川俊昭

Property Type: Patent
低温修復用の貴金属合金ナノ粒子ろう材 (レーザー合成合金ナノ粒子)

中川勝, 中村貴宏, 早川俊昭

Property Type: Patent
インプリントモールドおよびその製造方法ならびに再生インプリントモールドの製造方法

山崎裕之, 安藤雅郎, 竹内正樹, 中川勝, 伊東駿也

Property Type: Patent
防食コーティング用光硬化性組成物およびその硬化被膜

北野匡章, 木村秀基, 白石篤志, 中川勝, 伊藤駿也, 中坊徹

Property Type: Patent
個体認証用構造体及びその製造方法並びに個体認証方法

安藤雅郎, 山崎裕之, 竹内正樹, 中川勝, 伊東駿也

Property Type: Patent

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台湾202213137 (2022.4.1)
熱可塑性樹脂のアブレーション加工方法

盛田祐輔, 中坊徹, 中川勝, 中村貴宏, 早川俊昭

Property Type: Patent
電解コンデンサ用電極箔の製造方法

石川康幸, 中坊徹, 中川勝

Property Type: Patent
光ナノインプリントのアライメント方法、および基板

中川勝, 早川俊昭

Property Type: Patent
導電膜

柿沼文一, 藤野昌男, 奈良崎亘, 栗原啓田中武, 中川勝, 早川俊昭, 中村貴宏

Property Type: Patent
試験装置および試験方法

柿沼文一, 藤野昌男, 奈良崎亘, 栗原啓田中武, 中川勝, 早川俊昭, 中村貴宏

Property Type: Patent
発電素子

阿部誠之, 石原照也, 中川勝

Property Type: Patent
インプリント印刷装置

野々田剛, 池戸裕明, 中川勝

Property Type: Patent
ウェットエッチング用基板

大嶽知之, 姜義哲, 中川勝, 久保祥一

特許第5782161号

Property Type: Patent
開始剤修飾ナノロッド及びその製造方法、グラフト化ナノロッド及びその製造方法、グラフト化ナノロッド分散液晶、グラフト化ナノロッド分散液晶配向膜、偏光光学素子、並びに、キャップ剤修飾ナノロッド

成田麻美子, 渡辺修, 林田研一, 久保祥一, 田口怜, 中川勝

特許第6091232号

Property Type: Patent
開始剤修飾ナノロッド及びその製造方法、グラフト化ナノロッド及びその製造方法、グラフト化ナノロッド分散液晶、グラフト化ナノロッド分散液晶配向膜、偏光光学素子、並びに、キャップ剤修飾ナノロッド

