研究者詳細

顔写真

シガ　ダイスケ
志賀　大亮
Daisuke Shiga
所属
多元物質科学研究所　無機材料研究部門　ナノ機能物性化学研究分野
職名
助教
学位

  • 博士（理学） （東北大）

e-Rad 研究者番号
00909103
Researcher ID
GVU-7893-2022
プロフィール

Dr. Daisuke Shiga received his Ph.D. in Science from Tohoku University in March 2021 and has been an Assistant Professor of Physical Chemistry at the Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials (IMRAM), Tohoku University, since April 2021. He also serves as an Associate Researcher at the Institute of Materials Structure Science (IMSS), KEK. His research explores strongly correlated oxide thin films and heterostructures through a combination of thin-film synthesis and in situ synchrotron photoemission spectroscopy, with the aim of clarifying interfacial electronic states and the mechanisms underlying metal-insulator transitions. His current interests include electronic phase transitions in correlated oxide systems, charge transfer at oxide interfaces, and interface design guided by spectroscopic data.

無機材料研究部門 ナノ機能物性化学研究分野　〒980-8577 仙台市青葉区片平2-1-1

経歴 2

  • 2022年4月 ～ 継続中
    (兼)東北大理学部　助教

  • 2021年4月 ～ 継続中
    東北大多元研　助教

学歴 5

  • 東北大 院理(化)

    2018年4月 ～ 2021年3月

  • 東北大 院理(物)

    2016年4月 ～ 2018年3月

  • 兵庫県立大 理

    2012年4月 ～ 2016年3月

  • 福島県 相馬高校(理数科)

    2011年4月 ～ 2012年3月

  • 福島 原町高校(普通科)

    2009年4月 ～ 2011年3月

委員歴 3

  • 東北大多元研 多友会　幹事

    2023年 ～ 継続中

  • Frontiers in Materials　Community Reviewer (Thin Solid Films; formerly Review Editor)

    2022年12月 ～ 継続中

  • KEK PF News, 外部編集委員

    2026年4月 ～ 2028年3月

所属学協会 4

  • 応用物理学会

    2017年10月 ～ 継続中

  • 日本放射光学会

    2017年10月 ～ 継続中

  • 日本表面真空学会

    2026年6月 ～ 継続中

  • 日本物理学会

    2016年10月 ～ 継続中

研究キーワード 3

  • 酸化物ヘテロ構造

  • 強相関酸化物

  • 光電子分光

研究分野 1

  • ナノテク・材料 / 薄膜、表面界面物性 / 酸化物エレクトロニクス

受賞 10

  1. 多元物質科学研究奨励賞（東北大 籏野奨学基金）

    2025年9月

  2. JPS Hot Topics (JPSJ)

    2026年2月

  3. 物質・デバイス共同研究賞（物質・デバイス領域共同研究拠点）

    2022年7月

  4. 論文賞（JSAP 薄膜・表面物理分科会）

    2022年3月

  5. 振興会賞（東北大 青葉理学振興会）

    2021年3月

  6. 化学専攻賞（東北大院理）

    2021年3月

  7. 学生奨励賞（量子ビームサイエンスフェスタ）

    2021年3月

  8. 学生発表賞（日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム）

    2021年1月

  9. Editors' Suggestion (PRB)

    2020年9月

  10. 多元物質科学奨励賞（東北大 科学計測振興基金）

    2019年12月

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論文 46

  1. Electronic phase separation and emergence of a nondimerized insulating phase in VO2 (110)R ultrathin films 国際共著

    S. Inoue, D. Shiga, R. Hayasaka, K. Ozawa, A. F. Santander-Syro, H. Kumigashira

    arXiv:2608.29116　2026年9月1日

    DOI： 10.48550/arXiv.2608.29116 　

  2. Solid-phase epitaxial synthesis of V2O3 films with robust metal-insulator transition under H2atmosphere 国際誌 査読有り

    K. Yoshimatsu, D. Shiga, H. Kumigashira

    Phys. Rev. Mater. (to be published)　2026年8月21日

  3. Role of barrier layer to prevent inherent charge transfer in oxide heterostructures 国際誌 査読有り

    R. Hayasaka, Y. Masutake, S. Inoue, D. Shiga, K. Ozawa, H. Kumigashira

    APL Mater.　14　071101　2026年7月1日

    出版者・発行元：

    DOI： 10.1063/5.0336589 　

    ISSN：2637-6113

    eISSN：2166-532X

  4. Interface-induced collective phase transition in VO2-based bilayers studied by layer selective spectroscopy 国際誌 国際共著 査読有り

    D. Shiga, S. Inoue, T. Kanda, N. Hasegawa, M. Kitamura, K. Horiba, K. Yoshimatsu, A. F. Santander-Syro, H. Kumigashira

    Sci. Rep.　15　36743　2025年10月21日

    出版者・発行元： Springer Science and Business Media LLC

    DOI： 10.1038/s41598-025-20752-w 　

    eISSN：2045-2322

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    Abstract We investigated the origin of collective electronic phase transitions induced at the heterointerface between monoclinic insulating VO2 and rutile metallic electron-doped VO2 layers using in situ soft X-ray photoemission spectroscopy (PES) and X-ray absorption spectroscopy (XAS) on nanoscale VO2/V0.99W0.01O2 (001) R bilayers. Thanks to the surface sensitivity of PES and XAS, we determined the changes in the electronic structure and V–V dimerization in each constituent layer separately. The layer selective observation of the electronic and crystal structures in the upper VO2 layer of the bilayer indicates that the monoclinic insulating phase VO2 layer undergoes a transition to the rutile metallic phase by forming the heterointerface. Detailed temperature-dependent measurements reveal that the rutile metallic phase VO2 undergoes a transition to the monoclinic insulating phase with a decrease in temperature, as in the case of a VO2 single-layer film. Furthermore, during the temperature-induced phase transition in the VO2 layer, the spectra are well described by an in-plane phase separation of the rutile metallic and monoclinic insulating phases. These results suggest that the interface-induced transition from the monoclinic insulating to the rutile metallic phase in the VO2 layer of bilayers occurs as a collective phase transition derived from the static energy balance between the interfacial energy and the bulk free energies of the constituent layers.

  5. Common anion rule in oxide heterointerfaces: Experimental verification by in situ photoemission spectroscopy 国際誌 査読有り

    R. Hayasaka, T. Kanda, Y. Masutake, D. K. Nguyen, N. Hasegawa, S. Inoue, A. Wada, M. Kitamura, D. Shiga, K. Yoshimatsu, H. Kumigashira

    APL Mater.　12　071111　2024年7月15日

    出版者・発行元： AIP Publishing

    DOI： 10.1063/5.0223269 　

    eISSN：2166-532X

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    The band alignment at the interface is one of the fundamental parameters for designing electronic devices and artificial functional materials. However, there is no firmly established guideline for oxide heterostructures, limiting the functional design of oxide heterostructures. Here, we provide spectral evidence that the band diagram of oxide heterointerfaces is well described by the Zhong and Hansmann scheme based on the common anion rule [Z. Zhong and P. Hansmann, Phys. Rev. X 7, 011023 (2017)]. By utilizing the elemental selectivity of Ti 2p–3d resonant photoemission for the Ti 3d state near the Fermi level, we directly visualize the presence or absence of charge transfer from the overlayer films to SrTiO3 in prototypical heterointerfaces of SrVO3/SrTiO3 and SrNbO3/SrTiO3. It is found that the charge transfer occurs in SrNbO3/SrTiO3 but not in SrVO3/SrTiO3, as predicted by the Zhong and Hansmann scheme, indicating that the presence or absence, as well as the sign and amount, of interfacial charge transfer is predicted by this scheme. Our findings provide guidelines for designing and controlling the functionalities in oxide nanostructures.