成田麻美子, 渡辺修, 林田研一, 久保祥一, 田口怜, 中川勝

Property Type: Patent
光硬化物の製造方法

中川勝, 月館義隆, 大幸武司, 三宅弘人

Property Type: Patent
光インプリント方法

中川勝, 伊東駿也, 尹哲民, 大幸武司, 三宅弘人, 湯川隆生

特許第6090732号

Property Type: Patent
金属膜パターン付き基体の製造方法

中川勝, 永瀬康一, 久保祥一

特許第5818252号

Property Type: Patent
レジストパターン形成方法、並びにそれを用いたナノインプリント用モールド、フォトマスク及び半導体デバイスの製造方法

法元盛久, 福田雅治, 河野佑介, 中川勝

特許第5860244号

Property Type: Patent
光硬化物の製造方法

中川勝, 月館義隆, 大幸武司, 三宅弘人

Property Type: Patent
蛍光レジスト組成物および、その用途

大嶽知之, 中川勝, 川島政彦, 高岡利明, 久保祥一

特許第5397941号

Property Type: Patent
電磁波制御材の製造方法、及び電磁波制御材

川島政彦, 中川勝, 大嶽知之, 高岡利明

Property Type: Patent
ナノインプリント成型積層体の検査方法

大嶽知之, 中川勝, 川島政彦, 高岡利明, 久保祥一

Property Type: Patent
金属配線基板の製造方法、及び金属配線基板

川島政彦, 中川勝, 大嶽知之, 高岡利明

Property Type: Patent
透明導電基板の製造方法、及び透明導電基板

川島政彦, 中川勝, 永瀬康一, 大嶽知之, 高岡利明

Property Type: Patent
パターン形成用光硬化性組成物及びこれを用いた膜厚測定方法

坂井信支, 平澤玉乃, 小林敬, 中川勝

Property Type: Patent
太陽電池用基板及び太陽電池用基板の製造方法

中川勝, 川島政彦

Property Type: Patent
光硬化樹脂の特性試験装置、その試験装置で使用する保持具、特性試験方法

金田匡規, 中川勝, 鴻野晃洋

Property Type: Patent
光硬化樹脂の特性試験装置、その試験装置で使用する保持具、特性試験方法

金田匡規, 中川勝, 鴻野晃洋

Property Type: Patent
光硬化樹脂の特性試験装置、その試験装置で使用する保持具、特性試験方法

金田匡規, 中川勝, 鴻野晃洋

Property Type: Patent
光硬化樹脂の特性試験装置、その試験装置で使用する保持具、特性試験方法

金田匡規, 中川勝, 鴻野晃洋

特許第1149103号

Property Type: Patent
金属パターンを有する基板の製造方法、およびその基板

中川勝, 永瀬康一, 大嶽知之, 高岡利明

特許第5196489号

Property Type: Patent
金属線を有する基板及びその製造方法

川島政彦, 中川勝

Property Type: Patent
多孔質膜及びこれを用いた透明電極

川島政彦, 中川勝

特許第5432486号

Property Type: Patent
異方導電性樹脂組成物、異方導電性部材、及びその実装方法、並びに電子機器

中川勝, 小林敬, 長嶋太一, 川崎真一, 落合博

Property Type: Patent
導電性磁性粉体

中川勝, 小田博和

Property Type: Patent
印刷用シリコーン膜及び金属パターン印刷方法

中川勝, 多賀谷基博, 彌田智一

Property Type: Patent
カチオン性ポリマー、カチオン性ポリマー吸着粉体、薄膜被覆粉体及びそれを含む皮膚外用剤

勝山智祐, 秦英夫, 中川勝

特許第4847762号

Property Type: Patent
カチオン性ポリマー

勝山智祐, 秦英夫, 中川勝

Property Type: Patent
金属被覆物、金属配線基板及びそれらの製造方法

中川勝, 鈴木悠二, 名輪希, 彌田智一

Property Type: Patent
高分子微粒子の電荷調整方法，高分子微粒子の分散水溶液，及びその製造方法

中川勝, 岸本洋昭, 長井勝利

Property Type: Patent
導電性中空形状材料および異方導電材料

中川勝, 長嶋太一, 斉藤道雄, 川島真一, 山田光昭, 羽山秀和, 石川雄一, 孫仁徳

Property Type: Patent
共重合体高分子，金属被覆物，金属配線基板

中川勝, 鈴木悠二, 名輪希, 彌田智一

Property Type: Patent
磁性中空材料およびその製造方法

中川勝, 長嶋太一, 斉藤道雄, 川島真一, 村瀬裕明, 山田光昭

Property Type: Patent
第４級アンモニウム塩及びその製造方法

勝山智祐, 秦英夫, 中川勝

Property Type: Patent
シランカップリング剤

中川勝

Property Type: Patent
ブロック共重合体，およびミクロ相分離構造膜の製造方法

彌田智一, 田顔清, 孔祥興, 渡辺一史, 阿部二朗, 中川勝, 植草貴行

特許第3979470号

Property Type: Patent
新規両性化合物およびその分子集合体

中川勝, 青木健一, 関隆広, 市村國宏, 小野沢孝, 太原研二

Property Type: Patent
メソ組織体の製造方法

関隆広, 中川勝, 川島康裕

特許第3748541号

Property Type: Patent
高分子グラフト基板製造方法

中川勝, 市村國宏

特許第4020247号

Property Type: Patent
中空形状物及びその製造方法

中川勝, 関隆広, 市村國宏

特許第3533402号

Property Type: Patent
金属配線基板および金属配線基板の製造方法

中川勝, 市村國宏

Property Type: Patent
インプリントモールドおよびその製造方法ならびに再生インプリントモールドの製造方法

山崎裕之, 安藤雅郎, 竹内正樹, 中川勝, 伊東駿也

Property Type: Patent
光硬化物の製造方法

中川勝, 月館義隆, 大幸武司, 三宅弘人

Property Type: Patent
磁性粒子、及びその製造方法、並びに磁性粒子含有製剤

並木禎尚, 北本仁孝, 渕上輝顕, 河村亮, 中川勝

特許第5526156号

Property Type: Patent
パターン形成用光硬化性組成物及びこれを用いた膜厚測定方法

坂井信支, 平澤玉乃, 小林敬, 中川勝

Property Type: Patent

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Research Projects 18

ナノインプリントにおける１０ナノメートル以下の超高精度位置合わせ技術の開発

中川勝

Offer Organization: 中小企業庁

System: 中小企業政策推進事業費補助金（成長型中小企業等研究開発支援事業）

Institution: 明昌機工株式会社・東北大学

2023/08 - 2026/03
モノマー超薄膜の光重合とナノスケールでの力学物性の均一化 Competitive

中川勝

Offer Organization: 日本学術振興会

System: Grant-in-Aid for Scientific Research

Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (B)