  6. Electronic phase diagram of Cr-doped VO2 epitaxial films studied by in situ photoemission spectroscopy 国際誌 査読有り

    D. Shiga, X. Cheng, T. T. Kim, T. Kanda, N. Hasegawa, M. Kitamura, K. Yoshimatsu, H. Kumigashira

    Phys. Rev. B　108　045112　2023年7月11日

    出版者・発行元： American Physical Society (APS)

    DOI： 10.1103/physrevb.108.045112 　

    ISSN：2469-9950

    eISSN：2469-9969

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    Through in situ photoemission spectroscopy (PES), we investigated the changes in the electronic structure of Cr-doped VO2 films coherently grown on TiO2 (001) substrates. The electronic phase diagram of CrxV1−xO2 is drawn by a combination of electric and spectroscopic measurements. The phase diagram is similar to that of bulk CrxV1−xO2, while the temperature of metal-insulator transition(TMIT) is significantly suppressed by the epitaxial strain effect. In the range x = 0−0.04, where TMIT remains unchanged as a function of x, the PES spectra show a dramatic change across TMIT, demonstrating the characteristic spectral changes associated with the Peierls phenomenon. In contrast, for x > 0.04, the TMIT linearly increases, and the metal-insulator transition (MIT) may disappear at x = 0.08−0.12. The PES spectra at x = 0.08 exhibit pseudogap behavior near the Fermi level, whereas the characteristic temperature-induced change remains almost intact, suggesting the existence of local V-V dimerization. The suppression of V-V dimerization with increasing x was confirmed by polarization-dependent x-ray absorption spectroscopy. These spectroscopic investigations reveal that the energy gap and V 3d states are essentially unchanged with 0 ≤ x ≤ 0.08 despite the suppression of V-V dimerization. The invariance of the energy gap with respect to x suggests that the MIT in CrxV1−xO2 arises primarily from the strong electron correlations, namely, the Peierls-assisted Mott transition. Meanwhile, the pseudogap at x = 0.08 eventually evolves to a full gap (Mott gap) at x = 0.12, which is consistent with the disappearance of the temperature-dependent MIT in the electronic phase diagram. These results demonstrate that a Mott insulating phase without V-V dimerization is stabilized at x > 0.08 as a result of the superiority of Mott instability over the Peierls one.

  7. Quantization condition of strongly correlated electrons in oxide nanostructures 査読有り

    T. Kanda, D. Shiga, A. Wada, R. Hayasaka, Y. Masutake, N. Hasegawa, M. Kitamura, K. Yoshimatsu, H. Kumigashira

    Commun. Mater.　4　27　2023年4月25日

    出版者・発行元： Springer Science and Business Media LLC

    DOI： 10.1038/s43246-023-00354-7 　

    eISSN：2662-4443

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    Abstract Some oxide nanostructures have recently been shown to host quantum well (QW) states that are promising for quantum device applications by designing the wave function of their strongly correlated electrons. However, it is unclear why QW states only appear in certain oxides, limiting the possibilities of wave-function engineering. Here, we demonstrate that the electron mean free path λ is one of the essential conditions to form standing waves of strongly correlated electrons in oxide nanostructures. We have investigated the QW states formed in SrTi1–xVxO3 (STVO) ultrathin films using in situ angle-resolved photoemission spectroscopy. The controllability of λ in STVO while maintaining an atomically flat surface and chemically abrupt interface enables us to examine the evolution of QW states with varying λ. A detailed analysis reveals that the intensity of the QW states is almost linearly correlated to λ and may disappear at the Ioffe–Regel criterion, corresponding to the nearest neighbor inter-vanadium distance in STVO. Our findings provide design guidelines for creating and controlling novel quantum phenomena in oxide nanostructures.

  8. Electronic band structure of Ti2O3 thin films studied by angle-resolved photoemission spectroscopy 査読有り

    N. Hasegawa, K. Yoshimatsu, D. Shiga, T. Kanda, S. Miyazaki, M. Kitamura, K. Horiba, H. Kumigashira

    Phys. Rev. B　105　235137　2022年6月27日

    出版者・発行元： American Physical Society (APS)

    DOI： 10.1103/physrevb.105.235137 　

    ISSN：2469-9950

    eISSN：2469-9969

  9. Resonant tunneling driven metal-insulator transition in double quantum-well structures of strongly correlated oxide 国際誌 査読有り

    R. Yukawa†, M. Kobayashi†, T. Kanda†, D. Shiga†, K. Yoshimatsu, S. Ishibashi, M. Minohara, M. Kitamura, K. Horiba, A. F. Santander-Syro, H. Kumigashira

    Nat. Commun.　12　7070　2021年12月3日

    出版者・発行元： Springer Science and Business Media LLC

    DOI： 10.1038/s41467-021-27327-z 　

    eISSN：2041-1723

  10. Electronic structure of SrTi1−xVxO3 films studied by in situ photoemission spectroscopy: Screening for a transparent electrode material 査読有り

    T. Kanda, D. Shiga, R. Yukawa, N. Hasegawa, D. K. Nguyen, X. Cheng, R. Tokunaga, M. Kitamura, K. Horiba, K. Yoshimatsu, H. Kumigashira

    Phys. Rev. B　104　115121　2021年9月10日

    出版者・発行元： American Physical Society (APS)

    DOI： 10.1103/physrevb.104.115121 　

    ISSN：2469-9950

    eISSN：2469-9969

  11. Thickness dependence of electronic structures in VO2 ultrathin films: Suppression of the cooperative Mott-Peierls transition 国際誌 査読有り

    D. Shiga, B. E. Yang, N. Hasegawa, T. Kanda, R. Tokunaga, K. Yoshimatsu, R. Yukawa, M. Kitamura, K. Horiba, H. Kumigashira

    Phys. Rev. B　102　115114　2020年9月9日

    出版者・発行元： American Physical Society (APS)

    DOI： 10.1103/physrevb.102.115114 　

    ISSN：2469-9950

    eISSN：2469-9969

  12. Emergence of metallic monoclinic states of VO2 films induced by K deposition 国際誌 査読有り

    D. Shiga, M. Minohara, M. Kitamura, R. Yukawa, K. Horiba, H. Kumigashira

    Phys. Rev. B　99　125120　2019年3月14日

    出版者・発行元： American Physical Society (APS)

    DOI： 10.1103/physrevb.99.125120 　

    ISSN：2469-9950

    eISSN：2469-9969

  13. Nature of the Localized V 3d Electrons in Mo- and W-Doped BiVO4 Revealed by Soft X-ray Photoemission and Absorption Spectroscopy 国際誌 査読有り

    H. Honda, M. Yamaguchi, K. Fujinuma, D. Takegami, D. Shiga, H. Kumigashira, O. Yastrubchak, N. L. Saini, T. Mizokawa

    ACS Omega　2026年9月6日

    出版者・発行元： American Chemical Society (ACS)

    DOI： 10.1021/acsomega.6c08706 　

    eISSN：2470-1343

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    Abstract We have investigated the effects of Mo and W doping on BiVO4 by means of X-ray photoemission spectroscopy (XPS) and X-ray absorption spectroscopy (XAS). The V 2p XPS spectra indicate that the substitution of W6+ and Mo6+ for V5+ induces the formation of V4+ species. In addition, the Bi 4f XPS spectra exhibit a minor Bi5+ component, which further contributes to an increase in the V4+ concentration. A V 3d-derived feature emerges at approximately 1.5 eV below the Fermi level and is associated with the enhanced catalytic activity of Mo- and W-doped BiVO4. The center of mass of the V 3d spectral distribution is shifted toward the Fermi level with increasing dopant concentration, suggesting the importance of the long-range d-d Coulomb interaction in determining the electronic structure of the localized V 3d states.

  14. Hierarchy of quantum corrections to resistivity of a γ−Al2O3/SrTiO3 two-dimensional electron gas 国際誌 査読有り

    J. Yang, A. Endo, D. Shiga, H. Konaka, T. Tanaka, M. Hashisaka, H. Kumigashira, M. Lippmaa

    Phys. Rev. B　114　115419　2026年8月27日

    出版者・発行元： American Physical Society (APS)

    DOI： 10.1103/6xfk-zwrl 　

    ISSN：2469-9950

    eISSN：2469-9969

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    A resistance upturn that occurs in SrTiO 3 -based two-dimensional electron gases at low temperatures is often attributed to Kondo scattering of carriers from localized spins. We show that the low-temperature transport behavior of the electron gas that forms at the γ − Al 2 O 3 / SrTiO 3 interface is governed by a whole hierarchy of quantum corrections in addition to the Kondo contribution. Upon cooling, the resistance shows a typical Kondo-like upturn, but then decreases due to weak antilocalization, and finally vanishes at the superconducting transition. When superconductivity is suppressed by applying a magnetic field or by reducing the carrier density, a logarithmic correction due to electron-electron interactions appears at millikelvin temperatures. These results show that the low-temperature resistance behavior cannot be accounted for by a Kondo-only interpretation, but requires consideration of several quantum corrections.

  15. Electronic structure associated with nonsymmorphic nodal lines in rare-earth tetraborides 査読有り

    Y. Kondo, S. Souma, G. Hoshino, A. Homma, T. Osumi, D. Shiga, H. Kumigashira, K. Ozawa, T. Koretsune, K. Segawa, T. Sato

    Phys. Rev. Res. (to be published)　2026年7月24日

    出版者・発行元： American Physical Society (APS)

    DOI： 10.1103/n9xl-chqq 　

    eISSN：2643-1564

  16. Robust topological surface states in skyrmion-host magnets Eu(Ga,Al)4: Evidence for dual topology 国際誌 査読有り

    Y. Arai, K. Nakayama, T. Kato, T. Nakamura, A. Honma, S. Souma, K. Ozawa, K. Tanaka, D. Shiga, H. Kumigashira, Y. Okada, K. Segawa, T. Sato

    Phys. Rev. B　114　L020402　2026年7月7日

    出版者・発行元： American Physical Society (APS)

    DOI： 10.1103/5hbm-g33v 　

    ISSN：2469-9950

    eISSN：2469-9969

  17. Observation of a saddle-loop van Hove singularity 国際誌 査読有り

    Y. Morita, K. Nakayama, N. Ito, T. Kato, T. Nakamura, H. Zhang, X. Tang, T. Lin, K. Yanagizawa, S. Souma, S. Masaki, T. Ikushima, Y. Moriyasu, K. Hagiwara, F. Matsui, K. Tanaka, K. Ozawa, D. Shiga, H. Kumigashira, M. Maeda, Y. Niimi, T. Kida, M. Hagiwara, T. K. Kim, C. Cacho, T. Takahashi, Y. Okada, S. Zhou, T. Koretsune, K. Kudo, T. Sato

    npj Quantum Mater.　2026年6月25日

    出版者・発行元： Springer Science and Business Media LLC

    DOI： 10.1038/s41535-026-00905-4 　

    eISSN：2397-4648

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    Abstract Exploiting electronic singularities to drive emergent quantum phenomena is a key basis in condensed matter physics, yet this powerful strategy has been largely limited to two dimensions, leaving the potential of three-dimensional materials often inaccessible. A “saddle-loop” singularity—a one-dimensional ring of saddle points—has been proposed as a way to extend the concept of van Hove singularities to three-dimensional electron systems, but has remained experimentally elusive. Here, we provide the direct experimental evidence for the saddle‑loop singularity in Pt(Bi 1− x Se x ) 2 , using angle‑resolved photoemission spectroscopy. We also show that the saddle loop is positioned closer to the Fermi level at low x values where the superconducting critical temperature is higher. Furthermore, our advanced theoretical calculations reveal that the saddle loop originates from inter-orbital hybridization, establishing a generalizable design concept. Our findings demonstrate a viable mechanism for realizing singular electronic states in three-dimensional electron systems, providing a platform to investigate correlation-driven phenomena in three dimensions.

  18. Room Temperature Ferromagnetic GdO Epitaxial Thin Film without the Gd2O3 Impurity Phase: Metallic Electronic States and Thickness Dependence of Magnetic and Electrical Properties 国際誌 査読有り

    S. Sasaki, M. Negishi, D. Shiga, H. Kumigashira, T. Fukumura

    ACS Appl. Electron. Mater.　2026年6月22日

    出版者・発行元： American Chemical Society (ACS)

    DOI： 10.1021/acsaelm.6c00672 　

    ISSN：2637-6113

    eISSN：2637-6113

  19. Origin of multiple skyrmion phases in EuAl4 査読有り

    Y. Arai, K. Nakayama, A. Honma, S. Souma, D. Shiga, H. Kumigashira, T. Takahashi, K. Segawa, T. Sato

    Nat. Commun.　17　3162　2026年4月13日

    出版者・発行元： Springer Science and Business Media LLC

    DOI： 10.1038/s41467-026-71020-y 　

    eISSN：2041-1723

  20. Room-temperature perpendicular-anisotropic ferrimagnet Co3Mo mediated by cobalt-kagome flat band 国際誌 査読有り

    K. Ishida, K. Fujiwara, K. Nakazawa, T. Yamazaki, S. Souma, T. Seki, D. Shiga, H. Kumigashira, T. Sato, Y. Motome, A. Tsukazaki

    Commun. Mater.　7　116　2026年3月16日

    出版者・発行元： Springer Science and Business Media LLC

    DOI： 10.1038/s43246-026-01131-y 　

    eISSN：2662-4443

  21. Surface hole–proton mixed conduction of Ti0.99Sc0.01O2−δ thin film with anatase structure 査読有り

    T. Yabuki, A. Maekawa, R. Fujita, R. Kunishi, R. Morizane, K. Yamaguchi, D. Shiga, H. Kumigashira, T. Higuchi

    Jpn. J. Appl. Phys.　65　03SP16　2026年2月11日

    出版者・発行元： IOP Publishing

    DOI： 10.35848/1347-4065/ae3c1f 　

    ISSN：0021-4922

    eISSN：1347-4065

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    Abstract We investigated the structural and electrical properties of an Sc3+-doped TiO2 (Ti0.99Sc0.01O2−δ) thin film with an anatase structure prepared by radio-frequency magnetron sputtering using a ceramic target. A single-phase thin film was prepared at a substrate temperature of 300 °C, and its X-ray diffraction peaks closely matched those of the ceramic. The oxygen vacancy concentration was quantitatively evaluated using photoemission spectroscopy (PES) and defect chemical analysis. The in-plane electrical conductivity exhibited a p-type semiconductor-like behavior with an activation energy of 0.56 eV and a positive Hall coefficient in the temperature range of 30–200 C. The conducting carriers were estimated to be holes and protons based on the Po2 dependence of conductivity, increase in the energy gap, and presence of OH- bond peaks in the O1s-PES spectrum. These results indicated that the Ti0.99Sc0.01O2−δ thin film with an anatase structure had hole–proton mixed conduction on the surface below 200 C.

  22. Oxide-ion conductivity of Ce0.75 Sm0.25O2-δ thin film and its resistive switching function at room temperature 査読有り

    R. Morizane, M. Tsunoda, T. Yabuki, K. Yamaguchi, D. Shiga, H. Kumigashira, T. Higuchi

    Jpn. J. Appl. Phys.　65　03SP15　2026年2月11日

    出版者・発行元： IOP Publishing

    DOI： 10.35848/1347-4065/ae3c20 　

    ISSN：0021-4922

    eISSN：1347-4065

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    Abstract Resistive random-access memory (ReRAM) using oxide thin films is expected to become a neuromorphic computing device. Therefore, electrolyte materials with oxide-ion conductivity in the room-temperature range must be developed urgently to realize advanced ReRAM. Herein, we report the research achievements of oxide-ion conductivities and resistive switching functions at room temperature. Sm3+-doped CeO2 (Ce0.75Sm0.25O2-δ: SDC) thin films with thicknesses of ∼20 and ~200 nm were fabricated on (0001) Al2O3 single-crystal substrates by radio-frequency magnetron sputtering using a ceramic target. The oxygen-vacancy concentrations in the SDC thin films were evaluated quantitatively using X-ray absorption spectroscopy and defect chemical analysis. The oxide-ion conductivities at 400 °C and 25 °C in the SDC thin film was estimated from A.C impedance spectra. The ON/OFF ratio between the low- and high-resistance states of the ReRAM device comprising Ti /SDC/Pt measured at 25 °C was ~11 at ~1 V.

  23. Oxide Superionic Conductivity of a-Axis-Oriented Ce0.75Sm0.25O2−δ Thin Film on Yttria-Stabilized Zirconia Substrate (Editors' Choice) 国際誌 査読有り

    R. Morizane, R. Tabuchi, D. Shiga, H. Kumigashira, T. Higuchi

    J. Phys. Soc. Jpn.　95　014706　2026年1月15日

    出版者・発行元：

    DOI： 10.7566/jpsj.95.014706 　 10.7566/JPSHT.6.006 　

    ISSN：0031-9015

    eISSN：1347-4073

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    Published online: Dec 19, 2025. JPS Hot Topics 6, 006. Selected as the Papers of "Editors’ Choice" by by JPSJ Editorial Board. プレスリリース: 中温域で10−2 S/cmを大きく超える酸化物超イオン伝導体a軸配向SDC電解質膜を開発 ～中温作動型固体酸化物燃料電池への応用に一歩前進～

  24. Dirac-like band dispersion at the pyrite-type CuSe2 (100) surface revealed by soft x-ray angle-resolved photoemission spectroscopy 国際誌 査読有り

    K. Fujinuma, D. Takegami, H. Honda, D. Shiga, H. Kumigashira, R. Higashinaka, T. D. Matsuda, Y. Aoki, M. Hedo, Y. Ōnuki, N. L. Saini, T. Mizokawa