Institution: Tohoku University

2015/04 - 2019/03

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This study demonstrated that the increase in monomer viscosity was induced in nano-gaps between unmodified and modified fused silica surfaces. The states of ultrathin films, in which the monomer viscosity increased in comparison with bulk, were changed by chemical structures of monomers and surface modifiers. It was concluded that a new equation instead of Arrhenius-Andrade-Eyring in the field of Surface Science was needed on the basis of Surface Molecular Science. The use of resist materials showing a high consumption rate of photopolymerizable group improved the homogeneousness of nanometer-scale Young modulus in the nanometer-thick resist films, leading to nanometer-scale matters with high size fidelity to resist masks after lithography process involving dry etching processes.
蛍光干渉縞によるsub-10nmアライメント制御技術の創世 Competitive

中川勝

Offer Organization: 日本学術振興会

System: Grant-in-Aid for Scientific Research

Category: Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research

Institution: Tohoku University

2014/04 - 2016/03

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The method of in-liquid optical alignment for adjusting a silica mold position to an underneath silicon substrate in ultraviolet nanoimprinting was studied by fluorescence microscopy using fluorescent UV-curable resins. In conventional reflection-mode optical microscope observation, alignment marks of concave patterns of a silica mold disappeared owing to matching refractive indexes of the resin and silica mold when the mold recesses were completely filled with the fluid resin. In contrast, the alignment marks could be visualized by fluorescence microscopy using the fluorescent resin. The fluorescence detection had the advantage of no need of any surface modification of the silica mold. Several issues were made clear during studies of course alignment with cross bars and fine alignment with interference fringes for achieving sub-10 nm alignment.
ナノインプリントにおけるレジスト残膜の均一化を実現する液状レジンパターン配置印刷技術開発 Competitive

岐阜県産業経済振興センター

Offer Organization: 経済産業省

System: 戦略的基盤技術高度化支援事業（サポイン事業）

2013/09 - 2016/03
超高速ナノインプリントグラフィ技術のプロセス科学と制御技術の開発 Competitive

松井真二

Offer Organization: 科学技術振興機構

System: JST Basic Research Programs (Core Research for Evolutional Science and Technology :CREST)

2008/10 - 2014/03/31
分子エレクトロニクスに資する電極作製技術と機能分子接合 Competitive

中川勝

Offer Organization: 日本学術振興会

System: Grant-in-Aid for Scientific Research

2010/04/01 - 2012/03/31
「強磁性中空骨格をもつ癌血管指向性ナノ粒子の創製」と「生体適合磁石の体内留置」を組み合わせた癌治療ドラッグデリバリーシステムの開発 Competitive