    Phys. Rev. B　112　205416　2025年11月13日

    出版者・発行元： American Physical Society (APS)

    DOI： 10.1103/8dkc-mr3v 　

    ISSN：2469-9950

    eISSN：2469-9969

  25. Oxidation-Induced Giant Resistivity Change Associated with Structural and Electronic Reconstruction in Layered Sr3Cr2O7−δ Epitaxial Thin Films 国際誌 査読有り

    Z. Ma, D. Oka, S. Fukuda, D. Shiga, K. Harata, H. Kumigashira, T. Fukumura

    Chem. Mater.　37　7603　2025年9月30日

    出版者・発行元： American Chemical Society (ACS)

    DOI： 10.1021/acs.chemmater.5c00810 　

    ISSN：0897-4756

    eISSN：1520-5002

  26. Mott insulating state of IrO6 honeycomb monolayer structured in ilmenite-type oxide superlattice 国際誌 査読有り

    M. Negishi, K. Fujiwara, S.-H. Jang, Y.-F. Zhao, S. Sasano, R. Ishikawa, N. Shibata, D. Shiga, H. Kumigashira, Y. Nakamura, H. Kishida, Y. Motome, A. Tsukazaki

    Phys. Rev. Mater.　9　086202　2025年8月12日

    出版者・発行元： American Physical Society (APS)

    DOI： 10.1103/gz4v-8mds 　

    eISSN：2475-9953

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    Quantum magnetism based on the Kitaev honeycomb model has been intensively studied both by theoretical material design and experimental materialization. In contrast to the considerable progress of theoretical modeling and experiments on bulk crystals, it is still difficult to find a candidate material applicable to thin films and devices toward future quantum computation. Here we clearly demonstrate a Mott insulating state of IrO6 honeycomb monolayer structured in ilmenite-type Mg−Ir−O/MgTiO3 superlattices, which is a good candidate of the Kitaev honeycomb magnet applicable to devices. Electronic states detected by photoelectron spectroscopy agree well with those in theoretical band calculations. The stabilized superlattice with the Mott gap state is a promising platform to examine the device physics of the Majorana fermions and the Z2 fluxes in the Kitaev honeycomb model, suggesting the thin-film techniques are quite beneficial for triggering the exploration of quantum computation in designable and evolvable heterostructures.

  27. Out-of-phase plasmon excitations in the trilayer cuprate Bi2⁢Sr2⁢Ca2⁢Cu3⁢O10+𝛿 国際誌 査読有り

    S. Nakata, M. Bejas, J. Okamoto, K. Yamamoto, D. Shiga, R. Takahashi, H. Y. Huang, H. Kumigashira, H. Wadati, J. Miyawaki, S. Ishida, H. Eisaki, A. Fujimori, A. Greco, H. Yamase, D. J. Huang, H. Suzuki

    Phys. Rev. B　111　165141　2025年4月21日

    出版者・発行元： American Physical Society (APS)

    DOI： 10.1103/physrevb.111.165141 　

    ISSN：2469-9950

    eISSN：2469-9969

  28. Large Seebeck coefficient driven by “pudding mold” flat band in hole-doped CuRhO2 国際誌 国際共著 査読有り

    A. J. Thakur, M. Thees, F. Fortuna, E. Frantzeskakis, D. Shiga, H. Kuriyama, M. Nohara, H. Takagi, H. Kumigashira, A. F. Santander-Syro

    Phys. Rev. Mater.　9　L032401　2025年3月24日

    出版者・発行元： American Physical Society (APS)

    DOI： 10.1103/physrevmaterials.9.l032401 　

    eISSN：2475-9953

  29. High surface electron-proton mixed conduction at medium temperature of c-axis oriented BaCe0.7Ru0.1Y0.2O3-δ thin film 国際誌 査読有り

    N. Kaneda, G. Notake, Y. Wang, R. Kaneko, R. Tabuchi, R. Morizane, D. Shiga, H. Kumigashira, T. Higuchi

    Jpn. J. Appl. Phys.　64　02SP30　2025年2月24日

    出版者・発行元： IOP Publishing

    DOI： 10.35848/1347-4065/adb297 　

    ISSN：0021-4922

    eISSN：1347-4065

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    Abstract To realize practical anode electrode film for solid oxide fuel cells (SOFCs) operating at a medium temperature range, we have prepared c-axis oriented BaCe0.7Ru0.1Y0.2O3-d (BCRY) thin films on an MgO (100) substrate by RF magnetron sputtering. The oxygen vacancies concentration was quantitatively evaluated by X-ray absorption spectroscopy and defect chemical analysis. Proton conductivity was proven from the O 1s photoemission spectrum showing an OH- peak formed on the oxygen ion sites. Electron conductivity was proven from small density-of-state at the Fermi level (EF) and the energy difference between the top of the valence band and the EF, which is close to the activation energy of the conductivity. The wet-annealed BCRY thin film, which exhibit surface electron-proton mixed conductivity of more than 10-3 S/cm at 300 °C, can be applied as a practical anode electrode film with high chemical reaction for SOFC operating in the medium temperature range.

  30. Resistive control of b-axis oriented VO2 thin film by lithium ions diffusion from LiCoO2 buffer layer 国際誌 査読有り

    R. Kaneko, T. Yamada, R. Morizane, N. Kaneda, R. Tabuchi, G. Notake, D. Shiga, H. Kumigashira, T. Higuchi

    Jpn. J. Appl. Phys.　64　02SP28　2025年2月18日

    出版者・発行元： IOP Publishing

    DOI： 10.35848/1347-4065/adaf1e 　

    ISSN：0021-4922

    eISSN：1347-4065

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    Abstract Vanadium dioxide VO2 thin films can be applied as electrolyte of electric double layer transistor or positive electrode for all-solid-state lithium-ions batteries. In order to verify the charge behavior between the Li+ ion conductor LiCoO2 and VO2, we have investigated the electrical conductivity and electronic structure of b-axis oriented VO2/LiCoO2 multilayer film prepared on Al2O3 (0001) substrates by RF magnetron sputtering. The amount of excess oxygen in the VO2/LiCoO2 multilayer film was evaluated to be ~22.5% by X-ray photoemission spectroscopy. The electrical resistivity of the multilayer film increases with temperature from 290 to 330K, and decreases reversibly above 330K, indicating the Li+ ion conduction. The electron correlation energy of the VO2/LiCoO2 multilayer and VO2 thin film are ~3.4 eV and ~2.4 eV, respectively. These results indicate that the carrier number of the VO2 thin film can control by diffusion of Li+ ions from LiCoO2 buffer layer.

  31. Rocksalt-type heavy rare earth monoxides TbO, DyO, and ErO exhibiting metallic electronic states and ferromagnetism 国際誌 査読有り

    S. Sasaki, D. Oka, D. Shiga, R. Takahashi, S. Nakata, K. Harata, Y. Yamasaki, M. Kitamura, H. Nakao, H. Wadati, H. Kumigashira, T. Fukumura

    Dalton Trans.　54　1521　2025年1月28日

    出版者・発行元：

    DOI： 10.1039/d4dt03214d 　

    ISSN：1477-9226

    eISSN：1477-9234

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    Rocksalt-type heavy rare earth monoxides REOs (RE = Tb, Dy, Er) were synthesized as single phase epitaxial thin films for the first time. They exhibited metallic electronic states and a much higher TC than the corresponding rare earth nitrides. First published: Dec 9, 2024.

  32. Surface terminations control charge transfer from bulk to surface states in topological insulators 国際誌 査読有り

    K. Fukumoto, S. Lee, S. Adachi, Y. Suzuki, K. Kusakabe, R. Yamamoto, M. Kitatani, K. Ishida, Y. Nakagawa, M. Merkel, D. Shiga, H. Kumigashira

    Sci. Rep.　14　10537　2024年5月8日

    出版者・発行元： Springer Science and Business Media LLC

    DOI： 10.1038/s41598-024-61172-6 　

    eISSN：2045-2322

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    Abstract Topological insulators (TI) hold significant potential for various electronic and optoelectronic devices that rely on the Dirac surface state (DSS), including spintronic and thermoelectric devices, as well as terahertz detectors. The behavior of electrons within the DSS plays a pivotal role in the performance of such devices. It is expected that DSS appear on a surface of three dimensional(3D) TI by mechanical exfoliation. However, it is not always the case that the surface terminating atomic configuration and corresponding band structures are homogeneous. In order to investigate the impact of surface terminating atomic configurations on electron dynamics, we meticulously examined the electron dynamics at the exfoliated surface of a crystalline 3D TI (Bi$$_2$$Se$$_3$$) with time, space, and energy resolutions. Based on our comprehensive band structure calculations, we found that on one of the Se-terminated surfaces, DSS is located within the bulk band gap, with no other surface states manifesting within this region. On this particular surface, photoexcited electrons within the conduction band effectively relax towards DSS and tend to linger at the Dirac point for extended periods of time. It is worth emphasizing that these distinct characteristics of DSS are exclusively observed on this particular surface.

  33. Electronic Properties of Chiral IrGe4 Studied by Angle Resolved Photoemission Spectroscopy and Band Structure Calculation 国際誌 査読有り

    G. Hayashi, T. Shimaiwa, M. Okawa, N. Nakamura, R. Higashinaka, T. D. Matsuda, Y. Aoki, M. Kitamura, D. Shiga, H. Kumigashira, M. Kopciuszynski, A. Barinov, N. L. Saini, T. Mizokawa

    J. Phys. Soc. Jpn.　93　014702　2024年1月12日

    出版者・発行元： Physical Society of Japan

    DOI： 10.7566/jpsj.93.014702 　

    ISSN：0031-9015

    eISSN：1347-4073

  34. Large Perpendicular Magnetic Anisotropy Induced by an Intersite Charge Transfer in Strained EuVO2H Films 国際誌 査読有り

    M. Namba, H. Takatsu, R. Mikita, Y. Sijia, K. Murayama, H.-B. Li, R. Terada, C. Tassel, H. Ubukata, M. Ochi, R. Saez-Puche, E. P. Latasa, N. Ishimatsu, D. Shiga, H. Kumigashira, K. Kinjo, S. Kitagawa, K. Ishida, T. Terashima, K. Fujita, T. Mashiko, K. Yanagisawa, K. Kimoto, H. Kageyama

    J. Am. Chem. Soc.　145　21807　2023年9月28日

    出版者・発行元： American Chemical Society (ACS)

    DOI： 10.1021/jacs.3c04521 　

    ISSN：0002-7863

    eISSN：1520-5126

  35. Thickness-dependent magnetotransport properties of rocksalt NdO epitaxial thin films: observation of a ferromagnetic phase far above the Curie temperature 国際誌 査読有り

    D. Saito, D. Oka, K. Kaminaga, M. Kitamura, D. Shiga, H. Kumigashira, T. Fukumura

    J. Mater. Chem. C　11　12400　2023年8月22日

    出版者・発行元： Royal Society of Chemistry (RSC)

    DOI： 10.1039/d3tc02478d 　

    ISSN：2050-7526

    eISSN：2050-7534

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    A weak ferromagnetic phase was observed far above the TC in NdO thin film.

  36. Electronic structure reconstruction by trimer formation in CsW2O6 studied by x-ray photoelectron spectroscopy 国際誌 査読有り

    R. Nakamura, D. Takegami, A. Melendez-Sans, L. H. Tjeng, M. Okawa, T. Miyoshino, N. L. Saini, M. Kitamura, D. Shiga, H. Kumigashira, M. Yoshimura, K.-D. Tsuei, Y. Okamoto, T. Mizokawa

    Phys. Rev. B　106　195104　2022年11月2日

    出版者・発行元： American Physical Society (APS)

    DOI： 10.1103/physrevb.106.195104 　

    ISSN：2469-9950

    eISSN：2469-9969

  37. Rocksalt CeO epitaxial thin film as a heavy-fermion system transiting from p-type metal to partially compensated n-type metal by 4f delocalization 査読有り

    N. Abe, D. Oka, K. Kaminaga, D. Shiga, D. Saito, T. Yamamoto, N. Kimura, H. Kumigashira, T. Fukumura

    Phys. Rev. B　106　125106　2022年9月6日

    出版者・発行元： American Physical Society (APS)

    DOI： 10.1103/physrevb.106.125106 　

    ISSN：2469-9950

    eISSN：2469-9969

  38. Surface proton conduction below 100°C of Ce0.80Sm0.20O2-δ thin film with oxygen vacancies 査読有り

    G. Notake, D. Nishioka, H. Murasawa, M. Takayanagi, Y. Fukushima, H. Ito, T. Takada, D. Shiga, M. Kitamura, H. Kumigashira, T. Higuchi

    Jpn. J. Appl. Phys.　61　SD1017　2022年4月20日

    出版者・発行元： IOP Publishing

    DOI： 10.35848/1347-4065/ac4feb 　

    ISSN：0021-4922

    eISSN：1347-4065

  39. Rocksalt-type PrO epitaxial thin film as a weak ferromagnetic Kondo lattice 査読有り

    H. Shimizu, D. Oka, K. Kaminaga, D. Saito, T. Yamamoto, N. Abe, N. Kimura, D. Shiga, H. Kumigashira, T. Fukumura

    Phys. Rev. B　105　014442　2022年1月31日

    出版者・発行元： American Physical Society (APS)

    DOI： 10.1103/physrevb.105.014442 　

    ISSN：2469-9950

    eISSN：2469-9969

  40. Room-Temperature Preparation of Ta Ions-Containing Ionic Liquid and its Vapor Deposition toward Ta-Oxide Film Coating 査読有り

    N. Hozuki, K. Kaminaga, S. Maruyama, D. Shiga, H. Kumigashira, H. Takato, M. Kondo, Y. Matsumoto

    J. Electrochem. Soc.　169　013504　2022年1月27日

    出版者・発行元： The Electrochemical Society

    DOI： 10.1149/1945-7111/ac48c5 　

    ISSN：0013-4651

    eISSN：1945-7111

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    <title>Abstract</title> Ta ions-containing solutions, which are brown in color with no precipitation, were successfully prepared through an electroelution process with ionic liquid (IL). An as-delivered Ta metal plate covered with a passivation oxide film could be easily eluted even at room temperature by simply applying an anodic potential of, e.g. +2.2 V vs. Ag in [Bmim][PF6] IL. According to the quantity of electric charge required for oxidation of Ta, most Ta ions in the IL were suggested to be in an oxidation state of +5, which was also confirmed by x-ray photoemission spectroscopy (XPS). Ta ions in IL were found to thermally evaporate together with IL molecules by heating in a vacuum, forming a deposit of the Ta ions-containing IL on a substrate. The Ta concentrations in the deposits were reduced uniquely by about one order of magnitude from those in the original bulk source through the evaporation process under the present conditions. Furthermore, a possibility of the formation of thin film-like Ta oxide from such a Ta ions-containing IL deposit and its bulk droplet prepared on substrates by annealing in air at 1000oC will be discussed.

  41. Surface Electron–Ion Mixed Conduction of BaTiO3−δ Thin Film with Oxygen Vacancies 査読有り

    T. Takada, T. Fujita, T. Imagawa, E. Yamamoto, J. Kano, D. Shiga, K. Horiba, H. Kumigashira, T. Higuchi

    J. Phys. Soc. Jpn.　90　(1)　014707　2021年1月15日

    出版者・発行元： Physical Society of Japan

    DOI： 10.7566/jpsj.90.014707 　

    ISSN：0031-9015

    eISSN：1347-4073

  42. Molecular beam epitaxy growth of the highly conductive oxide SrMoO3 査読有り

    H. Takatsu, N. Yamashina, D. Shiga, R. Yukawa, K. Horiba, H. Kumigashira, T. Terashima, H. Kageyama

    J. Cryst. Growth　543　125685　2020年8月

    出版者・発行元： Elsevier BV

    DOI： 10.1016/j.jcrysgro.2020.125685 　

    ISSN：0022-0248

  43. Insulator-to-Metal Transition of Cr2O3 Thin Films via Isovalent Ru3+ Substitution 査読有り

    K. Fujiwara, M. Kitamura, D. Shiga, Y. Niwa, K. Horiba, T. Nojima, H. Ohta, H. Kumigashira, A. Tsukazaki

    Chem. Mater.　32　5272　2020年6月23日

    出版者・発行元： American Chemical Society (ACS)

    DOI： 10.1021/acs.chemmater.0c01497 　

    ISSN：0897-4756

    eISSN：1520-5002

  44. Electronic structure of a (3×3)-ordered silicon layer on Al(111) 査読有り

    Y. Sato, Y. Fukaya, M. Cameau, A. K. Kundu, D. Shiga, R. Yukawa, K. Horiba, C.-H. Chen, A. Huang, H.-T. Jeng, T. Ozaki, H. Kumigashira, M. Niibe, I. Matsuda

    Phys. Rev. Mater.　4　(6)　064005　2020年6月15日

    出版者・発行元： American Physical Society (APS)