並木禎尚

Offer Organization: 新エネルギー・産業技術総合開発機構

System: The Other Research Programs

2008/06 - 2012/03
超異方性ナノシリンダー構造形成・転写過程のX線散乱-分光同時評価とダイナミクス Competitive

彌田智一

Offer Organization: 日本学術振興会

System: Grant-in-Aid for Scientific Research

2006/04/01 - 2011/03/31
熱ナノインプリント対応金属加工用レジスト高分子薄膜の究明 Competitive

中川勝

Offer Organization: 日本学術振興会

System: Grant-in-Aid for Scientific Research

2008/04 - 2010
微細配線用異方導電高分子シートの開発 Competitive

中川勝

Offer Organization: 新エネルギー・産業技術総合開発機構

System: 産業技術研究助成事業若手研究グラント

2005/07 - 2008/06
垂直配向ナノ相分離構造の創製と転写ナノ金属化材料 Competitive

彌田智一

Offer Organization: 日本学術振興会

System: Grant-in-Aid for Scientific Research

2003/04/01 - 2006/03/31
ポジ型感光性高分子の界面吸着膜による環境低負荷型金属配線基板の開発 Competitive

中川勝

Offer Organization: 日本学術振興会

System: Grant-in-Aid for Scientific Research

2002/04/01 - 2005/03/31
レドックス機能共役分子の動的ナノ組織化と電子構造制御 Competitive

彌田智一

Offer Organization: 日本学術振興会

System: Grant-in-Aid for Scientific Research

2002/04/01 - 2004/03/31
ブロック共重合体のミクロ相分離を利用した電子・イオンチェンネルの作製 Competitive

彌田智一

Offer Organization: 日本学術振興会

System: Grant-in-Aid for Scientific Research

2002/04/01 - 2003/03/31
パターン化単分子膜上での界面電荷情報の増幅による選択的な物質補捉 Competitive

中川勝

Offer Organization: 日本学術振興会

System: Grant-in-Aid for Scientific Research

2001/04/01 - 2003/03/31
界面吸着分子の光重合反応を利用したナノ・マイクロパターン化単分子膜の作製 Competitive

中川勝

Offer Organization: 日本学術振興会

System: Grant-in-Aid for Scientific Research

2000/04/01 - 2002/03/31
二次元高分子組織体のフォトメカニカル特性 Competitive

関隆宏

Offer Organization: 日本学術振興会

System: Grant-in-Aid for Scientific Research

1997/04/01 - 1998/03/31
高分子表面で規制される色素分子の光化学的な配向制御 Competitive

市村國宏

Offer Organization: 日本学術振興会

System: Grant-in-Aid for Scientific Research

1996/04/01 - 1997/03/31

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Social Activities 7

宮城第一高等学校見学

2020/10/21 - 2020/10/21
次世代の半導体製造技術にイノベーション

2018/06/25 -
KOACHで半導体の世界が変わった

2018/04/10 -
期待のナノインプリントリソグラフィ、現状と今後の課題

2016/08/08 -
東北大と産総研との連携事例-CO2ナノインプリント技術

2016/03 -
先端技術の普及には、KOACHのクリーン環境が欠かせない

2015/07/10 -
ナノインプリントに新風大面積化で用途も拡大

2014/03/17 -

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Media Coverage 18

世界最先端の技術改革を支えるKOACH新たな価値を創造

週刊ダイヤモンド

2018/07/28

Type: Newspaper, magazine
高度な製造環境をつくるクリーンルーム

日刊工業新聞

2017/05/12

Type: Newspaper, magazine
ナノインプリントリソグラフィの現状と今後の課題

JSAP Bulletin

2016/08

Type: Promotional material
東工大など、ナノインプリントでアクリル樹脂に原子サイズの加工に成功

日刊工業新聞

2014/06/16

Type: Newspaper, magazine
半導体ナノロッド基板上に1方向配列

化学工業日報（８面)

2013/05/23

Type: Newspaper, magazine
磁性、導電性制御できるニッケルナノチューブ

化学工業日報

2009/09/19

Type: Newspaper, magazine
プリント基板金属配線幅１／５０の１００ナノ

日本経済新聞（１５面)

2007/09/21

Type: Newspaper, magazine
１００ナノ?の微細に成功感光性単分子膜を塗布

化学工業日報（５面)

2007/09/11

Type: Newspaper, magazine
ナノサイズ金粒子、基板に規則的に配列

日経産業新聞

2005/11/16

Type: Newspaper, magazine
金ナノ粒子、高分子膜透過させてパターン形成

化学工業日報（８面)

2005/11/08

Type: Newspaper, magazine
電気的接合で微細配線（異方導電性フィルム)

化学工業日報（８面)

2005/06/06

Type: Newspaper, magazine
磁性ニッケルナノチューブの開発、リサイクル可能な分子集合体を鋳型に利用

化学と工業（第５８巻、第４号、ｐ４９４)

2005/04/01

Type: Newspaper, magazine
仕事に使える技術の話１７極小のチューブ

プレジデント（ｐ１４８)

2004/12/26

Type: Newspaper, magazine
ニッケルナノチューブ量産

日経産業新聞（１１面)

2004/03/31

Type: Newspaper, magazine
ひらめきの瞬間（そのためにうまれた)

日経サイエンス（裏表紙の前面)

2004/03/25

Type: Newspaper, magazine
２１世紀の気鋭金属で中空繊維

日経産業新聞（７面)

2003/09/18

Type: Newspaper, magazine
単分子膜の感光剤

日経産業新聞（８面)

2003/06/27

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ニッケル電極太さ自在に

日経産業新聞

2002/04/18

Type: Newspaper, magazine

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