    DOI： 10.1103/physrevmaterials.4.064005 　

    eISSN：2475-9953

  45. Relationship between charge redistribution and ferromagnetism at the heterointerface between the perovskite oxides LaNiO3 and LaMnO3 査読有り

    M. Kitamura, M. Kobayashi, E. Sakai, M. Minohara, R. Yukawa, D. Shiga, K. Amemiya, Y. Nonaka, G. Shibata, A. Fujimori, H. Fujioka, K. Horiba, H. Kumigashira

    Phys. Rev. B　100　245132　2019年12月19日

    出版者・発行元： American Physical Society (APS)

    DOI： 10.1103/physrevb.100.245132 　

    ISSN：2469-9950

    eISSN：2469-9969

  46. Control of two-dimensional electronic states at anatase TiO2(001) surface by K adsorption 査読有り

    R. Yukawa, M. Minohara, D. Shiga, M. Kitamura, T. Mitsuhashi, M. Kobayashi, K. Horiba, H. Kumigashira

    Phys. Rev. B　97　165428　2018年4月23日

    出版者・発行元： American Physical Society (APS)

    DOI： 10.1103/physrevb.97.165428 　

    ISSN：2469-9950

    eISSN：2469-9969

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MISC 13

  1. Interface-Induced Collective Phase Transition in VO2-Based Bilayers Revealed by Layer-Selective Spectroscopy 国際共著

    D. Shiga, S. Inoue, T. Kanda, N. Hasegawa, M. Kitamura, K. Horiba, K. Yoshimatsu, A. F. Santander-Syro, H. Kumigashira

    PF Highlights '25　2026年

  2. Common Anion Rule: A Fundamental Principle for Charge Transfer at Oxide Heterointerfaces

    R. Hayasaka, T. Kanda, Y. Masutake, D. K. Nguyen, N. Hasegawa, S. Inoue, A. Wada, M. Kitamura, D. Shiga, K. Yoshimatsu, H. Kumigashira

    PF Highlights '24　2025年12月

  3. Formation Condition of Quantum Well States in Oxide Nanostructures

    T. Kanda, D. Shiga, A. Wada, R. Hayasaka, Y. Masutake, N. Hasegawa, M. Kitamura, K. Yoshimatsu, H. Kumigashira

    PF Highlights '23　2024年11月

  4. 放射光電子分光を用いた強相関透明素子の電子状態に関する研究

    神田龍彦, 志賀大亮, 湯川龍, 北村未歩, 堀場弘司, 吉松公平, 組頭広志

    PF News　42　(3)　21　2024年11月

  5. Demonstration of Metal–Insulator Transition Induced by Resonant Tunneling in Double Quantum Well Structures of Strongly Correlated Oxides

    R. Yukawa, M. Kobayashi, T. Kanda, D. Shiga, K. Yoshimatsu, S. Ishibashi, M. Minohara, M. Kitamura, K. Horiba, A. F. Santander-Syro, H. Kumigashira

    PF Highlights '21　2022年11月

  6. Thickness Dependence of Electronic and Crystal Structures in VO2 Ultrathin Films

    D. Shiga, B. E. Yang, N. Hasegawa, T. Kanda, R. Tokunaga, K. Yoshimatsu, R. Yukawa, M. Kitamura, K. Horiba, H. Kumigashira

    PF Highlights '20　16　2021年11月

  7. バナジウム酸化物デバイス界面に出現する新たな電子相に関する研究

    志賀大亮, 簔原誠人, 吉松公平, 湯川龍, 北村未歩, 堀場弘司, 組頭広志

    PF News　39　(2)　20　2021年8月

  8. VO2極薄膜における電子・結晶構造の膜厚依存性

    志賀大亮, 楊以理, 長谷川直人, 神田龍彦, 德永凌祐, 吉松公平, 湯川龍, 北村未歩, 堀場弘司, 組頭広志

    放射光　34　(2)　86　2021年3月

  9. Emergence of metallic monoclinic states in electron-doped VO2 films

    D. Shiga, H. Kumigashira

    '2019 at KEK: Annual Report'　58　2020年12月

  10. Emergence of Metallic Monoclinic States of Electron-Doped VO2 Films

    D. Shiga, M. Minohara, M. Kitamura, R. Yukawa, K. Horiba, H. Kumigashira

    PF Highlights '18　18　2019年10月

  11. K蒸着によるVO2薄膜の金属–絶縁体転移制御: III. 単斜晶系金属相の出現

    志賀大亮, 簔原誠人, 北村未歩, 湯川龍, 堀場弘司, 組頭広志

    Photon Factory Activity Report　36　36　2019年4月

  12. K蒸着によるVO2薄膜の金属–絶縁体転移制御II

    志賀大亮, 簔原誠人, 北村未歩, 湯川龍, 堀場弘司, 組頭広志

    Photon Factory Activity Report　35　65　2018年5月

  13. K蒸着によるVO2薄膜の金属絶縁体転移制御

    志賀大亮, 簔原誠人, 北村未歩, 湯川龍, 三橋太一, 堀場弘司, 組頭広志

    Photon Factory Activity Report　34　86　2017年6月

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講演・口頭発表等 40

  1. Interface-Induced Collective Phase Transition in VO2-Based Bilayers Studied by Layer Selective Spectroscopy 国際会議 国際共著

    D. Shiga, S. Inoue, T. Kanda, N. Hasegawa, M. Kitamura, K. Horiba, K. Yoshimatsu, A. F. Santander-Syro, H. Kumigashira

    32nd International Workshop on Oxide Electronics　2026年9月28日

  2. Layer-selective observation of interface-induced phase transition in VO2/W:VO2 bilayers via in situ soft-x-ray photoemission spectroscopy 国際共著

    D. Shiga, S. Inoue, T. Kanda, N. Hasegawa, M. Kitamura, K. Horiba, K. Yoshimatsu, A. F. Santander-Syro, H. Kumigashira

    Annual Meeting of the Japan Society of Vacuum and Surface Science　2026年9月15日

  3. Layer-Selective Observation of Collective Phase Transition in VO2-Based Heterostructures by in situ Photoemission Spectroscopy 国際会議

    D. Shiga, S. Inoue, T. Kanda, N. Hasegawa, M. Kitamura, K. Horiba, K. Yoshimatsu, A. F. Santander-Syro, H. Kumigashira

    Materials Research Meeting '25　2025年12月11日

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    This work was partly supported by the Hatano Foundation (20th IMRAM Materials Science Research Encouragement Award).

  4. 光電子分光によるバナジウム酸化物二層構造の電子相転移に関する研究 招待有り

    志賀大亮

    ナノテラスARPES若手シンポジウム　2025年3月21日

  5. Photoemission Study on VO2-Based Bilayer Structures 招待有り

    D. Shiga

    Joint Meeting of the Tohoku Area Chemistry Societies　2024年9月14日

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    会議名: 令和６年度化学系学協会東北大会 主催: 日本化学会東北支部 共催: 日本分光学会東北支部 依頼講演@コロキウム（物理化学） 講演番号: 14G2

  6. VO2極薄膜における電子・結晶構造の膜厚依存性: 協調的モット-パイエルス転移の抑制 招待有り

    志賀大亮, 楊以理, 長谷川直人, 神田龍彦, 德永凌祐, 吉松公平, 湯川龍, 北村未歩, 堀場弘司, 組頭広志

    第69回応用物理学会春季学術講演会　2022年3月23日

  7. Thickness Dependence of Electronic and Crystal Structures in VO2 Ultrathin Films

    D. Shiga, B. E. Yang, N. Hasegawa, T. Kanda, R. Tokunaga, K. Yoshimatsu, R. Yukawa, M. Kitamura, K. Horiba, H. Kumigashira

    Materials Research Meeting '21　2021年12月15日

  8. Novel electronic phase emerging at VO2 device interface 招待有り

    Daisuke SHIGA

    4th Jt. Symp. Taipei Tech–Tohoku Univ.　2021年11月30日

  9. バナジウム酸化物デバイス界面に出現する新たな電子相の解明と制御

    志賀大亮, 楊以理, 長谷川直人, 神田龍彦, 德永凌祐, 吉松公平, 湯川龍, 北村未歩, 堀場弘司, 組頭広志

    2020年度量子ビームサイエンスフェスタ　2021年3月10日

  10. VO2極薄膜における電子・結晶構造の膜厚依存性

    志賀大亮, 楊以理, 長谷川直人, 神田龍彦, 德永凌祐, 吉松公平, 湯川龍, 北村未歩, 堀場弘司, 組頭広志

    第34回日本放射光学会・放射光科学合同シンポジウム　2021年1月9日

  11. VO2極薄膜における電子・結晶構造の膜厚依存性 招待有り

    志賀大亮

    第9回酸化物研究の新機軸に向けた学際討論会　2020年8月7日

  12. Control of the Metal–Insulator Transition in VO2 Thin Films by K Deposition

    D. Shiga, M. Minohara, M. Kitamura, R. Yukawa, K. Horiba, H. Kumigashira

    14th Int. Conf. Atom. Control. Surf. Interface and Nanostruct.　2018年10月23日

  13. 層選択的分光によるVO2二層構造の界面誘起集団相転移に関する研究 招待有り

    志賀大亮

    阪大産研ナノテクセンター 若手セミナー　2026年1月23日

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    大坂大学産業科学研究所ナノテクノロジセンター 2025年度若手セミナー 会場: 阪大（吹田キャンパス）産研 管理棟2階 CReA

  14. VO2/W:VO2ヘテロ構造における相転移の面方位依存性

    井上晴太郎, ○志賀大亮, 早坂亮太朗, T. Tirasu, 渡邉颯彦, 長谷川直人, 小澤健一, 組頭広志

    第39回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム　2026年1月9日

  15. 放射光光電子光による(CrxV1−x)2O3エピタキシャル薄膜の電子状態

    志賀大亮, 西翔平, 井上晴太郎, T. Tirasutt, 早坂亮太朗, 渡邉颯彦, 小澤健一, 吉松公平, 組頭広志

    2024年度量子ビームサイエンスフェスタ　2025年3月13日

  16. 放射光光電子光による(CrxV1−x)2O3エピタキシャル薄膜の電子状態

    志賀大亮, 西翔平, 井上晴太郎, T. Tirasutt, 早坂亮太朗, 渡邉颯彦, 小澤健一, 吉松公平, 組頭広志

    第38回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム　2025年1月11日

  17. Photoemission Study on VO2/V1−xWxO2 Bilayer Structures 国際会議

    D. Shiga, S. Inoue, T. Kanda, N. Hasegawa, M. Kitamura, K. Horiba, K. Yoshimatsu, H. Kumigashira

    The 10th International Symposium on Functional Materials　2024年8月3日

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    P1-12

  18. Electronic Structure of Hole-Doped CrxV1−xO2 Epitaxial Films Studied by in situ Photoemission Spectroscopy 国際会議

    D. Shiga, X. Cheng, T. T. Kim, T. Kanda, N. Hasegawa, M. Kitamura, K. Yoshimatsu, H. Kumigashira

    The International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics and Data Driven Materials Research for Electronics　2024年2月29日

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    The International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics (STAC) - Data Driven Materials Research for Electronics (D2MatE)

  19. Electronic Structure of Hole-Doped CrxV1−xO2 Epitaxial Films Studied by in situ Photoemission Spectroscopy 国際会議

    D. Shiga, X. Cheng, T. T. Kim, T. Kanda, N. Hasegawa, M. Kitamura, K. Yoshimatsu, H. Kumigashira

    The 7th Symposium for The Core Research Clusters for Materials Science and Spintronics　2023年11月28日

  20. Electronic Structure of Hole-Doped CrxV1−xO2 Epitaxial Films Studied by in situ Photoemission Spectroscopy 国際会議

    D. Shiga, X. Cheng, T. T. Kim, T. Kanda, N. Hasegawa, M. Kitamura, K. Yoshimatsu, H. Kumigashira

    29th International Workshop on Oxide Electronics　2023年10月16日

  21. その場放射光電子分光によるCrドープVO2エピタキシャル薄膜の電子相図

    志賀大亮, 程详遴, 金兌炫, 神田龍彦, 長谷川直人, 北村未歩, 吉松公平, 組頭広志

    第70回応用物理学会春季学術講演会　2023年3月15日

  22. 放射光電子分光によるCrxV1−xO2エピタキシャル薄膜の電子状態

    志賀大亮, 程详遴, 金兌炫, 神田龍彦, 長谷川直人, 北村未歩, 吉松公平, 組頭広志

    第83回応用物理学会秋季学術講演会　2022年9月21日

  23. VO2/W:VO2ヘテロ構造における電子相転移の直接観測

    志賀大亮, 神田龍彦, 長谷川直人, 北村未歩, 堀場弘司, 吉松公平, 組頭広志

    第82回応用物理学会秋季学術講演会　2021年9月12日

  24. Thickness dependence of electronic and crystal structures in VO2 ultrathin films

    D. Shiga

    3rd Jt. Symp. Taipei Tech–Tohoku Univ.　2020年11月30日

  25. Thickness dependence of electronic and crystal structures in VO2 ultrathin films

    D. Shiga

    7th KEK Student Day　2020年11月17日

  26. VO2極薄膜における電子・結晶構造の膜厚依存性

    志賀大亮, 楊以理, 長谷川直人, 神田龍彦, 德永凌祐, 吉松公平, 湯川龍, 北村未歩, 堀場弘司, 組頭広志

    第81回応用物理学会秋季学術講演会　2020年9月8日

  27. バナジウム酸化物デバイス界面に出現する新たな電子相の解明と制御

    志賀大亮, 楊以理, 長谷川直人, 神田龍彦, 德永凌祐, 北村未歩, 湯川龍, 吉松公平, 堀場弘司, 組頭広志

    2019年度量子ビームサイエンスフェスタ　2020年3月14日

  28. VO2/TiO2(001)極薄膜における電子状態の膜厚依存性

    志賀大亮, 楊以理, 長谷川直人, 神田龍彦, 德永凌祐, 北村未歩, 湯川龍, 吉松公平, 堀場弘司, 組頭広志

    第67回応用物理学会春季学術講演会　2020年2月28日

  29. Emergence of Metallic Monoclinic States of Electron-Doped VO2 Films

    D. Shiga, M. Minohara, M. Kitamura, R. Yukawa, K. Horiba, H. Kumigashira

    The 3rd Symposium for The Core Research Clusters for Materials Science and Spintronics　2020年2月10日

  30. Emergence of Metallic Monoclinic States of VO2 Films Induced by K Deposition

    D. SHiga, M. Minohara, M. Kitamura, R. Yukawa, K. Horiba, H. Kumigashira

    6th KEK Student Day　2019年11月12日

  31. Emergence of Metallic Monoclinic States of VO2 Films Induced by K Deposition

    D. Shiga, M. Minohara, M. Kitamura, R. Yukawa, K. Horiba, H. Kumigashira

    26th International Workshop on Oxide Electronics　2019年9月30日

  32. Emergence of Metallic Monoclinic States of VO2 Films Induced by K Deposition

    D. Shiga, M. Minohara, M. Kitamura, R. Yukawa, K. Horiba, H. Kumigashira

    The 40th International Conference on Vacuum Ultraviolet and X-ray Physics　2019年7月2日

  33. K蒸着したVO2薄膜における単斜晶系金属相の出現

    志賀大亮, 簔原誠人, 北村未歩, 湯川龍, 堀場弘司, 組頭広志

    第66回応用物理学会春季学術講演会　2019年3月10日

  34. Control of the Metal–Insulator Transition in VO2 Thin Films by K Deposition. II. Detailed Temperature Dependence

    D. Shiga, M. Minohara, M. Kitamura, R. Yukawa, K. Horiba, H. Kumigashira

    5th KEK Student Day　2018年11月13日

  35. K蒸着によるVO2薄膜の金属–絶縁体転移制御

    志賀大亮, 簔原誠人, 北村未歩, 湯川龍, 三橋太一, 堀場弘司, 組頭広志

    第65回応用物理学会春季学術講演会　2018年3月20日

  36. K蒸着によるVO2薄膜の金属–絶縁体転移制御

    志賀大亮, 簔原誠人, 北村未歩, 湯川龍, 三橋太一, 堀場弘司, 組頭広志

    2017年度量子ビームサイエンスフェスタ　2018年3月3日

  37. K蒸着によるVO2薄膜の金属絶縁体転移制御

    志賀大亮, 簔原誠人, 北村未歩, 湯川龍, 三橋太一, 堀場弘司, 組頭広志

    第31回日本放射光学会・放射光科学合同シンポジウム　2018年1月10日

  38. Control of the metal-insulator transition in VO2 thin films by K deposition

    D. Shiga, M. Minohara, M. Kitamura, R. Yukawa, T. Mitsuhashi, K. Horiba, H. Kumigashira

    4th KEK Student Day　2017年10月24日

  39. Control of the metal-insulator transition in VO2 thin films by K deposition

    D. Shiga, M. Minohara, M. Kitamura, R. Yukawa, T. Mitsuhashi, K. Horiba, H. Kumigashira

    24th International Workshop on Oxide Electronics　2017年9月26日

  40. K蒸着によるVO2薄膜の金属絶縁体転移制御

    志賀大亮, 簔原誠人, 三橋太一, 北村未歩, 湯川龍, 堀場弘司, 組頭広志

    日本物理学会第72回年次大会　2017年3月19日

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共同研究・競争的資金等の研究課題 3

  1. ルチル型相転移酸化物の分光データ駆動界面設計

    志賀 大亮

    2026年4月 ～ 2027年3月

  2. 強相関酸化物界面設計に基づく電子・結晶構造相転移の独立制御

    志賀 大亮

    2023年4月 ～ 2027年3月

  3. 強相関酸化物素子界面に誘起される集団的電子相転移の機構解明 競争的資金

    志賀 大亮

    提供機関：Japan Society for the Promotion of Science (JSPS)

    制度名：Grants-in-Aid for Scientific Research

    研究種目：Grant-in-Aid for Research Activity Start-up

    研究機関：Tohoku University

    2021年8月 ～ 2024年3月

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    本研究では、局所的なキャリア濃度変調を施したVO2多層ヘテロ構造の接合界面に誘起される特異なモット転移に伴う電子構造変化を放射光電子分光により直接決定し、素子動作の物理的機構を解明することを目的とする。本質的な情報を得るために、全実験行程を超高真空下で実施可能な「その場放射光電子分光+レーザー分子線エピタキシ」複合装置を用いる。初年度はV4+→W6+化学置換により電子ドープを施したW:VO2/VO2(001)ヘテロ界面、及びその天地反転構造に誘起されるモット転移に伴う電子構造変化、及びその実空間プロファイルを調べた。軟X線電子分光による電子構造局所解析の結果、VO2/W:VO2ヘテロ構造のVO2層では、電子相転移が隣接するW:VO2のものとカップルし、中間電子相の発現を伴うことなく単斜晶系絶縁体-ルチル型金属相転移が誘起されることが明らかになった。この相転移温度近傍を詳細に調べた結果、極小温度窓において、(001)面内に広がる数百マイクロメートルスケールの電子相ドメインが観測された。これらの結果は、VO2/電子ドープVO2二層構造において“構造相境界”が観測結果として示される別のモデルとして、“面内に広がる電子相分離現象を平均情報（実験データの線型結合）として捕捉した可能性”を示唆するものである。 また並行して、Cr3+置換によりホールドープしたVO2ヘテロ構造を作製し、輸送特性評価に基づく電子相図（ホールドープ側）作成にも着手した。

担当経験のある科目(授業) 4

  1. Basic Experiments in Chemistry　AMC Course, Tohoku Univ.

  2. Exercises in Physical Chemistry A　AMC Course, Tohoku Univ.

  3. Laboratory Experiments in Chemistry B　AMC Course, Tohoku Univ. 学部専門科目

  4. Exercises in Physical Chemistry B　AMC Course, Tohoku Univ. 学部専門科目

メディア報道 6

  1. 酸化物界面における「隠れた電荷移動経路」を特定 －従来の半導体物理では考慮されていなかった界面における「化学結合ネットワーク」の重要性を実証－

    東北大・KEK

    2026年7月14日

    メディア報道種別: インターネットメディア

  2. 中温域で10-2 S/cmを大きく超える酸化物超イオン伝導体a軸配向SDC電解質膜を開発 ～中温作動型固体酸化物燃料電池への応用に一歩前進～

    日経新聞

    2026年1月

    メディア報道種別: 新聞・雑誌

    詳細を見る 詳細を閉じる

    2026年1月9日

  3. 東北大と高エネ研、ナノ構造内における強相関電子の量子化条件の特定に成功

    日経新聞

    2023年5月

    メディア報道種別: 新聞・雑誌

    詳細を見る 詳細を閉じる

    エネルギーが連続的なアナログ値から離散的なデジタル値になる量子化は、現代のナノテクノロジーの基本となる現象です。近年、強い電子相関をもつ酸化物においても量子化現象が観測され、この現象を利用した新しい量子物質や量子デバイス創成が期待されています。しかしながら、酸化物中の強相関電子と呼ばれる強く相互作用した電子が量子化するための条件がわかっていませんでした。酸化物の類い希な機能を用いたモットトランジスタなどの設計において、このことが大きな障害となっていました。東北大学多元物質科学研究所の神田龍彦大学院生、志賀大亮助教、吉松公平准教授、組頭広志教授らの研究グループは、高エネルギー加速器研究機構物質構造科学研究所の北村未歩助教（現在は量子科学技術研究開発機構）と共同で、高輝度放射光を用いた角度分解光電子分光という手法を用いて、酸化物における量子化条件を決定することに成功しました。

  4. 東北大と高エネ研、共鳴トンネル効果を用いたモットトランジスタの原理検証に成功

    日経新聞

    2021年12月

    メディア報道種別: 新聞・雑誌

    詳細を見る 詳細を閉じる

    モットトランジスタは、高性能で消費電力の低いトランジスタが実現できることから、次世代デバイスの有力候補として盛んに研究されています。モットトランジスタでは、モット絶縁体における電気を流さない「電子固体」と電気を流す「電子液体」間の電子相転移（モット転移）を利用してOn/Offを切り替えます。しかし、モットトランジスタにおいては、従来広く用いられてきた電界効果型トランジスタ構造ではさまざまな原理的な問題がありました。東北大学多元物質科学研究所の組頭広志教授らの研究グループは、高エネルギー加速器研究機構物質構造科学研究所の湯川龍特任助教（現:大阪大学大学院工学研究科 助教）らと共同で、量子井戸間の共鳴トンネル効果を利用した新しい原理で動作するモットトランジスタを開発しました。

  5. VO2極薄膜における電子・結晶構造の膜厚依存性 執筆者本人

    放射光

    2021年3月

    メディア報道種別: 会誌・広報誌

  6. 東北大と高エネ研、二酸化バナジウムのナノ構造において量子サイズ効果により新しい電子相が生じることを発見

    日経新聞

    2020年9月

    メディア報道種別: 新聞・雑誌

    詳細を見る 詳細を閉じる

    二酸化バナジウム（VO2）は室温付近で巨大な金属・絶縁体転移を示すことから、次世代デバイス材料として盛んに研究されている機能性酸化物の一つです。しかし、VO2の示す金属・絶縁体転移においては、デバイス設計に必須となるナノ領域における振る舞いはよく分かっていませんでした。東北大学多元物質科学研究所の志賀大亮大学院生、吉松公平講師、組頭広志教授らの研究グループは、高エネルギー加速器研究機構 物質構造科学研究所の北村未歩助教、堀場弘司准教授等と共同で、VO2をナノレベルまで薄くすると従来とは異なる新しい電子相が現れることを明らかにしました。

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学術貢献活動 8

  1. Session Chair (87th JSAP Autumn Meeting, Hokkaido)

    2026年9月9日 ～

    学術貢献活動種別: 学会・研究会等

  2. Peer review activities (2026)

    2026年 ～

    学術貢献活動種別: 査読等

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    Reviewed 2 manuscripts for Phys. Rev. Lett. (Jan 16); Inorg. Chem. (Jun 8).

  3. Peer review activities (2025)

    2025年 ～

    学術貢献活動種別: 査読等

    詳細を見る 詳細を閉じる

    Reviewed 2 manuscripts for Mater. Trans. (Sep 16); Nat. Commun. (Nov 7).

  4. Session Chair (85th JSAP Autumn Meeting, Niigata)

    2024年9月17日 ～

    学術貢献活動種別: 学会・研究会等

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    6.3 Oxide Electronics

  5. Peer review activities (2024)

    2024年 ～

    学術貢献活動種別: 査読等

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    Reviewed 2 manuscripts for Thin Solid Films (Sep 24); J. Eur. Opt. Soc.-Rapid Publ. (Nov 11).

  6. Peer review activities (2023)

    2023年 ～

    学術貢献活動種別: 査読等

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    Reviewed 1 manuscript(s) for Phys. Rev. B (May 23).

  7. Session Chair (83rd JSAP Autumn Meeting, Sendai)

    2022年9月21日 ～

    学術貢献活動種別: 学会・研究会等

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    6.3 Oxide Electronics

  8. Peer review activities (2022)

    2022年 ～

    学術貢献活動種別: 査読等

    詳細を見る 詳細を閉じる

    Reviewed 1 manuscript(s) for Sci. Technol. Adv. Mater. (Oct 4).

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